特許 5827306 アクチュエータシステムを備える投影露光装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5827306

(24)【登録日】2015年10月23日

(45)【発行日】2015年12月2日

(54)【発明の名称】アクチュエータシステムを備える投影露光装置

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/20 20060101AFI20151112BHJP

   G02B 7/04 20060101ALI20151112BHJP

【ＦＩ】

   G03F7/20 521

   G02B7/04 E

【請求項の数】32

【全頁数】24

(21)【出願番号】特願2013-267424(P2013-267424)

(22)【出願日】2013年12月25日

(62)【分割の表示】特願2011-549602(P2011-549602)の分割

【原出願日】2010年2月16日

(65)【公開番号】特開2014-116609(P2014-116609A)

(43)【公開日】2014年6月26日

【審査請求日】2014年1月16日

(31)【優先権主張番号】102009009221.8

(32)【優先日】2009年2月17日

(33)【優先権主張国】DE

(31)【優先権主張番号】61/153,013

(32)【優先日】2009年2月17日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】503263355

【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

(74)【代理人】

【識別番号】100147485

【弁理士】

【氏名又は名称】杉村 憲司

(74)【代理人】

【識別番号】100174023

【弁理士】

【氏名又は名称】伊藤 怜愛

(72)【発明者】

【氏名】ベンヤミン シーゲル

(72)【発明者】

【氏名】アンドレアス バータイル

(72)【発明者】

【氏名】ピーター クレッシュ

(72)【発明者】

【氏名】マーティン マールマン

(72)【発明者】

【氏名】ヨッヘン ヴェーバー

【審査官】 植木 隆和

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００８−３１１６４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−２０３８６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−２９５０２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−２０５４２８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−０６４２２９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００９−５４５１４６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｇ０３Ｆ ７／２０

Ｇ０２Ｂ ７／０２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、
投影対物レンズを備え、
前記投影対物レンズは、投影対物レンズハウジングと、前記投影対物レンズ内に配置した少なくとも１つの光学コンポーネント（７）の機械的作動用のアクチュエータシステム（１）とを有し、
前記アクチュエータシステム（１）は、該アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した前記少なくとも１つの光学コンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有し、
前記アクチュエータシステムは、減衰システムを含み、該減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）を備え、該質量体は、前記対物レンズハウジングの外部に配置した、投影露光装置において、
前記入熱を減らす手段（４）を駆動することができる制御／調節ユニット（３０）があり、
前記制御／調節ユニット（３０）は、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、前記加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき前記入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項2】

請求項１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段（２，６，４）は、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域を通して流体を輸送するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項3】

請求項２に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、流体が流れるライン（２）として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項4】

請求項３に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、水又はヒマシ油又は窒素若しくは空気等のガスであることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項5】

請求項２に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域と相互作用する、特に加熱領域を流れるガス流として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項6】

請求項１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域と熱的に接触し約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する、熱輸送素子（７０）であることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項7】

請求項６に記載の投影露光装置（３１０）において、前記熱輸送素子（７０）のうち前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設けたことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項8】

請求項６又は７に記載の投影露光装置（３１０）において、前記熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項9】

請求項６〜８のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、前記投影対物レンズ内に配置した前記光学コンポーネント（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）は、前記対物レンズハウジングを通して外部に導いたことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項10】

請求項１〜９のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステムは、ピエゾクローラ、ピエゾアクチュエータ、プランジャ型コイル、及び渦電流ブレーキからなる群から選択される素子を備えることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項11】

請求項１〜１０のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）と熱的に接触させたことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項12】

請求項１〜１１のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続するか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、前記入熱を減らす手段（４）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項13】

請求項１〜１２のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現し、受動及び能動減衰素子を有することを特徴とする、投影露光装置。

【請求項14】

請求項１〜１３のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）は、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項15】

半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、
該投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備え、
前記アクチュエータシステム（１）は、能動的な減衰素子を備える減衰システムとして具現され、
前記アクチュエータシステム（１）は、該アクチュエータシステム（１）の動作中に生じる熱に起因した前記少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有する、投影露光装置において、
前記入熱を減らす手段（４）を駆動することができる制御／調節ユニット（３０）があり、
前記制御／調節ユニット（３０）は、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、前記加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき前記入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項16】

請求項１５に記載の投影露光装置であって、前記減衰システムは、受動的な減衰素子をさらに具えている、投影露光装置。

【請求項17】

請求項１５に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段（２，６，４）は、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域を通して流体を輸送するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項18】

請求項１７に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、流体が流れるライン（２）として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項19】

請求項１８に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、水又はヒマシ油又は窒素若しくは空気等のガスであることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項20】

請求項１７に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域と相互作用する、特に加熱領域を流れるガス流として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項21】

請求項１５に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域と熱的に接触し約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する、熱輸送素子（７０）であることを特徴とする、投影露光装置。

【請求項22】

請求項２１に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）のうち前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設けたことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項23】

請求項２１又は２２に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項24】

請求項２１〜２３のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、投影対物レンズ内に配置した光学コンポーネント（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）は、対物レンズハウジングを通して外部に導いたことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項25】

請求項１５〜２４のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項26】

請求項１５〜２５のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステムは、ピエゾクローラを有することを特徴とする、投影露光装置。

【請求項27】

請求項１５〜２５のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）は、プランジャ型コイルを有することを特徴とする、投影露光装置。

【請求項28】

請求項１５〜２５のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）は、渦電流ブレーキを有することを特徴とする、投影露光装置。

【請求項29】

請求項２５に記載の投影露光装置（３１０）において、光学コンポーネント（７）は、投影対物レンズ内に配置し、前記減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）として具現し、該質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項30】

請求項１５〜２９のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）と熱的に接触させたことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項31】

請求項１５〜３０のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続するか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、入熱を減らす手段（４）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計したことを特徴とする、投影露光装置。

【請求項32】

請求項１５〜３１のいずれか１項に記載の投影露光装置（３１０）において、前記アクチュエータシステム（１）を、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本出願は、２００９年２月１７日付けで出願された米国仮出願第６１／１５３０１３号の米国特許法第１１９条（ｅ）項（１）の下での利益を主張する。当該米国仮出願の開示は、本出願の開示の一部とみなし、参照により本出願の開示に援用する。複数の引用文献を参照により本明細書に援用する。本出願の明確な開示と引用文献の開示との間に不一致がある場合、本出願が優先する。

