発明の名称 両面研磨装置用キャリア及びウェーハの両面研磨方法
出願人 信越半導体株式会社 (識別番号 190149)
特許公開件数ランキング 529 位(50件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 390 位(66件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-5807648
公報発行日 2015年11月10
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5807648
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