特許 5841449 拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5841449

(24)【登録日】2015年11月20日

(45)【発行日】2016年1月13日

(54)【発明の名称】拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20151217BHJP

   B05C 5/02 20060101ALI20151217BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20151217BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/30 564Z

   B05C5/02

   B05C11/10

【請求項の数】8

【全頁数】21

(21)【出願番号】特願2012-26822(P2012-26822)

(22)【出願日】2012年2月10日

(65)【公開番号】特開2013-165137(P2013-165137A)

(43)【公開日】2013年8月22日

【審査請求日】2014年7月3日

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100101878

【弁理士】

【氏名又は名称】木下 茂

(72)【発明者】

【氏名】稲益 寿史

(72)【発明者】

【氏名】小笠原 幸雄

(72)【発明者】

【氏名】田代 佳

【審査官】 中村 直行

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００８−２６８９０６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１６７６０７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−２７０８４１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１６７５０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−１６７６０７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１３６８９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−０８７７７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−２３７１２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−１４９２４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−２６２１２７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−２９００３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１８５４０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−２３２２６９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ２１／０２７

Ｂ０５Ｃ ５／０２

Ｂ０５Ｃ １１／１０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、ノズル長手方向の一端側から他端側まで移動させることにより、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭する拭き取りパッドであって、
前記拭き取りパッドは、
移動方向側に形成された前面と、
移動方向後側に形成された後面と、
移動方向後側の前記後面の上端に形成された、移動方向側に傾斜する傾斜面と、
前記前面の上側と傾斜面の上側に形成された上面と、
前記前面と、前記後面及び傾斜面の左右両側に形成された側面と、
前記パッド上面側において前記移動方向に沿って、対向する傾斜面で形成されたＶ字溝と、
を具備し、
更に、前記Ｖ字溝の後端縁部により、移動方向側に傾斜する前記傾斜面に形成された、前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と前記ノズル側面とに当接可能に設けられた掻き取り辺と、
前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための、前記Ｖ字溝からなる導出路と、を備え、
前記Ｖ字溝は、前記掻き取り辺から前方に向かって溝幅と深さが次第に大きくなるよう形成され、
移動方向側に傾斜する前記傾斜面に対するＶ字溝の傾斜面の傾斜角はそれぞれ９０°以上に形成されていることを特徴とする拭き取りパッド。

【請求項2】

被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、ノズル長手方向の一端側から他端側まで移動させることにより、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭する拭き取りパッドであって、
前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と、前記ノズル側面とに当接可能に設けられた掻き取り辺と、前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための導出路とを備え、
前記掻き取り辺は、前記移動方向においてパッド前面上部に正面視においてＶ字状に形成されると共に、前記掻き取り辺の左右両側に前方に突出する鍔部が設けられることにより、平面視において前方に向かって中央から左右両側に広がるＶ字状に形成され、
前記鍔部の下面を含むパッド前面側により前記導出路が形成されていることを特徴とする拭き取りパッド。

【請求項3】

前記掻き取り辺の所定部位に所定の幅と深さを有する切り欠き部が設けられていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載された拭き取りパッド。

【請求項4】

被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭するノズルメンテナンス装置であって、
前記拭き取りパッドと、
前記拭き取りパッドを、直立姿勢で保持すると共に前記ノズルの長手方向に沿って前記ノズルの一端から他端まで移動させるパッド移動手段と、を備え、
前記拭き取りパッドは、
移動方向側に形成された前面と、
移動方向後側に形成された後面と、
移動方向後側の前記後面の上端に形成された、移動方向側に傾斜する傾斜面と、
前記前面の上側と傾斜面の上側に形成された上面と、
前記前面と、前記後面及び傾斜面の左右両側に形成された側面と、
前記パッド上面側において前記移動方向に沿って、対向する傾斜面で形成されたＶ字溝と、
を具備し、
更に、前記Ｖ字溝の後端縁部により、移動方向側に傾斜する前記傾斜面に形成された、前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と前記ノズル側面とに当接する掻き取り辺と、
前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための、前記Ｖ字溝からなる導出路と、を備え、
前記Ｖ字溝は、前記掻き取り辺から前方に向かって溝幅と深さが次第に大きくなるよう形成され、
移動方向側に傾斜する前記傾斜面に対するＶ字溝の傾斜面の傾斜角はそれぞれ９０°以上に形成されている、
ことを特徴とするノズルメンテナンス装置。

【請求項5】

被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭するノズルメンテナンス装置であって、
前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と、前記ノズル側面とに当接する掻き取り辺を有すると共に、前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための導出路を有する拭き取りパッドと、
前記拭き取りパッドを、直立姿勢で保持すると共に前記ノズルの長手方向に沿って前記ノズルの一端から他端まで移動させるパッド移動手段とを備え、
前記拭き取りパッドの掻き取り辺は、前記パッドの移動方向においてパッド前面上部に正面視においてＶ字状に形成されると共に、前記掻き取り辺の左右両側に前方に突出する鍔部が設けられることにより、平面視において前方に向かって中央から左右両側に広がるＶ字状に形成され、前記鍔部の下面を含むパッド前面側により前記導出路が形成されていることを特徴とするノズルメンテナンス装置。

【請求項6】

前記掻き取り辺の所定部位に所定の幅と深さを有する切り欠き部が設けられていることを特徴とする請求項４または請求項５に記載されたノズルメンテナンス装置。

【請求項7】

前記ノズルの直下に配置可能に設けられ、
前記拭き取りパッドにより処理液が払拭された前記ノズルの吐出口とノズル側面とを溶剤蒸気の雰囲気中に保つためのノズルバスを備えることを特徴とする請求項４乃至請求項６のいずれかに記載されたノズルメンテナンス装置。