【0002】

本発明は、半導体リソグラフィ用のアクチュエータシステムを備える投影露光装置に関する。

【背景技術】

【0003】

半導体リソグラフィ用の投影露光装置は、例えば、特許文献１〜６に記載されている。概して、アクチュエータシステムは、機械的振動を減らすための減衰システムとして具現することができる。この場合、上述の機械的振動は、概して光学結像品質の低下につながり、光学結像品質の低下は、例えばコントラストの損失として現れ、完全に満足のいく品質を有する半導体製品の生産量を低下させる。アクチュエータシステムの動作中、熱の放出は事実上避けられない。この熱は、例えば、例えば増幅器等のアクチュエータの電子コンポーネントから生じ得るか、又はアクチュエータシステムの機械コンポーネントによって望ましくない二次的作用として発生し得る。システムにおける熱の発生、特に温度勾配の発生は、システムに悪影響を及ぼすため、投影露光装置の場合、同じく光学結像品質の低下を招き得る。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】米国特許出願第２００７／０２４８１２７号明細書

【特許文献2】米国特許出願第２００７／００９６５６６号明細書

【特許文献3】米国特許出願第２００７／０１１４６５５号明細書

【特許文献4】米国特許出願第２００４／００７９８９８号明細書

【特許文献5】米国特許出願第２００５／００９４１１８号明細書

【特許文献6】米国特許出願第２００５／０１９０３５１号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の目的は、熱管理の改善を示す半導体リソグラフィ用の投影露光装置を明記することである。

【課題を解決するための手段】

【0006】

この目的は、少なくとも１つの光学素子と、少なくとも１つの光学素子の機械的作動用のアクチュエータシステムとを備える、半導体リソグラフィ用の投影露光装置により達成する。光学素子は、外側マウントを備え、アクチュエータシステムは、少なくとも１つの光学素子への入熱を減らす熱輸送素子を備える。入熱は、アクチュエータシステムの動作中にアクチュエータシステムの加熱領域に生じる熱により発生し、アクチュエータの加熱領域は、光学素子の外側マウント上に配置して熱輸送素子と熱的に接触させ、熱輸送素子は、対物レンズハウジングを通して外部に導く。

【0007】

従属請求項は、本発明の有利な実施形態及び変形形態に関する。

【0008】

半導体リソグラフィ用の本発明による投影露光装置は、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステムと、アクチュエータシステムの動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つのコンポーネントへの入熱を減らす少なくとも１つの手段、例えば熱輸送素子とを有する。換言すれば、上記手段は、アクチュエータシステムの廃熱を作動コンポーネントの周囲から放散する役割、又は変形形態として、アクチュエータシステムの動作中に事実上不可避に生じる熱をコンポーネントの周辺に放出させるのではなくコンポーネントの周囲外に放出させる効果を発揮する役割を果たす。

【0009】

いずれの場合も、本発明には、作動コンポーネントの周囲が受ける熱が従来技術と比較して少ないという効果がある。特に、コンポーネントが投影対物レンズの内部又は内側（within or inside）に配置した光学素子である場合、この措置は有利であるが、これは、光学素子又は光学素子のマウントの部品の加熱が、概して光学素子の光学特性の変化、したがって関連の投影対物レンズの結像収差につながるからである。

【0010】

反対に、本発明による措置には、入熱の低減により作動を比較的高い能力で行うことができるという効果がある。これにより、アクチュエータシステムのタスク、例えばコンポーネントの特定の位置への移動又は望ましくない振動の速やかな減衰を、従来技術と比較して高い速度で行うことができる。さらに、本発明による措置は、従来技術と比較して大きな力を加えることを可能にする。

【0011】

上述のアクチュエータシステムの妨害的な加熱は、例えばアクチュエータ自体により、例えばピエゾ素子により、又はアクチュエータシステムと一体的に具現した電子コンポーネント、例えば増幅器等により引き起こされ得る。

【0012】

この場合、上記手段は、アクチュエータシステムの加熱領域を通して流体を輸送するのに適し得る。したがって、上記手段は、例えばコンポーネントと熱的に接触した本体内で、流体が流れるライン又は導管として例えば具現することができる。流体は、特に、例として、水若しくはヒマシ油等の液体、又は窒素若しくは空気等のガスとすることができる。流動する流体は、続いてアクチュエータシステムの廃熱を吸収し、上位システムの結像品質にとって不利な結果を伴わずに放出することができる領域に廃熱を放散する。したがって、例として、半導体リソグラフィ用の投影対物レンズに本発明を適用する場合、液体又はガスの流れを、まず冷却すべきアクチュエータシステムの領域を通して導くことにより、続いて対物レンズハウジングの壁を通して外部に導くようにすることができ、外部で液体又はガスの流れは、概して何らかの形で存在する対物レンズハウジングの冷却デバイス、いわゆる「レンズクーラ」に廃熱を放出する。上述の流体冷却の冷却能力は、例えば、単位時間当たりに加熱領域を流れる流体の量及び／又は流体の流れ温度を適宜適応させることにより適応させることができる。

【0013】

この場合、本発明は、ライン内でアクチュエータシステムの予測領域を流れる冷却流体に限定されない。代替的又は付加的に、アクチュエータシステムの加熱領域と相互作用する指向性ガス流を用いることもできる。このようなガス流は、冷却能力の変更に関して前段落で説明したように調整することもできる。

【0014】

上記手段は、同様にアクチュエータシステムの加熱領域と熱的に接触して高い熱伝導率、特に約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する熱輸送素子とすることができる。このような熱輸送素子は、例えば、銅から又はヒートパイプとして形成することができ、アクチュエータシステムの加熱領域と直接機械的に、したがって熱的に接触させることができ、こうしてアクチュエータシステムの周囲から放熱することができる。例として、ペルチェ素子を、熱輸送素子のうちアクチュエータシステムから離れた側でヒートシンクとして用いることができる。上述と同様の方法で、熱輸送素子のうちアクチュエータシステムから離れた側を上述のレンズクーラと熱的に接触させることが同様に可能である。熱輸送素子自体は、多成分体（multicomponent body：複合体）として具現することもでき、すなわち、高い熱伝導率を有する媒体を充填した素子を用いることができる。特に、水又はナトリウムがここでは媒体として適している。

