特許5776491フォトマスク用、レチクル用又はナノインプリント用のガラス基板及びその製造方法

発明の名称　フォトマスク用、レチクル用又はナノインプリント用のガラス基板及びその製造方法

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 66 位（367件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（361件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5776491

公報発行日　2015年9月9

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5776491

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-5776491「フォトマスク用、レチクル用又はナノインプリント用のガラス基板及びその製造方法」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録