【請求項8】

前記請求項４乃至請求項７のいずれかに記載されたノズルメンテナンス装置を用いる塗布処理装置であって、
前記ノズルメンテナンス装置と、
前記被処理基板の基板面に対し、前記基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口から処理液を吐出する前記ノズルと、
前記ノズルが前記被処理基板の基板面に対しその一端から他端まで走査するように前記ノズルと前記基板とを相対的に移動させる相対移動手段とを備えることを特徴とする塗布処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置に関し、特にスリット状の吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施す拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造においては、いわゆるフォトリソグラフィ工程により回路パターンを形成することが行われている。
このフォトリソグラフィ工程では、ガラス基板等の被処理基板に所定の膜を成膜した後、処理液であるフォトレジスト（以下、レジストと称する）が塗布されレジスト膜（感光膜）が形成される。そして、回路パターンに対応して前記レジスト膜が露光され、これが現像処理され、パターン形成される。
このようなフォトリソグラフィ工程において、被処理基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成する方法として、スリット状の吐出口からレジスト液を帯状に吐出し、レジストを基板上に塗布する方法がある。

【0003】

この方法を用いた従来のレジスト塗布装置について、図２９を用いて簡単に説明する。
図２９に示すレジスト塗布装置２００は、基板Ｇを載置するステージ２０１と、このステージ２０１の上方に配設されるレジスト供給ノズル２０２と、このノズル２０２を移動させるノズル移動手段２０３とを具備している。
レジスト供給ノズル２０２には、基板の幅方向に延びる微小隙間を有するスリット状の吐出口２０２ａが設けられ、レジスト液供給源２０４から供給されたレジスト液Ｒを吐出口２０２ａから吐出するようになされている。

【0004】

ところで、スリット状の吐出口２０２ａは、微小な隙間により形成されているため、塗布処理を行った後のノズル先端（吐出口２０２ａ）を放っておくと、レジスト液の乾燥等により目詰まりが生じ、図３０に示すようにノズル幅方向に均一な吐出ができない。
このため、レジスト塗布装置２００は、塗布処理後にノズル先端に付着して残るレジスト液Ｒの状態を整えるためのプライミング手段２０８を具備している。
このプライミング手段２０８は、基板Ｇへの塗布処理前において、回転自在な円柱形状のプライミングローラ２０７の表面にレジスト液Ｒを吐出し、ノズル先端に付着したレジスト液Ｒを均一化するものである（以下、これをプライミング処理と称する）。

【0005】

この構成において、基板Ｇへのレジスト塗布処理時にあっては、ノズル２０２をノズル移動手段２０３によって水平移動させながら、スリット状の吐出口２０２ａからレジスト液Ｒを基板の表面全体に帯状に吐出することにより、レジスト液Ｒの塗布処理がなされる。
また、ノズル２０２の待機時にあっては、前記プライミング手段２０８によるノズルのプライミング処理が行われる。このプライミング処理では、ノズル２０２の吐出口２０２ａの塗布方向後側において、基板幅方向に均一なレジスト液をビードライン状に付着した状態にすることで、次の塗布処理の開始時から均一な塗布処理を行うことができる。
尚、このようなレジスト塗布装置については特許文献１に記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特許第４０４００２５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

前記したように、基板幅方向に延びるスリット状の吐出口２０２ａを有するノズル２０２に対しては、基板Ｇへの塗布処理前にプライミング処理を施すことにより、ノズル先端に付着したレジスト液Ｒの状態を整えることができる。
しかしながら、前記プライミング処理にあっては、回転するプライミングローラ２０７のローラ面に対し、大量のレジスト液Ｒを吐出する必要があり、レジスト液Ｒの（無駄な）消費が多すぎるという課題があった。

【0008】

また、プライミング処理後にプライミングローラ２０７を洗浄する必要があり、そのために貯留槽２０９に貯留する洗浄液が大量に必要となるため、コストが嵩むという課題があった。
更には、プライミング処理及び、プライミングローラ２０７の洗浄処理に長い時間を要し、タクトタイムが長くなるために生産性が低下するという課題があった。

【0009】

本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置において、処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することのできる拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置を提供する。

【課題を解決するための手段】

【0010】

前記した課題を解決するために、本発明に係る拭き取りパッドは、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、ノズル長手方向の一端側から他端側まで移動させることにより、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭する拭き取りパッドであって、前記拭き取りパッドは、移動方向側に形成された前面と、移動方向後側に形成された後面と、移動方向後側の前記後面の上端に形成された、移動方向側に傾斜する傾斜面と、前記前面の上側と傾斜面の上側に形成された上面と、前記前面と、前記後面及び傾斜面の左右両側に形成された側面と、前記パッド上面側において前記移動方向に沿って、対向する傾斜面で形成されたＶ字溝と、を具備し、更に、前記Ｖ字溝の後端縁部により、移動方向側に傾斜する前記傾斜面に形成された、前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と前記ノズル側面とに当接可能に設けられた掻き取り辺と、前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための、前記Ｖ字溝からなる導出路と、を備え、前記Ｖ字溝は、前記掻き取り辺から前方に向かって溝幅と深さが次第に大きくなるよう形成され、移動方向側に傾斜する前記傾斜面に対するＶ字溝の傾斜面の傾斜角はそれぞれ９０°以上に形成されていることに特徴を有する。

【0011】

或いは、前記した課題を解決するために、本発明に係る拭き取りパッドは、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、ノズル長手方向の一端側から他端側まで移動させることにより、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭する拭き取りパッドであって、前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と、前記ノズル側面とに当接可能に設けられた掻き取り辺と、前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための導出路とを備え、前記掻き取り辺は、前記移動方向においてパッド前面上部に正面視においてＶ字状に形成されると共に、前記掻き取り辺の左右両側に前方に突出する鍔部が設けられることにより、平面視において前方に向かって中央から左右両側に広がるＶ字状に形成され、前記鍔部の下面を含むパッド前面側により前記導出路が形成されていることに特徴を有する。

【0012】

このよう構成することにより、被処理基板への処理液の塗布処理後において、ノズル先端に付着している余分な処理液をノズル掻き取り辺により掻き取り、掻き取った処理液を（移動する）拭き取りパッドの後方に逃がすこと無く効果的に払拭することができる。
その結果、従来のようなプライミングローラが不要となり、プライミング処理のためにローラ面に処理液を吐出する必要がないため、処理液の消費を低く抑えることができる。
また、従来のプライミングローラを用いたプライミング処理に比べ、ノズル先端のメンテナンス処理に要する時間を大幅に短縮することができ、タクトタイムが短縮され、生産性を向上することができる。更には、プライミングローラが不要であるために、ローラの洗浄に用いる洗浄液も不要となり、コストを大幅に低減することができる。