【0015】

アクチュエータシステムに対する熱輸送素子の機械的影響の最小化は、熱輸送素子を熱伝導ストリップとして、例えば銅編組ストリップとして具現することにより達成することができる。このような熱伝導ストリップの剛性が低い結果として、アクチュエータシステムの、したがって場合によっては作動コンポーネントの機械的擾乱が大幅に減る。さらに、例えば蛇腹等の機械的な分離部を設けた剛性の熱伝導素子を用いることも可能である。

【0016】

作動コンポーネントは、多くの場合、投影対物レンズの内側マウントに配置した光学素子として具現する。内側マウント自体は、外側マウント内に保持する。この場合、外側マウントは、同様の構成の他の外側マウントと共に対物レンズハウジングを形成するリング形の本体として具現することができる。説明した外側マウントは、機械的擾乱に関して内側マウントよりも重要ではないとみなすべきであるため、この場合の熱輸送素子との機械的な接触が引き起こす機械的擾乱は少ない。アクチュエータシステムの加熱領域を外側マウントにこうして配置した場合、この領域は、比較的剛性に具現した熱輸送素子と直接機械的に接触させることにより冷却することができる。この場合、すでに上述したように、熱輸送素子は、放熱を目的として外側マウントから離れた側で上記レンズクーラと熱的に接触させることができる。

【0017】

アクチュエータシステムの１つの可能な実施形態は、アクチュエータシステムを減衰システムとして具現することにある。このような減衰システムを用いて、例えば投影対物レンズの結像品質の低下につながり得る機械的励起、例えば振動を抑制するか、又は当該振動を急速に減衰させる。この場合、コンポーネントの位置決め用のアクチュエータシステムと減衰システムとしてのアクチュエータの実施形態との間の境界は、流動的である場合が多く、特に、十分に大きな調節幅を有する位置決めシステムを、望ましくない振動を減衰させるための減衰システムとして変更することが可能である。本発明の有利な一実施形態では、減衰素子は、ピエゾ素子により、特に独国特許出願公開第１０２ ２５ ２６６号明細書に記載のピエゾアクチュエータの様式のアクチュエータとして実現することができ、上記ピエゾアクチュエータは、ピエゾクローラと称する。引用した文献は、アクチュエータロータ又は作動したランナ（すなわち、操作又は位置決め対象のコンポーネントに概して作用するアクチュエータの移動部品）を、これに対して垂直な、ピエゾ素子として実現した１つ又は複数の前進又はフィーダ要素（「足」）により駆動する、アクチュエータについて記載している。この場合、前進要素は、自らの長手方向に対して垂直にロータ方向に移動する。この場合、説明したアクチュエータは、前進要素が下降し、前進し、引っ込むことによりアクチュエータロータを移動させる代わりにロータ上に留まっているモードで動作させることができる。この変形形態は、光学素子の位置の操作に用いることもできるアクチュエータを、代替的又は付加的な動作モードで振動ダンパとして用いることができる可能性を広げる。特にこの場合にピエゾ素子を用いる利点は、ピエゾ素子が通常は２０００Ｈｚの範囲の比較的大きな帯域幅を有することである。

【0018】

代替形態として、アクチュエータシステムは、プランジャ型コイルも有することができる。この場合、プランジャ型コイルは、システムの振動の場合に発生して反転、位相シフト、及び増幅した出力信号を、プランジャ型コイルに再度供給するように用いることができる。例として、効率的な減衰機能性をこのようにして実現することができる。上述の手段を用いると、プランジャ型コイルの出力信号の増幅、反転、及び位相シフトに用いる電子コンポーネントに関してより高い設計自由度が得られる。同じことが、これに対応して代替的な能動アクチュエータシステムにも当てはまる。この場合、説明した解決手段のさらなる利点は、アクチュエータシステムの動作に必要な電子回路全体を、アクチュエータシステムの至近にこうして組み込むことができる結果として、上位システム、例えば半導体リソグラフィ用の投影露光装置に対するインタフェースの数及び複雑性を効果的に制限することができることであり、渦電流の使用も同様に考えられる。

【0019】

特に、光学コンポーネントを投影対物レンズ内に配置する場合、減衰システムは、ダンパを有する防振質量体（counter-vibrating mass）として具現することができ、当該質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置する。光学コンポーネントの機械的励起、すなわち起振の場合、例えば対物レンズハウジングによる防振質量体の機械的連結に起因して、例えば防振質量体も励起すなわち振動させる。続いて、これらの振動は、ダンパにより減衰させることができ、光学コンポーネントの振動もその結果として減衰する。説明したような場合に機械的振動エネルギーが対物レンズハウジング外部の熱エネルギーとして放散することにより、光学コンポーネントの周辺においてシステムの結像品質に関して敏感である領域、又は光学コンポーネント自体の加熱を、効果的に防止することができる。さらに、本発明のこの変形形態には、減衰システムの、また場合によっては制御／調節システムの構造設計に関する構造空間又は実装体積にあまり厳しい要件が課されないという効果がある。換言すれば、減衰に用いるコンポーネントがそのサイズ及び発熱に関して課される要件は、対物レンズハウジング内に組み込んだ場合よりも大幅に緩い。この場合も、レンズクーラを生じる熱エネルギーの放散に用いることができる。

