特許 5789986 枚葉式ウェーハ洗浄装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5789986

(24)【登録日】2015年8月14日

(45)【発行日】2015年10月7日

(54)【発明の名称】枚葉式ウェーハ洗浄装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20150917BHJP

   H01L 21/683 20060101ALI20150917BHJP

   H01L 21/306 20060101ALI20150917BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/304 643A

   H01L21/68 N

   H01L21/306 J

【請求項の数】6

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2011-4567(P2011-4567)

(22)【出願日】2011年1月13日

(65)【公開番号】特開2012-146835(P2012-146835A)

(43)【公開日】2012年8月2日

【審査請求日】2014年1月9日

(73)【特許権者】

【識別番号】302006854

【氏名又は名称】株式会社ＳＵＭＣＯ

(74)【代理人】

【識別番号】100115738

【弁理士】

【氏名又は名称】鷲頭 光宏

(74)【代理人】

【識別番号】100121681

【弁理士】

【氏名又は名称】緒方 和文

(74)【代理人】

【識別番号】100130982

【弁理士】

【氏名又は名称】黒瀬 泰之

(72)【発明者】

【氏名】奥田 幸一

【審査官】 鈴木 和樹

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−０１０４２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−０７９２２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−０４９０９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０１０５５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−１６３１４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−０１５１９８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−２５７９２５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

Ｈ０１Ｌ ２１／３０６

Ｈ０１Ｌ ２１／６８３

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

チャンバーと、前記チャンバー内においてウェーハを支持する回転テーブルと、前記回転テーブル上の前記ウェーハの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、前記回転テーブルの外周部に設けられ、前記ウェーハの遠心力によって外周方向に飛散する前記洗浄液を回収するスピンカップと、前記回転テーブルの外周部に設けられた第１の排気口と、前記スピンカップを昇降制御するスピンカップ昇降機構と、前記チャンバーの側面側に設けられた第２の排気口と、前記第２の排気口を開閉するシャッターとを備え、
前記スピンカップは、前記ウェーハの洗浄及び乾燥処理中に上昇して前記第１の排気口を開放すると共に、前記ウェーハの乾燥処理後に降下して前記第１の排気口を閉止し、
前記シャッターは、前記スピンカップに連動して昇降し、前記スピンカップが上昇して前記第１の排気口を開放しているときには前記第２の排気口を閉止し、前記スピンカップが降下して前記第１の排気口を閉止しているときには前記第２の排気口を開放することを特徴とする枚葉式ウェーハ洗浄装置。

【請求項2】

前記スピンカップは、上方に向かって縮径する略円錐筒状の部材であり、上部開口の直径は前記ウェーハの直径よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の枚葉式ウェーハ洗浄装置。

【請求項3】

前記第２の排気口及び前記シャッターは、前記チャンバーの対向する２つの側面にそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の枚葉式ウェーハ洗浄装置。

【請求項4】

前記チャンバーの上部に設けられた給気口をさらに備え、前記給気口から取り込まれた気体を前記第１の排気口又は前記第２の排気口から排気することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の枚葉式ウェーハ洗浄装置。

【請求項5】

前記枚葉式ウェーハ洗浄装置を複数有し、前記複数の枚葉式ウェーハ洗浄装置それぞれは前記第１の排気口からの排気及び第２の排気口からの排気を外部へ排気する第３の排気口をさらに備え、前記第３の排気口は前記複数の枚葉式ウェーハ洗浄装置に対して共通に設けられた排気経路に接続されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の枚葉式ウェーハ洗浄装置。

【請求項6】

前記回転テーブルは、前記ウェーハの洗浄及び乾燥処理中に前記ウェーハを回転させると共に、前記ウェーハの乾燥処理後に前記ウェーハの回転を停止し、
前記スピンカップは、前記ウェーハの回転を停止させた後に降下する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の枚葉式ウェーハ洗浄装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、枚葉式ウェーハ洗浄装置に関し、特に、チャンバー内からの排気を行う排気口を有する枚葉式ウェーハ洗浄装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体装置の製造においては、ウェーハの表面にパーティクルが付着していると、その表面に処理を行う場合、ウェーハ面内に均一な処理ができず、半導体装置の品質低下につながるおそれがある。そのため、ウェーハの表面に処理を行う前に、洗浄装置によりウェーハの洗浄を行う必要がある。

