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株式会社SUMCO

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  2025年 出願公開件数ランキング    第1206位 4件 下降2024年:第435位 71件)

  2025年 特許取得件数ランキング    第360位 17件 上昇2024年:第402位 73件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7643252 シリコンウェーハの親水性レベルの評価方法 2025年 3月11日
特許 7643608 SOIウェーハ 2025年 3月11日
特許 7639559 ウェーハの外観検査装置及びウェーハの外観検査方法 2025年 3月 5日
特許 7635678 シリコン単結晶の製造方法およびシリコンウェーハの製造方法 2025年 2月26日
特許 7635708 絶縁膜形成装置用トレー、絶縁膜形成装置および絶縁膜形成方法 2025年 2月26日
特許 7634848 ゲルマニウム半導体装置の製造方法及びゲルマニウム半導体装置 2025年 2月25日
特許 7632233 熱遮蔽部材及びその部品セット並びに熱遮蔽部材を用いた単結晶製造装置及び単結晶の製造方法 2025年 2月19日
特許 7632254 ウェーハ端面部の評価方法 2025年 2月19日
特許 7632256 両面研磨装置 2025年 2月19日
特許 7632261 シリコンウェーハ及びその製造方法 2025年 2月19日
特許 7626052 シリコン試料の炭素濃度評価方法、シリコンウェーハ製造工程の評価方法、シリコンウェーハの製造方法およびシリコン単結晶インゴットの製造方法 2025年 2月 4日
特許 7626145 シリコン単結晶の酸素濃度推定方法、シリコン単結晶の製造方法及びシリコン単結晶製造装置 2025年 2月 4日
特許 7626518 貼り合わせウェーハ用の支持基板の製造方法、および貼り合わせウェーハ用の支持基板 2025年 2月 4日
特許 7616004 エピタキシャル成長装置の基板載置位置の偏心量を評価する方法及び当該評価方法を用いたエピタキシャルウェーハの製造方法 2025年 1月17日
特許 7616020 監視方法、監視プログラム、監視装置、ウェーハの製造方法、及びウェーハ 2025年 1月17日

17 件中 1-15 件を表示

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7643252 7643608 7639559 7635678 7635708 7634848 7632233 7632254 7632256 7632261 7626052 7626145 7626518 7616004 7616020

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