【0013】

また、ノズル先端の所定部位に濡れ性を持たせ、処理液の流れを所望の方向に誘導しやすくするために、前記掻き取り辺の所定部位に所定の幅と深さを有する切り欠き部が設けられていることが望ましい。
このように構成することによって、拭き取りパッドによりノズル先端を拭き取った後に、ノズル先端の所定部位にビードライン状に処理液を残し、その部位に濡れ性を持たせることができる。その結果、塗布処理における塗布斑の発生を抑制することができる。

【0014】

また、前記した課題を解決するために、本発明に係るノズルメンテナンス装置は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭するノズルメンテナンス装置であって、前記拭き取りパッドと、前記拭き取りパッドを、直立姿勢で保持すると共に前記ノズルの長手方向に沿って前記ノズルの一端から他端まで移動させるパッド移動手段と、を備え、前記拭き取りパッドは、移動方向側に形成された前面と、移動方向後側に形成された後面と、移動方向後側の前記後面の上端に形成された、移動方向側に傾斜する傾斜面と、前記前面の上側と傾斜面の上側に形成された上面と、前記前面と、前記後面及び傾斜面の左右両側に形成された側面と、前記パッド上面側において前記移動方向に沿って、対向する傾斜面で形成されたＶ字溝と、を具備し、更に、前記Ｖ字溝の後端縁部により、移動方向側に傾斜する前記傾斜面に形成された、前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と前記ノズル側面とに当接する掻き取り辺と、前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための、前記Ｖ字溝からなる導出路と、を備え、前記Ｖ字溝は、前記掻き取り辺から前方に向かって溝幅と深さが次第に大きくなるよう形成され、移動方向側に傾斜する前記傾斜面に対するＶ字溝の傾斜面の傾斜角はそれぞれ９０°以上に形成されている、ことに特徴を有する。

【0015】

或いは、前記した課題を解決するために、本発明に係るノズルメンテナンス装置は、被処理基板の幅方向に長いスリット状の吐出口を有し、前記吐出口の前後両側に平行に延びるノズル側面が吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されたノズルに対し、前記吐出口と前記ノズル側面とに付着した処理液を払拭するノズルメンテナンス装置であって、前記吐出口の長手方向に交差して、前記吐出口と、前記ノズル側面とに当接する掻き取り辺を有すると共に、前記ノズル長手方向に沿った移動方向において前記掻き取り辺より前側に、該掻き取り辺により掻き取られ処理液を排出するための導出路を有する拭き取りパッドと、前記拭き取りパッドを、直立姿勢で保持すると共に前記ノズルの長手方向に沿って前記ノズルの一端から他端まで移動させるパッド移動手段とを備え、前記拭き取りパッドの掻き取り辺は、前記パッドの移動方向においてパッド前面上部に正面視においてＶ字状に形成されると共に、前記掻き取り辺の左右両側に前方に突出する鍔部が設けられることにより、平面視において前方に向かって中央から左右両側に広がるＶ字状に形成され、前記鍔部の下面を含むパッド前面側により前記導出路が形成されていることに特徴を有する。

【0016】

このよう構成することにより、被処理基板への処理液の塗布処理後において、ノズル先端に付着している余分な処理液をノズル掻き取り辺により掻き取り、掻き取った処理液を（移動する）拭き取りパッドの後方に逃がすこと無く効果的に払拭することができる。
その結果、従来のようなプライミングローラが不要となり、プライミング処理のためにローラ面に処理液を吐出する必要がないため、処理液の消費を低く抑えることができる。
また、従来のプライミングローラを用いたプライミング処理に比べ、ノズル先端のメンテナンス処理に要する時間を大幅に短縮することができ、タクトタイムが短縮され、生産性を向上することができる。更には、プライミングローラが不要であるために、ローラの洗浄に用いる洗浄液も不要となり、コストを大幅に低減することができる。

【0017】

また、ノズル先端の所定部位に濡れ性を持たせ、処理液の流れを所望の方向に誘導しやすくするために、前記掻き取り辺の所定部位に所定の幅と深さを有する切り欠き部が設けられていることが望ましい。
このように構成することによって、拭き取りパッドによりノズル先端を拭き取った後に、ノズル先端の所定部位にビードライン状に処理液を残し、その部位に濡れ性を持たせることができる。その結果、塗布処理における塗布斑の発生を抑制することができる。

【0018】

また、前記ノズルの直下に配置可能に設けられ、前記拭き取りパッドにより処理液が払拭された前記ノズルの吐出口とノズル側面とを溶剤蒸気の雰囲気中に保つためのノズルバスを備えることが望ましい。
前記ノズルバスを備えることにより、ノズル先端（吐出口）を乾燥させることなく、ノズルを次の被処理基板への塗布処理まで待機させることができる。

【0019】

また、前記した課題を解決するために、本発明に係る塗布処理装置は、前記ノズルメンテナンス装置を用いる塗布処理装置であって、前記ノズルメンテナンス装置と、前記被処理基板の基板面に対し、前記基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口から処理液を吐出する前記ノズルと、前記ノズルが前記被処理基板の基板面に対しその一端から他端まで走査するように前記ノズルと前記基板とを相対的に移動させる相対移動手段とを備えることに特徴を有する。
このように構成することにより、処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することができる。

【発明の効果】

【0020】

本発明によれば、被処理基板の幅方向に延びるスリット状の吐出口が形成され、前記吐出口から吐出された処理液が付着するノズル先端に対し、前記処理液の払拭処理を施すノズルメンテナンス装置において、処理液等の薬液の無駄な消費を無くし、且つ、タクトタイムを短縮し、生産性を向上することのできる拭き取りパッド及びノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0021】

【図1】図１は、本発明のノズルメンテナンス装置の適用可能なレジスト塗布装置の一構成例を示す平面図である。

【図2】図２は、図１のレジスト塗布装置が備えるノズルの断面図である。

【図3】図３は、図１のレジスト塗布装置が備えるノズルの正面図である。

【図4】図４は、図１のレジスト塗布装置が備える待機部（ノズルメンテナンス装置）の概略構成を示す断面図である。

【図5】図５は、図４の待機部が備えるスワイプ部の斜視図である。

【図6】図６は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第一の実施形態を示す図であって、その移動方向前側から見た斜視図である。