【0003】

ウェーハの洗浄装置としては、従来から複数枚のウェーハを同時に洗浄するバッチ式ウェーハ洗浄装置がある。しかしながら、近年のウェーハの大口径化にともない、ウェーハを１枚ずつ洗浄する枚葉式ウェーハ洗浄装置が広く用いられるようになってきている。（特許文献１参照）。

【0004】

特許文献１に示されているように、枚葉式ウェーハ洗浄装置では、ウェーハを回転テーブルに載置し、ウェーハを高速で回転させながら、洗浄液供給ノズルから洗浄液をウェーハ表面に吹きかけることによりパーティクルを除去する。このとき、ウェーハの遠心力によってウェーハの外周方向に洗浄液が飛散するが、ウェーハの周囲を取り囲むスピンカップを設けることにより、飛散した洗浄液を回収している。

【0005】

特許文献１には記載されていないが、枚葉式ウェーハ洗浄装置では、洗浄したウェーハを乾燥させる際、さらには洗浄中においても、外部からチャンバー内にクリーンエアーを給気し、スピンカップと回転テーブルとの間に設けられた隙間を排気口とする排気経路からチャンバー内のエアーの排気も行っている。このように、給気と排気を行ない、チャンバー内の圧力を制御することにより、ウェーハの洗浄及び乾燥を効率よく行うことができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２００４−７１７０２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

枚葉式ウェーハ洗浄装置は一度に一枚のウェーハを処理するため、バッチ式に比べるとスループットが低い。そのため、複数台の枚葉式ウェーハ洗浄装置を用意し、複数枚のウェーハを並列処理することにより、スループットの向上が図られている。このようなシステム構成において、複数台の枚葉式ウェーハ洗浄装置の排気口が共通の排気経路に接続されている場合には、以下のような問題がある。

【0008】

まず、上述のような枚葉式ウェーハ洗浄装置において、洗浄及び乾燥処理終了後、ウェーハのチャンバー内からの取り出し及び次の処理対象のウェーハのチャンバー内への載置（以下、「移載」ともいう。）を行う際、チャンバーの側面の一部を開放し、そこからロボットのアームを進入させてウェーハの外周部分を把持するが、このとき、スピンカップがウェーハの周囲に配置されているとスピンカップがアームの進入及びウェーハの把持の妨げとなるため、スピンカップを降下させる必要がある。

【0009】

しかしながら、スピンカップを降下させると、スピンカップと回転テーブルとの間の排気口が閉じてしまい、排気がされなくなるため、排気量が大幅に減少すると共に、チャンバー内の圧力が上昇してしまう。このように一つの洗浄装置からの排気量が変動すると、共通の排気経路に接続された他の洗浄装置のチャンバーの内圧が影響を受け、洗浄及び乾燥処理中のチャンバー内の圧力が変動することによって洗浄品質が低下するおそれがある。

【0010】

また、複数台の枚葉式ウェーハ洗浄装置の洗浄及び乾燥処理が同期して行われ、すべての洗浄装置の洗浄及び乾燥工程が同じタイミングで実施されている場合には、上記のようなチャンバーの内圧変動の問題は生じないが、共通の排気経路にかかる気圧変動の負荷が非常に大きいという問題がある。また、洗浄方法が異なる多種類のウェーハを取り扱う場合には、装置ごとに洗浄時間や乾燥時間も変わってくるため、装置の待機時間が増加し、スループットが低下するという問題がある。

【0011】

したがって、本発明は、ウェーハの移載から洗浄及び乾燥までの一連の工程内での排気量の変動が少なく、洗浄品質の高い枚葉式ウェーハ洗浄装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0012】

本発明による枚葉式ウェーハ洗浄装置は、チャンバーと、前記チャンバー内においてウェーハを支持する回転テーブルと、前記回転テーブル上の前記ウェーハの表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、前記回転テーブルの外周部に設けられ、前記ウェーハの遠心力によって外周方向に飛散する前記洗浄液を回収するスピンカップと、前記回転テーブルの外周部に設けられた第１の排気口と、前記スピンカップを昇降制御するスピンカップ昇降機構と、前記チャンバーの側面側に設けられた第２の排気口と、前記第２の排気口を開閉するシャッターとを備え、前記シャッターは、前記スピンカップに連動して昇降し、前記スピンカップが上昇して前記第１の排気口を開放しているときには前記第２の排気口を閉止し、前記スピンカップが降下して前記第１の排気口を閉止しているときには前記第２の排気口を開放することを特徴とする。

