特許5783312エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法及び気相成長装置

発明の名称　エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法及び気相成長装置

出願人　株式会社ＳＵＭＣＯ　（識別番号 302006854）

　　　　特許公開件数ランキング 660 位（37件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 365 位（72件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5783312

公報発行日　2015年9月24

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5783312

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