【図7】図７は、図６の拭き取りパッドの平面図である。

【図8】図８は、図６の拭き取りパッドを、その移動方向後側から見た斜視図である。

【図9】図９は、図６の拭き取りパッドを一部断面とした斜視図である。

【図10】図１０（ａ）乃至図１０（ｃ）は、図６の拭き取りパッドによりノズル先端を走査する状態を時系列に示すノズルの正面図である。

【図11】図１１は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第二の実施形態を示す図であって、その移動方向前側から見た斜視図である。

【図12】図１２は、図１１の拭き取りパッドを一部断面とした斜視図である。

【図13】図１３は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第三の実施形態を示す図であって、その移動方向前側から見た斜視図である。

【図14】図１４は、図１３の拭き取りパッドの平面図である。

【図15】図１５は、図１３の拭き取りパッドを、その移動方向後側から見た斜視図である。

【図16】図１６は、図１３の拭き取りパッドを一部断面とした斜視図である。

【図17】図１７は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第四の実施形態を示す図であって、その移動方向前側から見た斜視図である。

【図18】図１８は、図１７の拭き取りパッドの平面図である。

【図19】図１９は、図１７の拭き取りパッドを一部断面とした斜視図である。

【図20】図２０は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第五の実施形態を示す平面図である。

【図21】図２１は、図２０の拭き取りパッドの正面図である。

【図22】図２２は、図２０の拭き取りパッドの側面図である。

【図23】図２３は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第六の実施形態を示す正面図、及びノズルの側面図である。

【図24】図２４は、図２３の拭き取りパッドによりノズル先端を拭き取った後の状態を示すノズルの斜視図である。

【図25】図２５は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第七の実施形態を示す正面図、及びノズルの側面図である。

【図26】図２６は、図２５の拭き取りパッドによりノズル先端を拭き取った後の状態を示すノズルの斜視図である。

【図27】図２７は、図５のスワイプ部が有する拭き取りパッドの第八の実施形態を示す正面図、及びノズルの側面図である。

【図28】図２８は、図２７の拭き取りパッドによりノズル先端を拭き取った後の状態を示すノズルの斜視図である。

【図29】図２９は、従来のレジスト塗布装置の斜視図である。

【図30】図３０は、ノズル先端にプライミング処理を施さなかった場合のノズル先端の状態を示すノズルの斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0022】

以下、本発明の拭き取りパッド及びこのパッドを用いたノズルメンテナンス装置並びに塗布処理装置にかかる一実施形態を、図面に基づき説明する。尚、この実施形態にあっては、被処理基板をガラス基板として、このガラス基板に処理液であるレジスト液をノズルから吐出してレジスト塗布膜を形成する塗布処理装置、及びレジスト液が付着した前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス装置に適用した場合を例にとって説明する。

【0023】

図１は、本発明に係るノズルメンテナンス装置が搭載可能なレジスト塗布装置（塗布処理装置）の概略構成を示す平面図である。
このレジスト塗布装置１は、被処理基板例えばＦＰＤ用のガラス基板Ｇを気体の圧力により空中に浮かす浮上ステージ１０と、この浮上ステージ１０上で浮いている基板Ｇをステージ長手方向（Ｘ方向）に搬送する基板搬送機構２０（相対移動手段）と、浮上ステージ１０上を搬送される基板Ｇの上面にレジスト液を供給するノズル３２と、塗布処理の合間にノズル３２を待機させると共に所定のメンテナンス処理を施す待機部４２（ノズルメンテナンス装置）とを有している。

【0024】

浮上ステージ１０の上面には所定のガス（例えばエア）を上方に噴射する多数のガス噴射孔１２が設けられ、それらガス噴射口１２から噴射されるガスの圧力によって基板Ｇがステージ上面から一定の高さに浮上するように構成されている。
基板搬送機構２０は、浮上ステージ１０を挟んでＸ方向に延びる一対のガイドレール２２Ａ，２２Ｂと、これらガイドレール２２Ａ，２２Ｂに沿って往復移動可能な一対のスライダ２４と、浮上ステージ１０上で基板Ｇの両側端部を着脱自在に保持するようにスライダ２４に設けられた吸着パッド等の基板保持部材（図示せず）とを備えている。そして、直進移動機構（図示せず）によりスライダ２４を搬送方向（Ｘ方向）に移動させることによって、浮上ステージ１０上で基板Ｇの浮上搬送をおこなうように構成されている。

【0025】

また、ノズル３２は、図１乃至図３に示すように、浮上ステージ１０の上方を搬送方向（Ｘ方向）と直交する水平方向（Ｙ方向）に横断し、その直下を通過する基板Ｇの上面（被処理面）に対してスリット状の吐出口よりレジスト液Ｒを帯状に吐出するようになっている。また、ノズル３２は、例えばボールネジ機構やガイド部材等を含むノズル昇降機構２６により、このノズル３２を支持するノズル支持部材２８と一体に鉛直方向（Ｚ方向）に移動可能に昇降可能に構成されている。また、ノズル３２は、レジスト液容器や送液ポンプ等からなるレジスト供給部（図示せず）にレジスト供給管３０を介して接続されている。

【0026】

図２に示すように、ノズル３２は、ノズル長手方向（Ｙ方向）に平行に延びるフロントトリップ３３Ｆ及びリアリップ３３Ｒからなり、これら一対のリップ３３Ｆ，３３Ｒを突き合わせてボルト等で一体結合し、スリット状の吐出口３２ａを有している。
ノズル３２の吐出口３２ａと平行に延びる前後両側のノズル側面３２ｆ、３２ｒは、吐出口３２ａに向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されている。
尚、基板Ｇへのレジスト塗布時には吐出口３２ａだけでなく両側のノズル側面３２ｆ、３２ｒの下端部もレジスト液Ｒで濡れ、レジスト塗布処理が終了した後の吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒの下端部にはレジスト液Ｒの汚れが残る。