【0013】

本発明によれば、ウェーハの洗浄及び乾燥を行う際には第１の排気口により排気が行われ、ウェーハの移載を行う際には第２の排気口により排気が行なわれることから、チャンバー内の圧力をほぼ一定に保つことが可能となる。

【0014】

前記スピンカップは、上方に向かって縮径する略円錐筒状の部材であり、上部開口の直径は前記回転テーブルの直径よりも大きいことが好ましい。これによれば、ウェーハの遠心力によって外周方向に飛散した洗浄液を効率よく回収することができる。

【0015】

前記第２の排気口及び前記シャッターは、前記チャンバーの対向する２つの側面にそれぞれ形成されていることが好ましい。これによれば、チャンバー内の雰囲気をほぼ均一に排気することができる。

【0016】

前記チャンバーの上部に設けられた給気口をさらに備え、前記給気口から取り込まれた気体を前記第１の排気口又は前記第２の排気口から排気することが好ましい。これによれば、チャンバー内の圧力を容易に制御することが可能となる。

【0017】

前記枚葉式ウェーハ洗浄装置を複数有し、前記複数の枚葉式ウェーハ洗浄装置それぞれは前記第１の排気口からの排気及び第２の排気口からの排気を外部へ排気する第３の排気口をさらに備え、前記第３の排気口は前記複数の枚葉式ウェーハ洗浄装置に対して共通に設けられた排気経路に接続されていることが好ましい。これによれば、排気経路の排気量、すなわち各枚葉式ウェーハ洗浄装置から排気される排気量の総計をほぼ一定とした場合でも、各枚葉式ウェーハ洗浄装置の内圧に差が生じることを防止することができる。

【発明の効果】

【0018】

このように、本発明によれば、ウェーハの移載工程から洗浄及び乾燥工程までの一連の工程内での排気量の変動が少なく、洗浄品質の高い枚葉式ウェーハ洗浄装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明の好ましい実施形態による枚葉式ウェーハ洗浄装置１０の構成を説明するための模式図であり、ウェーハ１の洗浄及び乾燥処理を行なっているときの状態を示している。

【図2】第２の排気口１７及びシャッター１８の構成を示す略平面図であり、（ａ）はウェーハ１の洗浄及び乾燥処理を行なっているときの状態を示し、（ｂ）はウェーハ１の移載を行なっているときの状態を示している。

【図3】本発明の好ましい実施形態による枚葉式ウェーハ洗浄装置１０の動作を説明するための模式図であり、ウェーハ１の移載を行なっているときの状態を示している。

【図4】本発明の好ましい実施形態による枚葉式ウェーハ洗浄装置１０の動作を説明するためのフローチャートである。

【図5】本発明の好ましい実施形態によるウェーハ洗浄システム１００の構成を説明するための模式図である。

【図6】（ａ）は実施例の結果を示すグラフであり、（ｂ）は比較例の結果を示すグラフである。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。

【0021】

図１は、本発明の好ましい実施形態による枚葉式ウェーハ洗浄装置１０の構成を説明するための模式図であり、ウェーハ１の洗浄処理を行なっているときの状態を示している。

【0022】

図１に示すように、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０は、チャンバー１１と、チャンバー１１内においてウェーハ１を支持する回転テーブル１２と、回転テーブル１２上のウェーハ１の表面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズル１３と、回転テーブル１２の外周部に設けられ、ウェーハ１の遠心力によって外周方向に飛散する洗浄液を回収するスピンカップ１４と、回転テーブル１２の外周部に設けられた第１の排気口１５と、スピンカップ１４を昇降制御するスピンカップ昇降機構１６と、チャンバー１１の側面側に設けられた第２の排気口１７と、第２の排気口１７を開閉するシャッター１８とを備えて構成されている。

【0023】

回転テーブル１２とスピンカップ１４との間には第１の排気経路１５ｐが形成されている。また、略直方体状（ボックス型）のチャンバー１１の対向する２つの側面は二重の側壁１１ｓ、１１ｔを有しており、内側の側壁１１ｓと外側の側壁１１ｔとの間には第２の排気経路１７ｐが形成されている。内側の側壁１１ｓには、それぞれ複数の排気窓１１ｗが設けられ、これが第２の排気口１７を構成している。

【0024】

枚葉式ウェーハ洗浄装置１０は、さらに、第１の排気経路１５ｐと第２の排気経路１７ｐとの両方に接続され、第１の排気口１５を通過した気体と第２の排気口１７を通過した気体を外部へ排気する第３の排気口１９と、洗浄中にスピンカップ１４によって回収された洗浄液を外部へ排出する排液口２０と、チャンバー１１の上部に設けられた給気装置２１からクリーンエアーをチャンバー１１内部に供給する給気口２１ｏとを備えている。

