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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第673位 35件
(
2024年:第435位 71件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第357位 68件
(
2024年:第402位 73件)
(ランキング更新日:2025年11月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7771899 | 半導体ウェーハの評価方法、半導体ウェーハの製造方法及び半導体ウェーハ | 2025年11月18日 | |
| 特許 7771932 | レーザーマーク付きシリコンウェーハ及びその製造方法 | 2025年11月18日 | |
| 特許 7772142 | ワークの洗浄装置およびワークの洗浄方法 | 2025年11月18日 | |
| 特許 7768054 | シリコンウェーハ及びシリコン単結晶のインゴットの育成方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768072 | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びこれを用いたシリコン単結晶の製造方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768119 | クラスターイオンビームの生成方法及びクラスターイオンの注入方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7768120 | クラスターイオンビームの生成方法及びクラスターイオンの注入方法 | 2025年11月12日 | |
| 特許 7757902 | ウェーハの片面研磨方法、ウェーハの製造方法、およびウェーハの片面研磨装置 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7757903 | ウェーハの片面研磨方法、ウェーハの製造方法、およびウェーハの片面研磨装置 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7757916 | シリコンウェーハおよびエピタキシャルシリコンウェーハ | 2025年10月22日 | |
| 特許 7757917 | シリコンウェーハおよびエピタキシャルシリコンウェーハ | 2025年10月22日 | |
| 特許 7754005 | FZ炉の清浄度測定方法及びこれを用いた単結晶の製造方法及び装置 | 2025年10月15日 | |
| 特許 7748891 | 搬送装置、研磨装置、及び搬送方法 | 2025年10月 3日 | |
| 特許 7748892 | 移載装置、研磨設備、及び移載方法 | 2025年10月 3日 | |
| 特許 7746941 | SOIウェーハ及びその製造方法 | 2025年10月 1日 |
70 件中 1-15 件を表示
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7771899 7771932 7772142 7768054 7768072 7768119 7768120 7757902 7757903 7757916 7757917 7754005 7748891 7748892 7746941
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