【0027】

図１に示すように前記待機部４２は、ノズル３２に隣接して、浮上ステージ１０の上方に設けられている。
待機部４２は、図４に示すように１つのケーシング４４内に、塗布処理の下準備としてノズル先端（吐出口及びその周辺）に付着しているレジスト液Ｒを拭き取るスワイプ部４８と、スワイプ部４８で余分なレジスト液Ｒが払拭された吐出口３２ａを乾燥防止の目的から溶剤蒸気の雰囲気中に保つためのノズルバス５０とを有している。
即ちノズル３２は、スワイプ部４８によりノズル先端に付着しているレジスト液Ｒの拭き取り処理がなされると、基板Ｇへの塗布処理を行い、その後、ノズルバス５０内で待機するようになされている。

【0028】

ノズル３２を待機部４２の各部４８，５０に着かせる際には、コントローラ（図示せず）の制御の下で、例えばボールネジ機構からなるＸ方向移動部５４により待機部４２の全体を基板搬送方向（Ｘ方向）に移動させると共に、ノズル昇降機構２６によりノズル３２を鉛直方向（Ｚ方向）に移動させるようになっている。

【0029】

また、図４，図５に示すように前記スワイプ部４８は、ノズル３２の吐出口周辺を拭き取るための拭き取りパッド４９を有している。
この拭き取りパッド４９は、ノズル長手方向（Ｙ方向）に沿って例えば１５ｍｍの厚みを有し、ノズル短手方向（Ｘ方向）に例えば３０ｍｍの横幅を有している。また、例えば２６ｍｍの高さを有している。
また、拭き取りパッド４９は、その上面側においてノズル長手方向に沿って形成されたＶ字溝４９ａを有し、前記Ｖ字溝４９ａは、図５に示すようにノズル３２の吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒの形状に対応した形状となされている。即ち、前記Ｖ字溝４９ａが吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに係合し、拭き取りパッド４９がノズル長手方向（Ｙ方向）に移動されることで、ノズル先端に付着している余分なレジスト液Ｒを拭き取るようになっている。

【0030】

尚、拭き取りパッド４９は、可撓性及び耐薬品性を有する材質、例えばシリコンゴムやフッ素ゴムにより形成されている。
また、前記のように拭き取りパッド４９は、例えば３０ｍｍの横幅寸法に対し、その移動方向（Ｙ方向）に沿った厚みが例えば１５ｍｍと大きく形成されている。そのため、拭き取りパッド４９がノズル先端に沿って移動中に大きく湾曲するようなことがなく、湾曲した反動でレジスト液が飛散する等の不具合の発生が防止される。

【0031】

図５に示すように、拭き取りパッド４９は、ジョイント部材６２を介してＹ方向移動部６０（パッド移動手段）に結合されたキャリッジ６４上に直立姿勢で保持されている。また、キャリッジ６４はＹ方向移動部６０により、吐出口３２ａの長手方向に沿って移動可能となされている。Ｙ方向移動部６０は、例えばラック＆ピニオン機構からなり、Ｙ方向に延びるラック６６と、このラック６６上で転動する歯車（図示せず）を内蔵する可動ユニット６８とを有している。キャリッジ６４は、ノズル３２の吐出口周辺部に対して位置合わせをしてから、拭き取り方向（Ｙ方向）に移動するようになっている。

【0032】

続いて拭き取りパッド４９の第一の実施形態について図６乃至図９を用いて説明する。
図６に拭き取りパッド４９をその（Ｙ方向移動部６０による）移動方向前方側から見た斜視図を示し、図７に平面図を示す。また、図８にパッド４９をその（Ｙ方向移動部６０による）移動方向後方側から見た斜視図を示し、図９にパッド４９を一部断面にした斜視図を示す。尚、図６乃至図９において示す矢印は、拭き取りパッド４９のＹ方向移動部６０による移動方向を示している。

【0033】

図６乃至図９に示すように拭き取りパッド４９は、矢印で示す移動方向側に前面４９ｂが形成され、移動方向後側に後面４９ｃ及び傾斜面４９ｄが形成されている。また、左右両側には、側面４９ｅ，４９ｆがそれぞれ形成され、上側には上面４９ｇが形成されている。
また、Ｖ字溝４９ａにおいては、対向する傾斜面４９ａ１、４９ａ２が形成され、それらの間の下端部にはパッド移動方向（Ｙ方向）に所定長さの底部４９ａ３が直線状に形成されている。

【0034】

また、図６に示すようにパッド前面４９ｂには、Ｖ字溝４９ａの前端縁部によりＶ字型の辺（Ｖ字辺と呼ぶ）４９ｂ１が形成されている。また、図８に示すようにパッド後側の傾斜面４９ｄには、Ｖ字溝４９ａの後端縁部によりＶ字型の辺（Ｖ字辺と呼ぶ）４９ｄ１が形成されている。
拭き取りパッド４９によるノズル先端の拭き取り動作の際には、前記パッド後側のＶ字辺４９ｄ１のみがノズル３２の吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接するようになっている。これは、パッド前側の前記Ｖ字辺４９ｂ１の底部の高さ寸法ｈ１（図６）が、パッド後側の前記Ｖ字辺４９ｄ１の底部の高さ寸法ｈ２（図８）よりも低くなるように形成され（即ち、Ｖ字溝４９ａの溝深さがパッド移動方向に向かって次第に深くなる）、Ｖ字溝４９ａの溝幅もパッド移動方向に向かって次第に広くなるように形成されているためである。これにより、掻き取り辺として作用するパッド後側のＶ字辺４９ｄ１に掻き取られたレジスト液ＲをＶ字溝４９ａ（導出路）内に導出し、パッド前側（Ｖ字辺４９ｂ１側）から排出する構造となされている。

【0035】

尚、図６乃至図９に示す拭き取りパッド４９の第一の実施形態にあっては、図８，図９に示すように後面４９ｃ（垂直面）に対する傾斜面４９ｄの傾斜角θ１が４５°であり、前記傾斜面４９ｄに対するＶ字溝４９ａの傾斜面４９ａ１、４９ａ２の傾斜角θ２はそれぞれ９０°以上（例えば９８．７９４°）となっている。
このように傾斜角θ１、θ２が設定されているため、拭き取りパッド４９が直立姿勢において、そのＶ字辺４９ｄ１を吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接させることができる。また、前記傾斜角θ２の設定により、Ｖ字溝４９ａの溝幅と深さがパッド移動方向に向かって次第に大きくなる形状となっているため、（掻き取り辺としての）Ｖ字辺４９ｄ１の前方にレジスト液Ｒの導出路を形成することができる。