【0020】

本発明のさらに別の変形形態として、アクチュエータシステムの加熱領域を、比熱容量の大きな本体、例えば水若しくはグリセロールを充填した銅容器、又は銅及びプラスチックからなり銅が蓄熱プラスチックに熱を伝える複合材料と、熱的に接触させることが考えられる。この場合、特に、アクチュエータシステムの加熱領域は、少なくとも部分的に上記本体で包囲する。この措置には、本体とアクチュエータシステムの加熱領域との間の熱的な接触により、第１に、加熱領域と比熱容量の大きな本体とを備えるシステム全体の温度上昇が上記本体のない場合よりもゆっくりと生じるという効果がある。さらに、システムが達するピーク温度も、上記本体のない場合と比較して低くなる。換言すれば、上記本体は、温度調整の制御／調節に関していくつかの利点を伴う熱キャパシタとしての役割を果たす。特に、温度変化の時間勾配が小さいため、上記措置を用いない場合に必要となるよりも小さな帯域幅での制御／調節を用いることが可能である。この場合、本体が水を充填した空洞を有することにより、大きな比熱容量を得ることができる。さらに、特に真空での用途に関して、例えば、本発明によるアクチュエータシステムをＥＵＶ投影露光装置で用いる場合、本体を中実の鋼体として具現することにより、本体が引き起こす他のシステムコンポーネントの汚染を最小限に抑えることができる。例として真空での本体の熱放射を最適化するために、本体の着色剤を適宜選択することができる。この場合、特に、本体のうち作動対象コンポーネントから離れた領域に、放射による本体の最大熱放射を可能にする表面構造、例えばコーティング又はラッカー塗を設けることができる。

【0021】

極端な場合、上記本体の使用は、能動的な調節による温度調整を省くことを可能にする。大きな温度勾配が上記キャパシタ効果の結果として回避されるため、既存のアクチュエータによりコンポーネントの調整時の熱の放出によって生じるオフセットを補償するだけで十分であり得る。

【0022】

本発明のさらに別の実施形態は、入熱を減らす手段を駆動することができる制御／調節ユニットが存在することにある。この場合、制御／調節ユニットは、加速度センサに接続することができ、加速度センサが判定したパラメータに基づいて入熱を減らす手段を駆動するのに適し得る。このような加速度センサは、例えば光学コンポーネントに装着することができる。距離の測定とは対照的に、加速度センサの使用には、振動等のシステムコンポーネントの急迫偏向（imminent deflections）を時間的にある程度先行して検出することができることで、対応の操作変数、例えば流体の流量又は温度の設定により多くの時間が残るという利点がある。結果として、調節の反応速度は大幅に改善する。

【0023】

さらに、制御／調節ユニットは、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニットに接続することができるか、又はこの制御／調節ユニットの一部として具現することができ、入熱を減らす手段を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計することができる。したがって、例として、投影露光装置の制御／調節ユニットは、装置の急迫リセットの場合、制御／調節ユニットに対応する信号を通信して上記手段を駆動させることができる。通常、このようなリセットに関連して、投影露光装置の事実上全部のアクチュエータシステムが駆動され、アクチュエータシステムの可能な移動範囲全体にある程度及ぶ移動を実行する。これには、システムに大きな振動が誘導されるという効果がある。このような措置を見越して、温度調整を事前にこれに対応して適応させておくことができることで、温度調整システムの有効性がさらに高まる。この場合、適当なシステム事象としては、すでに述べたリセットのほかに、例えばウェーハステージ又はレチクルステージの急迫移動等の事象も挙げられる。

【0024】

受動及び能動減衰素子を備える減衰システムとしてのアクチュエータシステムの実施形態には、一定の基本量の機械的振動エネルギーを受動減衰素子により放散するという利点がある。依然として残っている振動エネルギーを、続いて能動減衰素子により調節又は制御式に減衰させることができる。能動減衰素子の電子回路が放出する熱を、その結果として大幅に減らすことができる。

【0025】

図面を参照して本発明を以下で説明する。

【図面の簡単な説明】

【0026】

【図1】本発明の第１の実施形態を示す。

【図2】アクチュエータシステムの一点における温度を時間ｔに対してプロットしたグラフを示す。

【図3】熱輸送素子を流体冷却の代わりに用いる本発明のさらに別の変形形態を示す。

【図4】光学素子の振動エネルギーを対物レンズハウジングの内部ではなく外部で熱エネルギーとして放散する、本発明の実施形態を示す。

【図5】受動吸振器を受動減衰素子としてさらに用いる本発明の変形形態を示す。

【図6】本発明によるアクチュエータシステムを用いる半導体リソグラフィ用の投影露光装置を示す。

【発明を実施するための形態】

【0027】

図１は、本発明の第１の実施形態を示す。この場合、アクチュエータシステム１は、ピエゾ機構（piezo-arrangement）１１が作用するロータ又はランナ１２を示す。この場合、ピエゾ機構１１は、独国特許出願第１０２ ２５ ２６６号明細書に記載のように、剪断及びストロークピエゾ素子の組み合わせとして具現することができる。この場合、ロータ１２は、内側マウント９に接続し、内側マウント９には、本例で光学素子７として具現したコンポーネントを配置する。ピエゾ機構１１には冷却体６を設け、冷却体６自体は流路２を有する。ピエゾ機構１１、冷却体６、及び流路２を備える構造ユニットに関しては、外側マウント１５に配置する。流体ライン３は、外側マウント１５に通っており、アクチュエータシステム１の冷却に用いる流体を、上記流体ラインを通してポンプ４により搬送する。流体は、例えば、水、ヒマシ油、窒素、又は空気とすることができる。図１から、流体をレンズクーラ５に供給し、そこで流体がアクチュエータシステム１から吸収した熱を排出することが分かる。この場合、レンズクーラ５は、対物レンズハウジングを外部で冷却する役割を果たす温度調整ユニットである。対物レンズハウジングは、図１には示していないが、図１に示す外側マウント１５のように互いに螺合した外側マウントにより通常は形成する。ポンプ４は、信号ライン５１により制御／調節ユニット３０に接続し、制御／調節ユニット３０自体は、内側マウント９に配置した加速度センサ２０に信号ライン５０により接続する。したがって、特定の大きな加速度値を加速度センサ２０が判定した場合、制御／調節ユニットは、冷却体６を通る流体の流量を増加させることで、アクチュエータシステム１の予測される加熱強化を見越して冷却能力を高めておくように、ポンプ４を駆動することができる。類似の方法で、システム全体の制御／調節ユニット４０の対応する信号によりトリガして、ポンプ４の対応の駆動を、例えばリセット等の特定のシステム事象に先立って行うことができる。この目的で、２つの制御／調節ユニット３０及び４０を、信号ライン５２を介して接続する。図１において、いかにしてアクチュエータシステム１を流れる流体がアクチュエータシステム１の廃熱を吸収し、続いて上位システムの結像品質に不利な結果を与えることなく廃熱を放出することができる領域で廃熱を放散するかが、容易に分かる。要約すると、図１が概略的に示す断面図は、半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、アクチュエータシステム（１）は、ピエゾクローラ又はピエゾアクチュエータ、概してピエゾ機構１１を備える、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備える、投影露光装置である。さらに、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有する。図１が同じく概略的に示すのは、半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備え、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有する、投影露光装置である。さらに、制御／調節ユニット（３０）を、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、これは、加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適している。