【0025】

洗浄液供給ノズル１３は、複数の薬液および純水供給などが可能なノズル１３ａ，１３ｂ，１３ｃを備えており、洗浄対象に応じて必要な洗浄液をウェーハ１へ供給可能となっている。

【0026】

回転テーブルの上面には３本の支持ピン２２が設けられており、ウェーハ１は支持ピン２２によって３点支持されている。回転テーブル１２は、回転機構１２ｒにより、ウェーハ１を保持した状態で回転可能となっている。

【0027】

スピンカップ１４は、上方に向かって縮径する略円錐筒状の部材であり、上部開口の直径はウェーハの直径よりも大きく構成されている。かかる構成により、ウェーハの遠心力によって外周方向に飛散した洗浄液を効率よく回収することができる。

【0028】

図２は、第２の排気口１７及びシャッター１８の構成を示す略平面図である。

【0029】

第２の排気口１７（複数の排気窓１１ｗ）は、上述のとおり、チャンバー１１の内側の側壁１１ｓに形成された開口であって、特に限定されるものではないが、図２に示すように、本実施形態では２つの矩形状の開口として設けられている。

【0030】

シャッター１８は、図１に示すように、チャンバー１１の内側の側壁１１ｓに沿って配置されている。図２に示すように、シャッター１８は、複数の排気窓１８ｗを有するシャッター本体１８ｍとシャッター本体１８ｍが上下にスライド可能な状態でシャッター本体１８ｍを支えるレール１８ｒとを備えている。複数の排気窓１８ｗは、特に限定されるものではないが、複数の排気窓１１ｗと同様、本実施形態では２つの矩形状の開口として設けられている。

【0031】

シャッター１８は、スピンカップ１４に連動して昇降するよう構成されている。本実施形態によるシャッター１８はスピンカップ１４に固定されており、これによりスピンカップ１４と連動して昇降する。ウェーハ１の洗浄及び乾燥処理中は、スピンカップ１４が上昇位置にあるときは、図２（ａ）に示すように、複数の排気窓１１ｗ（第２の排気口１７）と複数の排気窓１８ｗは重ならない。一方、スピンカップ１４の降下に連動してシャッター本体１８ｍが図２（ａ）の一点鎖線で示す位置まで降下すると、図２（ｂ）に示すように、複数の排気窓１１ｗ（第２の排気口１７）と複数の排気窓１８ｗが重なることとなる。

【0032】

なお、複数の排気窓１１ｗ（第２の排気口１７）と複数の排気窓１８ｗとは、特に限定されないが、略同一の形状・大きさに形成されている。

【0033】

このような構成により、スピンカップ１４が上昇して第１の排気口１５を開放しているときには、図１及び図２（ａ）に示すように、チャンバーの側壁１１ｓに設けられた排気窓１１ｗ（第２の排気口１７）とシャッター１８の排気窓１８ｗとが互いに重ならない位置となることから、第２の排気口１７は閉止された状態となる。

【0034】

図３は、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０の動作を説明するための模式図であり、ウェーハ１の移載を行なっているときの状態を示している。

【0035】

一方、スピンカップ１４が降下して第１の排気口１５を閉止しているときには、図３及び図２（ｂ）に示すように、排気窓１１ｗとシャッター１８の排気窓１８ｗとが互いに重なる位置となることから、第２の排気口１７が開放された状態となる。ここで、第１の排気口１５は、スピンカップ１４を降下させた結果として閉止されるものであることから、ここにいう「閉止」とは、排気を完全に遮断するための閉止を意味するものではなく、排気量を大幅に制限するという意味であり、多少の排気を許容する趣旨である。

【0036】

次に、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０の動作につき、図４のフローチャートを用いて詳細に説明する。

【0037】

まず、スピンカップ昇降機構１６によりスピンカップ１４を退避位置まで降下させる。これにより、第１の排気口１５が閉止されると同時に、第２の排気口１７が開放される（ステップＳ１）。その後、チャンバー１１の側面（側壁１１ｓ，１１ｔと直交する側面）に設けられた移載口（不図示）を開放し、ウェーハ１を回転テーブル１２上にセットする（ステップＳ２）。