【0036】

続いて、このレジスト塗布装置１によるレジスト液の塗布からノズル３２のメンテナンスまでの一連の動作について説明する。
先ず、前段のユニットより基板Ｇが浮上ステージ１０の前端側に設定された搬入エリアに搬入され、そこで待機していたスライダ２４が基板Ｇを受け取る。浮上ステージ１０上で基板Ｇはガス噴射孔１２より噴射されるガスの圧力を受け、略水平な姿勢で浮上状態が保たれる。

【0037】

一方、待機部４２の全体がノズル下方に移動され、ノズル３２のＸ方向位置がスワイプ部４８の位置に合わせられると共に、ノズル昇降機構２６によりノズル３２が下降移動される。
ここで、先ず図１０（ａ）に示すようにノズル３２の一端側において、拭き取りパッド４９のＶ字溝４９ａが、吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに係合する状態となされる。このとき、吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒには、拭き取りパッド４９のＶ字辺４９ｄ１（掻き取り辺）のみが当接した状態となされる。

【0038】

次いで、Ｙ方向移動部６０が作動し、図１０（ｂ）、図１０（ｃ）に順に示すようにノズル他端側まで拭き取りパッド４９が所定速度で移動（走査）される。この移動の際、パッド後側のＶ字辺４９ｄ１によりノズル先端（吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒ）のレジスト液Ｒが掻き取られ、Ｖ字溝４９ａ内に導出されて、パッド前側のＶ字辺４９ｂ１側から排出される。これにより、吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに付着していた余分なレジスト液Ｒはきれいに払拭される。

【0039】

スワイプ部４８においてノズル先端のレジスト液Ｒの拭き取りが完了すると、ノズル昇降機構２６によりノズル３２が上昇移動され、ノズル待機部４２はノズル３２の直下位置から基板搬送方向上流側の位置に移動する。
次いで、ノズル昇降機構２６によりノズル３２が下降され、浮上ステージ１０に対しノズル吐出口３２ａが所定の高さに維持される。
そして、基板搬送機構２０により基板Ｇは水平姿勢で搬送方向（Ｘ方向）に一定速度で移動され、基板Ｇがノズル３２の直下を通過するタイミングで、基板Ｇ上にノズル３２からレジスト液が所定の圧力または流量で帯状に吐出される。
これにより、図２、図３に示すように基板Ｇの前端側から後端側へ向かって膜厚の均一なレジスト液Ｒの塗布膜が形成されていくこととなる。基板Ｇの後端がノズル３２の下を通過すると、基板一面にレジスト塗布膜が形成され、塗布処理が完了する。

【0040】

レジスト塗布膜が形成された基板Ｇは、その後もスライダ２４により浮上ステージ１０上で浮上搬送され、浮上ステージ１０の後側に設定された搬出エリアより後段のユニットに搬出される。

【0041】

一方、塗布処理を終えたノズル３２は、ノズル昇降機構２６により上昇移動され、待機部４２が基板搬送方向下流側に所定距離移動されてノズル直下にノズルバス５０が配置される。そして、ノズル昇降機構２６により再びノズル３２が下降移動され、ノズルバス５０内にノズル先端が保持されて吐出口３２ａの乾燥が防止され、次の基板Ｇへの塗布処理を待つこととなる。

【0042】

以上のように本発明にかかる実施の形態によれば、基板Ｇへのレジスト液の塗布処理前に、スワイプ部４８において、ノズル先端に対し、ノズル長手方向に交差する拭き取りパッド４９のＶ字辺４９ｄ１を当接させ、ノズル長手方向に走査する工程が実施される。ここで、拭き取りパッド４９の移動方向において前記Ｖ字辺４９ｄ１より前側には、前記Ｖ字辺４９ｄ１より掻き取られたレジスト液Ｒを排出するためのＶ字溝４９ａが設けられているため、掻き取ったレジスト液Ｒを（移動する）拭き取りパッド４９の後方に逃がすこと無く効果的に払拭することができる。
その結果、従来のようなプライミングローラが不要となり、プライミング処理のためにローラ面にレジスト液を吐出する必要がないため、レジスト液Ｒの消費を低く抑えることができる。
また、従来のプライミングローラを用いたプライミング処理に比べ、ノズル先端のメンテナンス処理に要する時間を大幅に短縮することができ、タクトタイムが短縮するため生産性を向上することができる。更には、プライミングローラが不要であるために、ローラの洗浄に用いる洗浄液も不要となり、コストを大幅に低減することができる。

【0043】

尚、前記実施の形態において、図６乃至図９に示した拭き取りパッド４９の第一の実施形態では、図８，図９に示したように後面４９ｃに対する傾斜面４９ｄの傾斜角θ１を４５°とし、傾斜面４９ｄに対するＶ字溝４９ａの傾斜面４９ａ１、４９ａ２の傾斜角θ２を９８．７９４°とした。
しかしながら、本発明に係るノズルメンテナンス装置にあっては、前記傾斜角θ１、θ２の値は限定されるものではなく、様々な角度の組み合わせを採用することができる。以下に、具体例として拭き取りパッド４９の第二乃至第四の実施形態について説明する。

【0044】

図１１、図１２は、拭き取りパッド４９の第二の実施形態を示し、図１１は拭き取りパッド４９をその移動方向後方側から見た斜視図であり、図１２は拭き取りパッド４９を一部断面にした斜視図である。尚、図１１、図１２に示す矢印は、拭き取りパッド４９のＹ方向移動部６０による移動方向を示している。
図１１、図１２に示す拭き取りパッド４９にあっては、後面４９ｃ（垂直面）に対する傾斜面４９ｄの傾斜角θ１が３０°であり、傾斜面４９ｄに対するＶ字溝４９ａの傾斜面４９ａ１、４９ａ２の傾斜角θ２はそれぞれ９０°となっている。
このように前記傾斜角θ１、θ２の設定としても、拭き取りパッド４９が直立姿勢において、そのＶ字辺４９ｄ１を吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接させることができる。また、パッド４９の移動方向に向けてＶ字溝４９ａの溝幅と深さが次第に大きくなり、Ｖ字辺４９ｄ１により掻き取ったレジスト液ＲをＶ字溝４９ａ（導出路）に導出し、前方のＶ字辺４９ｂ１側から効果的に排出することができる。