【0028】

さらに、本体６０をピエゾ機構１１の領域に配置し、当該本体は、比熱容量が大きく、熱キャパシタのように働く。この場合、上記本体６０は、例えば水を充填した要素として実現することができる。さらに、図１の説明図の代替として、本体６０は、冷却体６と直接熱的に接触させるか、又はそれ自体を冷却体として実現することができる。

【0029】

図２を参照して本体６０の効果を説明する。図２は、アクチュエータシステム１の一点における温度Ｔを時間ｔに対してプロットしたグラフを示す。この場合、破線曲線は本体６０を用いない場合を表し、実線曲線は本体６０を用いた場合を表す。図２において、温度プロファイルが、本体６０を用いない場合よりも本体６０を用いた場合にかなり平坦であることが明確に分かる。しかしながら、経時的温度のプロファイルが平坦であるほど、特に調節のオーバーシュートの危険性がそれにより減るため、調節技術に関して有利である。

【0030】

図３は、熱輸送素子７０を流体冷却の変わりに用いる本発明のさらに別の変形形態を示す。この場合、熱輸送素子７０は、高い熱伝導率を有する材料からなる本体として実現し、その第１の端でアクチュエータシステム１と熱的に接触させて、レンズクーラ５の方向に外側マウント１５を通過させる。この場合、アクチュエータシステム１から離れたその第２の端において、熱輸送素子７０は、レンズクーラ５と熱的に接触するため、アクチュエータシステム１内に発生した熱をレンズクーラ５を介して放散する。熱輸送素子７０の熱伝導率を高めるために、熱輸送素子７０は、複合構造として、例えばナトリウムを充填した金属体として具現することもできる。本例では、熱輸送素子７０とアクチュエータシステム１との間の熱的な接触は、熱輸送素子７０と加熱領域を有するアクチュエータシステム１とを外側マウントに配置するように実現するため、熱輸送素子７０に起因し得る光学素子７の機械的擾乱の可能性が減る。これは、光学素子７を内側マウント９により外側マウント１５から機械的に実質的に分離するからである。説明したように、図３が概略的に示すのは、半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、少なくとも１つの光学素子と、外側マウント（１５）を備える少なくとも１つの光学素子（７）の機械的作動用のアクチュエータシステム（１）とを備える、投影露光装置である。アクチュエータシステム（１）は、少なくとも１つの光学素子（７）への入熱を減らす熱輸送素子（７０）を備え、入熱は、アクチュエータシステム（１）の動作中にアクチュエータシステム（１）の加熱領域に生じる熱により発生し、アクチュエータシステムの加熱領域は、光学素子（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）と熱的に接触させる。さらに、熱輸送素子（７０）は、対物レンズハウジングを通して外部に導く。以下では、図３による本発明のさらに他の実施形態を説明し、これらの実施形態は、例えば図１及び図５に関連して説明するような実施形態からの特徴を備えるが、それらの特徴は図３に必ずしも図示していない。このような実施形態の１つでは、熱輸送素子（７０）は、４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する。さらに別の実施形態では、熱輸送素子（７０）のうちアクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設ける。随意に、熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップ及び／又は減衰システムとして具現する。さらに、アクチュエータシステムは、ピエゾクローラ、ピエゾアクチュエータ、プランジャ型コイル、及び渦電流ブレーキからなる群から選択される素子を備えることができる。さらに別の実施形態では、光学素子（７）は、投影対物レンズ内に配置し、随意の減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）として具現することができる（図５を参照）。このような質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置する。さらに他の実施形態では、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）（図１を参照）と熱的に接触させる。さらに別の随意の特徴として、制御／調節ユニット（３０）が存在し、これは、入熱を減らす熱輸送素子（７０）を駆動することができる（図１も参照）。このような実施形態では、制御／調節ユニット（３０）は、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続することができ、加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき入熱を減らす熱輸送素子（７０）を駆動するのに適し得る。少なくとも２つの実施形態の１つに加えて、制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続することができるか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、入熱を減らす熱輸送素子（７０）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計することができる。さらに他の実施形態では、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現し、受動及び能動減衰素子を有する。概して、説明したアクチュエータシステム（１）は、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置する。

【0031】

図４は、光学素子７の振動エネルギーを対物レンズハウジング内ではなく外部で熱エネルギーとして放散する、本発明の実施形態を示す。図４の概略図は、光学素子７を外側マウント１５により防振質量体８０に機械的に結合したことを明示している。この場合、機械的結合は、それぞれ示すばね９０及び９１で表す。光学素子７が二方向矢印２００の方向に振動する場合、二方向矢印２１０の方向の振動も同様に、言及した機械的結合により防振質量体８０に誘導される。この振動のパラメータを振動センサ１３０が取得する。上記パラメータは、例えば、速度、加速度、又は偏向であり得る。振動センサ１３０は、調節ユニット１１０に信号ライン１２２を介して、振動センサ１３０の検出パラメータを調節ユニット１１０に通信するように接続する。上記パラメータに基づき、調節ユニット１１０は、制御ライン１２１を介してアクチュエータ１００に伝送する制御信号を規定し、アクチュエータ１００自体は、防振質量体８０に機械的に作用して防振質量体８０の振動を減衰する。結果として、光学素子７の振動は、すでに上述した機械的結合によっても効果的に減衰される。図４に示す解決手段の一態様は、光学素子７の振動の減衰に関連して生じる熱が、複数の外側マウントにより形成した対物レンズハウジング内で生じるのではなく、そのような対物レンズハウジング外に放出されることにある。これにより、上記熱が上位光学システムの結像品質又は他の動作特性に悪影響を及ぼす可能性なく放熱の可能性の改善が得られる。要約すると、図４に概略的に示す断面は、投影対物レンズを備える半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、投影対物レンズは、投影対物レンズハウジングと、投影対物レンズ内に配置した少なくとも１つの光学コンポーネント（７）の機械的作動用のアクチュエータシステム（１）（例えば、図１又は図３に示す）とを有する、投影露光装置である。アクチュエータシステム（１）は、随意に、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つの光学コンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）（図１〜図３に関連して説明したような）を有する。さらに、随意のアクチュエータシステム（１）は、減衰システムを含み、減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）を備え、質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置する。