【0038】

続いて、移載口を閉じた後、スピンカップ昇降機構１６によりスピンカップ１４を上昇させる。これにより、第１の排気口１５が開放されると同時に、第２の排気口１７が閉止される（ステップＳ３）。次に、回転機構１２ｒにより回転テーブル１２及びウェーハ１を回転させながら、洗浄液供給ノズル１３ａ〜１３ｃのいずれかから必要な洗浄液をウェーハ１上面に供給する。これによりウェーハ１の表面の洗浄が行なわれる（ステップＳ４）。洗浄完了後、洗浄液供給ノズル１３からの洗浄液の供給を停止し、ウェーハ１を引き続き回転させることにより、ウェーハ１を乾燥させる（ステップＳ４）。

【0039】

ウェーハ１の乾燥処理終了後、ウェーハ１の回転を停止させた後、ステップＳ１と同様、スピンカップ１４を退避位置まで降下させ、第１の排気口１５を閉止し、第２の排気口１７を開放する（ステップＳ５）。続いて、移載口を開放し、ウェーハ１をチャンバー１１内から外部へ取り出す（ステップＳ６）。

【0040】

以上により、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０によるウェーハ１の洗浄・乾燥処理が終了する。

【0041】

上述のとおり、ステップＳ１，Ｓ２及びＳ５，Ｓ６においては、第１の排気口１５が閉止され、第２の排気口１７が開放された状態であることから、チャンバー１１内の気体は図３に示す経路ＰＢを通って排気される。すなわち、第２の排気口１７、第２の排気経路１７ｐ及び第３の排気口１９により排気が行なわれる。一方、ステップＳ３及びＳ４においては、第１の排気口１５が開放され、第２の排気口１７が閉止された状態であることから、チャンバー１１内の気体は図１に示す経路ＰＡを通って排気される。すなわち、第１の排気口１５、第１の排気経路１５ｐ及び第３の排気口１９により排気が行なわれる。したがって、第１の排気口１５が閉止された状態、開放された状態のいずれであっても、経路ＰＡ又はＰＢによって常にチャンバー１１内の気体が排気されている状態であることから、チャンバー１１の内圧をほぼ一定に保つことが可能となる。

【0042】

また、本実施形態では、第２の排気口１７及びシャッター１８は、チャンバー１１の対向する２つの側面に沿って配置されていることから、チャンバー内の雰囲気をほぼ均一に排気することを可能となる。

【0043】

さらに、本実施形態では、上述のとおり、チャンバー１１の上部に給気装置２１を備えており、給気口２１ｏから取り込まれた気体を第１の排気口１５又は第２の排気口１７から排気する構成としていることにより、チャンバー内の圧力の制御が容易となる。

【0044】

上記枚葉式ウェーハ洗浄装置単体では、一度に一枚のウェーハしか処理することができず、バッチ式ウェーハ洗浄装置に比べるとスループットが低い。そこで、複数の枚葉式ウェーハ洗浄装置を用いて複数枚のウェーハを並列処理することにより、スループットを高める方法が採用される。以下、複数台の枚葉式ウェーハ洗浄装置を備えたウェーハ洗浄システムにつき説明する。

【0045】

図５は、ウェーハ洗浄システム１００の構成を説明するための模式図である。

【0046】

図５に示すように、ウェーハ洗浄システム１００は、上記第１の実施形態による枚葉式ウェーハ洗浄装置１０と同様の構成を有する複数（本実施形態では４台）の枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄを備えて構成されている。そして、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄそれぞれにおける第３の排気口１９（図１及び図３参照）が枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄに対して共通に設けられた第３の排気経路１０２に接続されている。第３の排気経路１０２の排気量は、排気制御部１０１により一定に制御されている。

【0047】

枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄそれぞれの動作は、上記第１の実施形態で説明した通りである。しかしながら、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄが洗浄・乾燥処理と移載を同期して行なってしまうと、スループットがあまり上がらない。そのため、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄは互いに非同期で洗浄・乾燥処理を行なうものである。

【0048】

ここで、従来の枚葉式ウェーハ洗浄装置を複数設け、その排気経路を共通化して一定の排気量に制御し、各枚葉式ウェーハ洗浄装置を非同期で動作させた場合、他の枚葉式ウェーハ洗浄装置の排気量の変動を受けて自身のチャンバーの内圧が変動し、洗浄品質が低下するという問題が生じる。