【0045】

図１３乃至図１６は、拭き取りパッド４９の第三の実施形態を示し、図１３は、拭き取りパッド４９をその移動方向前方側から見た斜視図であり、図１４は平面図である。また、図１５は拭き取りパッド４９をその移動方向後方側から見た斜視図であり、図１６はパッド４９を一部断面にした斜視図である。尚、図１３乃至図１６に示す矢印は、拭き取りパッド４９のＹ方向移動部６０による移動方向を示している。
図１５、図１６に示すように拭き取りパッド４９の第三の実施形態にあっては、後面４９ｃに対する傾斜面４９ｄの傾斜角θ１が１０°であり、傾斜面４９ｄに対するＶ字溝４９ａの傾斜面４９ａ１、４９ａ２の傾斜角θ２はそれぞれ７５．６７４°となっている。
このような傾斜角θ１、θ２の設定としても、拭き取りパッド４９が直立姿勢において、そのＶ字辺４９ｄ１を吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接させることができる。また、この形状の場合、図１４に示すように、Ｖ字溝４９ａの溝幅が図６乃至図９の形状の場合よりも広くなり、また、パッド４９の移動方向に向けてＶ字溝４９ａの溝幅と深さが次第に大きくなるため、より多量のレジスト液Ｒを、Ｖ字溝４９ａ（導出路）に導出し、前方のＶ字辺４９ｂ１側から排出することができる。

【0046】

図１７乃至図１９は、拭き取りパッド４９の第四の実施形態を示し、図１７は、拭き取りパッド４９をその移動方向前方側から見た斜視図であり、図１８は平面図である。また、図１９は拭き取りパッド４９を一部断面にした斜視図である。尚、図１７乃至図１９に示す矢印は、拭き取りパッド４９のＹ方向移動部６０による移動方向を示している。
図１７、図１９に示すように拭き取りパッド４９の第四の実施形態にあっては、後面４９ｃ（垂直面）に対する傾斜面４９ｄの傾斜角θ１が６０°と大きくなされ、傾斜面４９ｄに対するＶ字溝４９ａの傾斜面４９ａ１、４９ａ２の傾斜角θ２はそれぞれ１０４．４９８°となっている。
このように傾斜角θ１、θ２の設定としても、拭き取りパッド４９が直立姿勢において、そのＶ字辺４９ｄ１を吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接させることができる。また、このような形状とすると、図１８に示すように、ノズル３２に当接するＶ字辺４９ｄ１の上端側が前面４９ｂまで達し、パッド４９の移動方向に向けてＶ字溝４９ａの溝幅が扇状に拡がる。このため、Ｖ字辺４９ｄ１により拭き取られたレジスト液Ｒを、Ｖ字溝４９ａ（導出路）に導出し、前方のＶ字辺４９ｂ１側から即座に排出することができる。

【0047】

また、前記した拭き取りパッドの第一乃至第四の実施形態にあっては、Ｖ字辺４９ｄ１により掻き取ったレジスト液Ｒを、拭き取りパッド４９の上面側に形成されたＶ字溝４９ａを導出路として排出する構成としたが、前記導出路はパッド上面側に限定されるものではない。
具体例として、図２０乃至図２２に拭き取りパッドの第五の実施形態を示す。この第五の実施形態に係る拭き取りパッドにあっては、前記第一乃至第四の実施形態とは形状が大きく異なるため、拭き取りパッド４９に代えて拭き取りパッド７０を用いるものとし、以下に形状の説明をする。
図２０は、拭き取りパッド７０の平面図であり、図２１はその移動方向前方側から見た正面図、図２２は側面図である。尚、図２０、図２２に示す矢印は、拭き取りパッド７０のＹ方向移動部６０による移動方向を示している。

【0048】

図示するように拭き取りパッド７０は、その上面側にパッド移動方向に沿って溝状に形成されたＶ字溝７０ａを有し、このＶ字溝７０ａはノズル３２の吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒの形状に対応している。具体的には、Ｖ字溝７０ａには、略Ｖ字形に対向する傾斜面７０ａ１、７０ａ２が形成され、それらの間の下端部にパッド移動方向（Ｙ方向）に沿って所定長さの底部７０ａ３が直線状に形成されている。

【0049】

また、拭き取りパッド７０は、矢印で示すパッド移動方向の前面側に前面７０ｂが形成され、その上部に前方に突出する鍔部７０ｃが形成されている。また、拭き取りパッド７０の移動方向後側には後面７０ｅが形成され、左右両側には、側面７０ｆ，７０ｇがそれぞれ形成され、上側には上面７０ｈが形成されている。前記鍔部７０ｃは、その上面が前記上面７０ｈと面一の状態で突出し、下面側は傾斜面７０ｄが形成されている。

【0050】

また、前記Ｖ字溝７０ａは、鍔部７０ｃ側まで設けられているため、鍔部７０ｃには、図２１に示すように正面視においてＶ字状の辺（Ｖ字辺と呼ぶ）７０ｄ１が掻き取り辺として形成され、このＶ字辺７０ｄ１は、図２０に示すように平面視において前方に向かって中央から左右両側に広がるＶ字状となっている。即ち、前記パッド前側のＶ字辺７０ｄ１のみがノズル３２の吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接するようになっている。
尚、鍔部７０ｃの高さ（厚さ）寸法はＶ字溝７０ａの前縁部の深さ寸法に等しくなされている。また、この構成においては、前記鍔部７０ｃ下面の傾斜面７０ｄ及び前面７０ｂがレジスト液の導出路として機能する。

【0051】

このように構成された拭き取りパッド７０によるノズル先端の拭き取り動作においては、Ｖ字辺７０ｄ１により掻き取られたレジスト液Ｒは、鍔状突出部７０ｃの下面側の傾斜面７０ｄから前面７０ｂに導出され、下方に排出される構造となっている。
即ち、このような拭き取りパッドの構成によっても本発明の目的を達成することができる。