【0032】

図５は、本発明のさらに別の変形形態を示し、この場合、図３に示す能動アクチュエータシステム１に加えて、受動吸振器３００を受動減衰素子として用いる。図示の例では、吸振器３００は、内側マウント９に配置し、内側マウント９の振動の減衰に寄与する。結果として、アクチュエータシステム１のような能動減衰システムにより減衰しなければならない減衰部分が減ることで、全体として能動減衰のための制御／調節労力の低減が促され、能動減衰システムの電子回路が放出する熱が著しく減る。この場合、受動吸振器の適用は、図５に示す本発明の実施形態に限定されず、原理上、図１に示す実施形態に加えて、図示しない本発明のさらに他の変形形態で用いることもできる。上記から、図５が概略的に示す断面図は、半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備える、投影露光装置である。アクチュエータシステム（１）は、受動及び能動（図４で説明したような）減衰素子を備える減衰システムとして具現し、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段７０を有する。代替的又は付加的に、入熱を減らす手段は、図１及び図３の実施形態に関連して説明し参照符号６０，６，２，又は４で示したものと同等又は同様に具現することができる。

【0033】

図６は、本発明によるアクチュエータシステムを用いる半導体リソグラフィ用の投影露光装置３１０を示す。この装置は、感光材料でコーティングした基板上に構造を露光する役割を果たし、上記基板は、概して主に、シリコンからなりウェーハ３２０と称し、例えばコンピュータチップ等の半導体コンポーネントの生産のためのものである。

【0034】

この場合、投影露光装置３１０は、照明系３３０と、ウェーハ３２０上のその後の構造を決定する構造を設けたマスク、いわゆるレチクル３５０を受け取り正確に位置決めするデバイス３４０と、上記ウェーハ３２０を保持し、移動させ、正確に位置決めするデバイス３６０と、結像デバイス、すなわち投影対物レンズ３７０とを備え、投影対物レンズ３７０は、マウント３９０により投影対物レンズ３７０の対物レンズハウジング４００に取り付けた複数の光学素子３８０を備える。

【0035】

この場合、基本的な機能原理は、レチクル３５０に導入した構造をウェーハ３２０に結像させるようになっており、結像は、概して縮小式に行う。

【0036】

露光の実行後、ウェーハ３２０をさらに矢印方向に移動させることで、レチクル３５０により規定済みの構造をそれぞれが有する複数の個別視野を同じウェーハ３２０に露光する。投影露光装置３１０においてウェーハ３２０が段階的に徐々に移動するため、投影露光装置３１０はステッパとも称する。

【0037】

照明系３３０は、ウェーハ３２０へのレチクル３５０の結像に必要な投影ビーム４１０、例えば光又は同様の電磁放射線を提供する。レーザ等をこの放射線源として用いることができる。放射線は、照明系３３０内で光学素子により、投影ビーム４１０がレチクル３５０への衝突時に波面の直径、偏光、形状等に関する所望の特性を有するように整形する。

【0038】

すでに上述したように、ビーム４１０によりレチクル３５０の像を生成し、投影対物レンズ３７０により対応して縮小してウェーハ３２０に転写する。投影対物レンズ３７０は、複数の個別の屈折、回折、及び／又は反射素子３８０、例えばレンズ、ミラー、プリズム、終端板等を有する。この場合、光学素子の１つ又は複数に、図１、図３、又は図５に示すシステムのようなアクチュエータシステムを設けることができる。

【0039】

本発明は、その趣旨又は本質的属性から逸脱せずに他の形態で具現することができ、したがって、本発明の範囲を示す添付の特許請求の範囲及び上記明細書の両方を参照すべきである。本発明は、本明細書の一部を形成するが特許請求の範囲ではない以下の節Ｃ〜Ｇに規定する態様も含み、これらは、欧州特許庁法律審判部（legal board of appeal）の審決Ｊ１５／８８に従ったものである。節Ｃ〜Ｇにおける参照符号は、上記図の説明に関連して説明する参照符号を指す。節により説明する実施形態の特徴は、本発明の実施形態を表す。さらに、請求項及び／又は節の特徴を他の請求項又は節と組み合わせ且つ／又はそれらの１つで置き換えるような実施形態も、本発明に包含される。

【0040】

Ｃ１．半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、ピエゾクローラ又はピエゾアクチュエータを備える、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備え、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有する、投影露光装置。

【0041】

Ｃ２．節Ｃ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段（２，６，４）は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域を通して流体を輸送するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0042】

Ｃ３．節Ｃ２に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、流体が流れるライン（２）として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0043】

Ｃ４．節Ｃ３に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、水又はヒマシ油又は窒素若しくは空気等のガスであることを特徴とする、投影露光装置。

【0044】

Ｃ５．節Ｃ２に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と相互作用する、特に加熱領域を流れるガス流として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0045】

Ｃ６．節Ｃ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と熱的に接触し約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する、熱輸送素子（７０）であることを特徴とする、投影露光装置。

【0046】

Ｃ７．節Ｃ６に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）のうちアクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設けたことを特徴とする、投影露光装置。

【0047】

Ｃ８．節Ｃ６又はＣ７に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0048】

Ｃ９．節Ｃ６〜Ｃ８のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、投影対物レンズ内に配置した光学素子（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）は、対物レンズハウジングを通して外部に導いたことを特徴とする、投影露光装置。

【0049】

Ｃ１０．節Ｃ１〜Ｃ９のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0050】

Ｃ１１．節Ｃ１〜Ｃ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、プランジャ型コイル又は渦電流ブレーキを備えることを特徴とする、投影露光装置。