【0049】

すなわち、ウェーハの移載を行なうためにスピンカップを降下させ、スピンカップの開口部（排気口）が閉じた状態にある枚葉式ウェーハ洗浄装置においては、排気がされなくなるため、その装置の内圧が上昇してしまうだけでなく、その装置が排気していた分の排気量が他の洗浄・乾燥処理中にある枚葉式ウェーハ洗浄装置の排気口から強制的に排気されることとなる。このため、処理中の装置の内圧が低下し、各枚葉式ウェーハ洗浄装置の内圧に差が生じてしまう。これにより、洗浄品質が低下してしまうこととなる。

【0050】

これに対し、本実施形態によれば、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄのそれぞれが、洗浄・乾燥処理中であっても移載中であっても、第１の排気口１５と第２の排気口１７のいずれかにより常に排気が行なわれることから、枚葉式ウェーハ洗浄装置１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄそれぞれの内圧をほぼ一定に保つことが可能となる。したがって、本実施形態によれば、洗浄品質を低下させることなく、スループットを向上させることができる。

【0051】

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。

【0052】

例えば、上記実施形態においては、４台の枚葉式ウェーハ洗浄装置を有するシステムを示したが、枚葉式ウェーハ洗浄装置の数は４台に限定されず、３台以下であってもよく、あるいは５台以上あっても構わない。また、第２の排気口１７の形状、数、配置、第２の排気経路１７ｐの構造等も特に限定されない。

【0053】

また、上記実施形態においては、シャッター１８がスピンカップ１４に固定されている構成を示したが、本発明はこのような構成に限定されるものではなく、スピンカップ１４と連動して昇降すれば足りる。したがって、例えば、例えばシャッター１８はスピンカップ１４とば分離した部材であるが、同一の駆動源によって連動して昇降する構成であってもよい。

【実施例】

【0054】

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこの実施例に何ら限定されるものではない。

【0055】

［実施例］
図５に示した構造、すなわち４台の枚葉式ウェーハ洗浄装置を有するウェーハ洗浄システムにおいて、２台の枚葉式ウェーハ洗浄装置Ａ，Ｂを非同期で動作させた場合における枚葉式ウェーハ洗浄装置Ａ，Ｂの内圧の変化を測定した。各枚葉式ウェーハ洗浄装置の初期の内圧は−４Ｐａとした。

【0056】

測定の結果を図６（ａ）に示す。図６において、「処理中」とは、ウェーハの洗浄・乾燥処理中を表し、「移載中」とは、洗浄済みウェーハの取り出し〜次処理ウェーハのセットを表す。

【0057】

図６（ａ）に示すように、本実施例によれば、処理中も移載中も枚葉式ウェーハ洗浄装置Ａ，Ｂそれぞれの内圧にほとんど変化が見られないことが確認された。

【0058】

［比較例］
第２の排気口１７及びシャッター１８を有しない従来の枚葉式ウェーハ洗浄装置を４台設け、その排気経路を共通化して一定の排気量に制御し、４台のうち２台の枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｘ，Ｙを非同期で動作させた場合における枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｘ，Ｙの内圧の変化を測定した。各枚葉式ウェーハ洗浄装置の初期の内圧は−４Ｐａとした。

【0059】

測定の結果、図６（ｂ）に示すように、枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｘが移載中になると、その内圧が上昇するとともに、枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｙの内圧が低下した。続いて、枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｙも移載中になると、枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｘ，Ｙともに内圧が上昇した。その後、枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｙが移載中の状態で枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｘが処理中になると、枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｘの内圧が急激に低下した。このように、枚葉式ウェーハ洗浄装置Ｘ，Ｙの内圧がそれぞれ大きく変動することが確認された。

【符号の説明】

【0060】

１ ウェーハ
１０ 枚葉式ウェーハ洗浄装置
１１ チャンバー
１１ｓ，１１ｔ チャンバーの側壁
１１ｗ チャンバーの排気窓
１２ 回転テーブル
１２ｒ 回転機構
１３，１３ａ，１３ｂ，１３ｃ 洗浄液供給ノズル
１４ スピンカップ
１５ 第１の排気口
１５ｐ 第１の排気経路
１６ スピンカップ昇降機構
１７ 第２の排気口
１７ｐ 第２の排気経路
１８ シャッター
１８ｗ シャッターの排気窓
１８ｍ シャッター本体
１８ｒ シャッターのレール
１９ 第３の排気口
２０ 排液口
２１ 給気装置
２１ｏ 給気口
２２ 支持ピン
ＰＡ，ＰＢ 排気経路
１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄ 枚葉式ウェーハ洗浄装置
１００ ウェーハ洗浄システム
１０１ 排気制御部
１０２ 第３の排気経路

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】