【0052】

また、前記した拭き取りパッドの第一乃至第五の実施形態においては、ノズル先端に付着しているレジスト液Ｒを拭き取りパッド４９（７０）により全て拭き取る形状とした。しかしながら、本発明に係るノズルメンテナンス装置にあっては、拭き取りパッド４９（７０）の形状は、それに限定されるものではなく、意図的にノズルの特定の部位にレジスト液Ｒをビードライン状に残す形状とすることもできる。
その場合、レジスト液Ｒを残した部位は濡れ性を有するため、次の基板Ｇへのレジスト液吐出の際、レジスト液Ｒの流れをその方向に誘導しやすくし、塗布斑を抑制することができる。

【0053】

具体的に説明すると、図２３は拭き取りパッドの第六の実施形態を示す正面図及びノズル３２の側面図である。図２３に示す拭き取りパッド４９（７０）においては、ノズル先端に当接するＶ字辺４９ｄ１（７０ｄ１）の一部に所定の幅と深さを有する切り欠き部８０が設けられる。具体的には、吐出口３２ａの後側に対応する部位に切り欠き部８０が設けられている。
これにより、拭き取りパッド４９（７０）を用いてノズル先端を走査した後には、図２４に示すように吐出口３２ａの後側のみにビードライン状のレジスト液Ｒを付着させた状態とすることができる。

【0054】

また、図２５は拭き取りパッドの第七の実施形態を示す正面図及びノズル３２の側面図である。図２５に示す拭き取りパッド４９（７０）においては、ノズル先端に当接するＶ字辺４９ｄ１（７０ｄ１）において、吐出口３２ａに対応する部位に所定深さの切り欠き部８１が設けられている。
これにより、拭き取りパッド４９（７０）を用いてノズル先端を走査した後には、図２６に示すように吐出口３２ａのみにビードライン状にレジスト液Ｒを付着させた状態とすることができる。

【0055】

また、図２７は拭き取りパッドの第八の実施形態を示す正面図及びノズル３２の側面図である。図２７に示す拭き取りパッド４９（７０）においては、ノズル先端に当接するＶ字辺４９ｄ１（７０ｄ１）において、吐出口３２ａ及びその後側に対応する部位に所定幅及び深さを有する切り欠き部８２が設けられている。
これにより、拭き取りパッド４９（７０）を用いてノズル先端を走査した後には、図２８に示すように吐出口３２ａ及びその後側のみにビードライン状にレジスト液Ｒを付着させた状態とすることができる。

【0056】

また、前記した実施の形態においては、拭き取りパッド４９（７０）をノズル３２の一端から他端まで、一方向に走査する場合を例に説明したが、それに限定されることなく、例えば、一方向の走査終了後、拭き取りパッド４９（７０）の向きを反転させ、さらに反対方向に走査させてもよい。或いは、互いに反対方向に走査するスワイプ部４８を２基（複数）設け、ノズル３２の長手方向に沿って順に両方向から拭き取りパッド４９（７０）を走査するようにしてもよい。

【0057】

また、前記した実施の形態においては、ノズル３２を下降移動させることにより、ノズル先端を拭き取りパッド４９（７０）のＶ字辺４９ｄ１（７０ｄ１）に当接させる（押し付ける）構成としたが、それに限定されるものではない。例えば、スワイプ部４８を上下移動させる機構を設け、ノズル先端に対し拭き取りパッド４９（７０）を上昇させ、Ｖ字辺４９ｄ１（７０ｄ１）を当接させてもよい。

【0058】

また、前記実施の形態においては、拭き取りパッド４９（７０）は、図５に示すように単にキャリッジ６４上に保持されるものとしたが、例えば、キャリッジ６４上に弾性部材（バネ部材など）を介して保持し、その弾性力を利用して拭き取りパッド４９（７０）のＶ字辺４９ｄ１（７０ｄ１）をノズル先端に押し付ける構成としてもよい。

【0059】

また、前記実施の形態においては、拭き取りパッド４９が直立姿勢において、そのＶ字辺４９ｄ１が吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接するように拭き取りパッド４９における傾斜角θ１、θ２を設定するものとしたが、本発明にあってはそれに限定されるものではない。
例えば、拭き取りパッド４９は可撓性を有するため、Ｖ字辺４９ｄ１の広がる角度を、前記実施の形態の角度よりも広く（或いは狭く）形成し、拭き取りパッド４９にノズル３２を押し付ける（或いはノズル３２に拭き取りパッド４９を押し付ける）ことによって、Ｖ字辺４９ｄ１が吐出口３２ａ及びノズル側面３２ｆ、３２ｒに当接するようにしてもよい。

【0060】

また、前記実施の形態においては、基板搬送方向（Ｘ方向）に固定されたノズル３２に対し、基板Ｇが基板搬送機構２０（相対移動手段）によって搬送され、ノズル３２と基板Ｇとが相対的に移動する構成としたが、本発明にあってはその構成に限定されるものではない。
例えば、基板Ｇを基板搬送方向に固定した状態とし、（図示しないＸ方向の移動機構により）ノズル３２を基板Ｇの一端から他端まで移動させて走査するようにしてもよい。
或いは、Ｘ方向に搬送される基板Ｇに対し、（図示しないＸ方向の移動機構により）ノズル３２を反対方向に移動させ、互いに相対的に移動する構成としてもよい。

【符号の説明】

【0061】

１ レジスト塗布装置（塗布処理装置）
２０ 基板搬送機構（相対移動手段）
３２ ノズル
３２ａ 吐出口
３２ｆ ノズル側面
３２ｒ ノズル側面
４２ 待機部（ノズルメンテナンス装置）
４８ スワイプ部
４９ 拭き取りパッド
４９ａ Ｖ字溝（導出路）
４９ａ１ 傾斜面
４９ａ２ 傾斜面
４９ａ３ 底部
４９ｂ 前面
４９ｃ 後面
４９ｄ 傾斜面
４９ｄ１ Ｖ字辺（掻き取り辺）
４９ｅ 側面
４９ｆ 側面
４９ｇ 上面
５０ ノズルバス
６０ Ｙ方向移動部（パッド移動手段）
７０ 拭き取りパッド
７０ｂ 前面（導出路）
７０ｄ１ Ｖ字辺（掻き取り辺）
７０ｃ 鍔部
７０ｄ 傾斜面（導出路）
８０ 切り欠き部
８１ 切り欠き部
８２ 切り欠き部
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
Ｒ レジスト液（処理液）

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図22】

【図23】

【図24】

【図25】

【図26】

【図27】

【図28】

【図29】

【図30】