【0051】

Ｃ１２．節Ｃ１０に記載の投影露光装置（３１０）において、光学素子（７）は、投影対物レンズ内に配置し、減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）として具現し、該質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0052】

Ｃ１３．節Ｃ１〜Ｃ１２のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）と熱的に接触させたことを特徴とする、投影露光装置。

【0053】

Ｃ１４．節Ｃ１〜Ｃ１３のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、入熱を減らす手段（４）を駆動することができる制御／調節ユニット（３０）があることを特徴とする、投影露光装置。

【0054】

Ｃ１５．節Ｃ１４に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0055】

Ｃ１６．節Ｃ１４又はＣ１５に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続するか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、入熱を減らす手段（４）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計したことを特徴とする、投影露光装置。

【0056】

Ｃ１７．節Ｃ１〜Ｃ１６のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現し、受動及び能動減衰素子を有することを特徴とする、投影露光装置。

【0057】

Ｃ１８．節Ｃ１〜Ｃ１７のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0058】

Ｄ１．投影対物レンズを備える半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、投影対物レンズは、投影対物レンズハウジングと、投影対物レンズ内に配置した少なくとも１つの光学コンポーネント（７）の機械的作動用のアクチュエータシステム（１）とを有し、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つの光学コンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有し、アクチュエータシステムは、減衰システムを含み、減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）を備え、該質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置した、投影露光装置。

【0059】

Ｄ２．節Ｄ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段（２，６，４）は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域を通して流体を輸送するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0060】

Ｄ３．節Ｄ２に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、流体が流れるライン（２）として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0061】

Ｄ４．節Ｄ３に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、水又はヒマシ油又は窒素若しくは空気等のガスであることを特徴とする、投影露光装置。

【0062】

Ｄ５．節Ｄ２に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と相互作用する、特に加熱領域を流れるガス流として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0063】

Ｄ６．節Ｄ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と熱的に接触し約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する、熱輸送素子（７０）であることを特徴とする、投影露光装置。

【0064】

Ｄ７．節Ｄ６に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）のうちアクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設けたことを特徴とする、投影露光装置。

【0065】

Ｄ８．節Ｄ６又はＤ７に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0066】

Ｄ９．節Ｄ６〜Ｄ８のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、投影対物レンズ内に配置した光学素子（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）は、対物レンズハウジングを通して外部に導いたことを特徴とする、投影露光装置。

【0067】

Ｄ１０．節Ｄ１〜Ｄ９のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステムは、ピエゾクローラ、ピエゾアクチュエータ、プランジャ型コイル、及び渦電流ブレーキからなる群から選択される素子を備えることを特徴とする、投影露光装置。

【0068】

Ｄ１１．節Ｄ１〜Ｄ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）と熱的に接触させたことを特徴とする、投影露光装置。

【0069】

Ｄ１２．節Ｄ１〜Ｄ１１のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、入熱を減らす手段（４）を駆動することができる制御／調節ユニット（３０）があることを特徴とする、投影露光装置。

【0070】

Ｄ１３．節Ｄ１２に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３
０）は、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0071】

Ｄ１４．節Ｄ１２又はＤ１３に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続するか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、入熱を減らす手段（４）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計したことを特徴とする、投影露光装置。

【0072】

Ｄ１５．節Ｄ１〜Ｄ１４のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現し、受動及び能動減衰素子を有することを特徴とする、投影露光装置。

【0073】

Ｄ１６．節Ｄ１〜Ｄ１５のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0074】

Ｅ１．半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備え、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じた熱に起因した少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）と、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適している、制御／調節ユニット（３０）とを有する、投影露光装置。

【0075】

Ｅ２．節Ｅ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段（２，６，４）は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域を通して流体を輸送するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0076】

Ｅ３．節Ｅ２に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、流体が流れるライン（２）として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0077】

Ｅ４．節Ｅ３に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、水又はヒマシ油又は窒素若しくは空気等のガスであることを特徴とする、投影露光装置。

【0078】

Ｅ５．節Ｅ２に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と相互作用する、特に加熱領域を流れるガスとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0079】

Ｅ６．節Ｅ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と熱的に接触し約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する、熱輸送素子（７０）であることを特徴とする、投影露光装置。

【0080】

Ｅ７．節Ｅ６に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）のうちアクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設けたことを特徴とする、投影露光装置。

【0081】

Ｅ８．節Ｅ６又はＥ７に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0082】

Ｅ９．節Ｅ６〜Ｅ８のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、投影対物レンズ内に配置した光学素子（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）は、対物レンズハウジングを通して外部に導いたことを特徴とする、投影露光装置。

【0083】

Ｅ１０．節Ｅ１〜Ｅ９のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0084】

Ｅ１１．節Ｅ１〜Ｅ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステムは、ピエゾクローラを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0085】

Ｅ１２．節Ｅ１〜Ｅ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、プランジャ型コイルを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0086】

Ｅ１３．節Ｅ１〜Ｅ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、渦電流ブレーキを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0087】

Ｅ１４．節Ｅ１０に記載の投影露光装置（３１０）において、光学コンポーネント（７）は、投影対物レンズ内に配置し、減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）として具現し、該質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0088】

Ｅ１５．節Ｅ１〜Ｅ１４のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）と熱的に接触させたことを特徴とする、投影露光装置。

【0089】

Ｅ１６．節Ｅ１〜Ｅ１５のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続するか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、入熱を減らす手段（４）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計したことを特徴とする、投影露光装置。

【0090】

Ｅ１７．節Ｅ１〜Ｅ１６のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現し、受動及び能動減衰素子を有することを特徴とする、投影露光装置。

【0091】

Ｅ１８．節Ｅ１〜Ｅ１７のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0092】

Ｆ１．半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備え、アクチュエータシステム（１）は、受動及び能動減衰素子を備える減衰システムとして具現し、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じる熱に起因した少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有する、投影露光装置。

【0093】

Ｆ２．節Ｆ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段（２，６，４）は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域を通して流体を輸送するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0094】

Ｆ３．節Ｆ２に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、流体が流れるライン（２）として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0095】

Ｆ４．節Ｆ３に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、水又はヒマシ油又は窒素若しくは空気等のガスであることを特徴とする、投影露光装置。

