特許5864668凹状部分を有した被処理体上へのシリコン膜の成膜方法

発明の名称　凹状部分を有した被処理体上へのシリコン膜の成膜方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 35 位（570件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 20 位（748件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5864668

公報発行日　2016年2月17

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5864668

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