特許5859927成膜方法及び成膜装置

発明の名称　成膜方法及び成膜装置

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 35 位（572件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 22 位（758件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5859927

公報発行日　2016年2月16

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5859927

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