【0096】

Ｆ５．節Ｆ２に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と相互作用する、特に加熱領域を流れるガスとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0097】

Ｆ６．節Ｆ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と熱的に接触し約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する、熱輸送素子（７０）であることを特徴とする、投影露光装置。

【0098】

Ｆ７．節Ｆ６に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）のうちアクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設けたことを特徴とする、投影露光装置。

【0099】

Ｆ８．節Ｆ６又はＦ７に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0100】

Ｆ９．節Ｆ６〜Ｆ８のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、投影対物レンズ内に配置した光学素子（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）は、対物レンズハウジングを通して外部に導いたことを特徴とする、投影露光装置。

【0101】

Ｆ１０．節Ｆ１〜Ｆ９のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0102】

Ｆ１１．節Ｆ１〜Ｆ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステムは、ピエゾクローラを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0103】

Ｆ１２．節Ｆ１〜Ｆ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、プランジャ型コイルを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0104】

Ｆ１３．節Ｆ１〜Ｆ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、渦電流ブレーキを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0105】

Ｆ１４．節Ｆ１０に記載の投影露光装置（３１０）において、光学コンポーネント（７
）は、投影対物レンズ内に配置し、減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）として具現し、該質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0106】

Ｆ１５．節Ｆ１〜Ｆ１４のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）と熱的に接触させたことを特徴とする、投影露光装置。

【0107】

Ｆ１６．節Ｆ１〜Ｆ１５のいずれか１節に記載の投影露光装置において、入熱を減らす手段（４）を駆動することができる制御／調節ユニット（３０）があることを特徴とする、投影露光装置。

【0108】

Ｆ１７．Ｆ１６に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0109】

Ｆ１８．節Ｆ１６又はＦ１７に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続するか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、入熱を減らす手段（４）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計したことを特徴とする、投影露光装置。

【0110】

Ｆ１９．節Ｆ１〜Ｆ１８のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）を、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0111】

Ｇ１．半導体リソグラフィ用の投影露光装置（３１０）であって、投影露光装置の少なくとも１つのコンポーネントの機械的作動用のアクチュエータシステム（１）を備え、アクチュエータシステム（１）は、アクチュエータシステム（１）の動作中に生じる熱に起因した少なくとも１つのコンポーネント（７）への入熱を減らす少なくとも１つの手段（６０，６，２，４）を有することを特徴とする、投影露光装置。

【0112】

Ｇ２．節Ｇ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段（２，６，４）は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域を通して流体を輸送するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0113】

Ｇ３．節Ｇ２に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、流体が流れるライン（２）として具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0114】

Ｇ４．節Ｇ３に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、水又はヒマシ油又は窒素若しくは空気等のガスであることを特徴とする、投影露光装置。

【0115】

Ｇ５．節Ｇ２に記載の投影露光装置（３１０）において、流体は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と相互作用する、特に加熱領域を流れるガスとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0116】

Ｇ６．節Ｇ１に記載の投影露光装置（３１０）において、上記手段は、アクチュエータシステム（１）の加熱領域と熱的に接触し約４００Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上の熱伝導率を有する、熱輸送素子（７０）であることを特徴とする、投影露光装置。

【0117】

Ｇ７．節Ｇ６に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）のうちアクチュエータシステム（１）の加熱領域から離れた側に、冷却体（５）を設けたことを特徴とする、投影露光装置。

【0118】

Ｇ８．節Ｇ６又はＧ７に記載の投影露光装置（３１０）において、熱輸送素子（７０）は、熱伝導ストリップとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0119】

Ｇ９．節Ｇ６〜Ｇ８のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、投影対物レンズ内に配置した光学素子（７）の外側マウント（１５）に配置し、熱輸送素子（７０）は、対物レンズハウジングを通して外部に導いたことを特徴とする、投影露光装置。

【0120】

Ｇ１０．節Ｇ１〜Ｇ９のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現したことを特徴とする、投影露光装置。

【0121】

Ｇ１１．節Ｇ１〜Ｇ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステムは、ピエゾクローラを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0122】

Ｇ１２．節Ｇ１〜Ｇ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、プランジャ型コイルを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0123】

Ｇ１３．節Ｇ１〜Ｇ１０のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、渦電流ブレーキを有することを特徴とする、投影露光装置。

【0124】

Ｇ１４．節Ｇ１０に記載の投影露光装置（３１０）において、光学コンポーネント（７）は、投影対物レンズ内に配置し、減衰システムは、ダンパ（１００）を有する防振質量体（８０）として具現し、該質量体は、対物レンズハウジングの外部に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【0125】

Ｇ１５．節Ｇ１〜Ｇ１４のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）の加熱領域は、比熱容量の大きな本体（６０）と熱的に接触させたことを特徴とする、投影露光装置。

【0126】

Ｇ１６．節Ｇ１〜Ｇ１５のいずれか１節に記載の投影露光装置において、入熱を減らす手段（４）を駆動することができる制御／調節ユニット（３０）があることを特徴とする、投影露光装置。

【0127】

Ｇ１７．Ｇ１６に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、少なくとも１つの加速度センサ（２０）に接続し、加速度センサ（２０）が判定したパラメータに基づき入熱を減らす手段（４）を駆動するのに適していることを特徴とする、投影露光装置。

【0128】

Ｇ１８．節Ｇ１６又はＧ１７に記載の投影露光装置（３１０）において、制御／調節ユニット（３０）は、投影露光装置のさらに別の制御／調節ユニット（４０）に接続するか、又はこの制御／調節ユニット（４０）の一部として具現して、入熱を減らす手段（４）を急迫システム事象に基づき駆動することができるように設計したことを特徴とする、投影露光装置。

【0129】

Ｇ１９．節Ｇ１〜Ｇ１８のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、減衰システムとして具現し、受動及び能動減衰素子を有することを特徴とする、投影露光装置。

【0130】

Ｇ２０．節Ｇ１〜Ｇ１９のいずれか１節に記載の投影露光装置（３１０）において、アクチュエータシステム（１）は、投影露光装置（３１０）の投影対物レンズ（３７０）内に配置したことを特徴とする、投影露光装置。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】