特許5861583成膜装置及び成膜方法

発明の名称　成膜装置及び成膜方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 35 位（570件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 20 位（748件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5861583

公報発行日　2016年2月16

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5861583

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-5861583「成膜装置及び成膜方法」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録