特許 5867462 液処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5867462

(24)【登録日】2016年1月15日

(45)【発行日】2016年2月24日

(54)【発明の名称】液処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20160210BHJP

   H01L 21/304 20060101ALI20160210BHJP

   H01L 21/306 20060101ALI20160210BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/30 569C

   H01L21/304 643A

   H01L21/304 643C

   H01L21/304 643Z

   H01L21/306 R

【請求項の数】15

【全頁数】21

(21)【出願番号】特願2013-156115(P2013-156115)

(22)【出願日】2013年7月26日

(65)【公開番号】特開2015-26744(P2015-26744A)

(43)【公開日】2015年2月5日

【審査請求日】2015年5月29日

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100091513

【弁理士】

【氏名又は名称】井上 俊夫

(74)【代理人】

【識別番号】100133776

【弁理士】

【氏名又は名称】三井田 友昭

(72)【発明者】

【氏名】滝口 靖史

(72)【発明者】

【氏名】吉村 好貴

(72)【発明者】

【氏名】山本 太郎

(72)【発明者】

【氏名】京田 秀治

(72)【発明者】

【氏名】牟田 行志

【審査官】 佐野 浩樹

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１０−０５６３１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０１５３８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１５１２３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１５１２３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−００４６２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−１０９８９７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ２１／０２７、２１／３０ 、２１／３０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板に対して処理流体により液処理を行う液処理装置において、
左右方向に並べて配置され、各々基板を水平に保持するための複数の基板保持部と、
前記複数の基板保持部の各々を囲むように設けられた複数のカップ体と、
前記複数のカップ体の各々が配置される領域を互いに区画するために設けられ、カップ体の上端よりも高い位置まで伸びている部材と、
前記複数の基板保持部の各々に対応して基板保持部毎に設けられ、前記基板保持部に保持された基板に対して一の処理流体を供給するための一のノズル及び他の処理流体を供給するための他のノズルを含む処理流体ノズルと、
前記一のノズル及び他のノズルが共通のアーム部に設けられた状態で、前記一のノズルまたは他のノズルを、前記基板の中心部を含む領域に処理流体を供給する供給位置と、前記複数の基板保持部の並びに対して、基板が搬入出される前方側とは反対側の後方側の待機位置と、の間で前記基板保持部の並び方向と交差する前後方向に進退させるノズル移動機構と、を備えたことを特徴とする液処理装置。

【請求項2】

前記基板保持部毎に設けられ、基板に対して処理流体を供給するための、前記処理流体ノズルとは別の第１のノズルを備え、
前記処理流体ノズル及びアーム部を夫々第２のノズル及び第２のアーム部と呼ぶとすると、前記ノズル移動機構は、第１のノズルを進退させる第１のアーム部と、第２のノズルを進退させる第２のアーム部と、を備えると共に、前記第１のノズルを、前記基板の中心部を含む領域に処理流体を供給する供給位置と、前記後方側の待機位置と、の間で前記基板保持部の並び方向と交差する前後方向に進退させるように構成されていることを特徴とする請求項１記載の液処理装置。

【請求項3】

前記第１のアーム部及び第２のアーム部は、左右方向に互いに離間して設けられることを特徴とする請求項２記載の液処理装置。

【請求項4】

前記第１のアーム部及び第２のアーム部は、左右方向に互いに離間し、
前記第１のノズル及び第２のノズルは、前記供給位置に対して入れ替えるときに平面的に見て互いに干渉する位置に設けられ、
前記ノズル移動機構は、第１のノズル及び第２のノズルの互いの干渉を避けるために、少なくとも一方のノズルを昇降させる昇降機構を備えていることを特徴とする請求項３記載の液処理装置。

【請求項5】

前記昇降機構は、第１のアーム部及び第２のアーム部の少なくとも一方を昇降させるものであることを特徴とする請求項４記載の液処理装置。

【請求項6】

前記ノズルの進退方向は、複数の基板保持部の並びと直交する方向であることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一項に記載の液処理装置。

【請求項7】

前記基板保持部毎に設けられ、基板及び基板の上方空間を囲むと共にノズルが通過するためのノズル用の開口部がその側壁に形成された囲み部材を備え、
前記囲み部材は、前記複数の基板保持部の各々が配置される領域を互いに区画するための部材を兼用していることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一項に記載の液処理装置。

【請求項8】

前記基板保持部に保持された基板の側方及び下方を周方向全体に亘って囲むように設けられたカップ体を備え、
前記囲み部材は、前記カップ体の側方を周方向全体に亘って囲むと共に、側壁の上縁がカップ体よりも高いことを特徴とする請求項７記載の液処理装置。

【請求項9】

前記囲み部材の側壁部には、基板を搬入出するための基板用の開口部が形成されていることを特徴とする請求項７又は８記載の液処理装置。

【請求項10】

前記囲み部材には、ノズル用の開口部及び基板用の開口部を夫々開閉自在に塞ぐためのシャッターが設けられていることを特徴とする請求項９記載の液処理装置。

【請求項11】

前記基板保持部に保持された基板の側方及び下方を周方向全体に亘って囲むように設けられたカップ体を備え、
前記カップ体の底面部に開口する排気口と、
前記カップ体内の雰囲気を排気するために前記排気口に接続され、前記基板保持部の並びから見て前方側に引き出される排気路と、を備えたことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか一項に記載の液処理装置。

【請求項12】

ノズルを洗浄するためのノズル洗浄部が、前記供給位置と待機位置とを結ぶ直線上に設けられることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか一項に記載の液処理装置。

【請求項13】

前記ノズル洗浄部は、ノズルに対して洗浄液を供給するための洗浄液供給部と、ノズルに対してリンス液を供給するためのリンス液供給部と、ノズルに対して乾燥用のガスを供給するための乾燥ガス供給部と、を備え、これらはノズルの進退方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項１２記載の液処理装置。

【請求項14】

前記ノズル洗浄部は、液体が収容される液収容部を備え、一つの液収容部に、前記洗浄液供給部と、リンス液供給部と、乾燥ガス供給部と、が設けられることを特徴とする請求項１３記載の液処理装置。

【請求項15】

第１のノズルの待機位置と第２のノズルの待機位置とは、互いに進退方向の前後にずれて配置されていることを特徴とする請求項２ないし６のいずれか一項に記載の液処理装置

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、例えば半導体ウエハや液晶ディスプレイ用のガラス基板（ＬＣＤ基板）といった基板に対してノズルから処理流体を供給して液処理を行う液処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体デバイスの製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）の表面にレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。このような処理は、一般にレジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置に、露光装置を接続したシステムを用いて行われ、前記塗布、現像装置には、ウエハにレジスト液や現像液等の処理液を供給する種々の液処理装置が組み込まれている。

【0003】

特許文献１には、レジストなど薬液の塗布処理を行う塗布処理用の単位ブロックと、現像処理を行う現像処理用の単位ブロックとを上下に積層して構成した塗布、現像装置が記載されている。前記現像処理用の単位ブロックには液処理ユニットとして現像ユニットが設けられており、この現像ユニットには例えば３個の現像処理部がウエハの搬送領域に沿って並ぶように配列されている。また現像処理部毎に現像液供給用の現像ノズルが設けられており、この現像ノズルは、前記現像処理部の配列方向に沿って現像処理部と並ぶように配置され、現像処理部の配列方向に移動するように構成されている。

【0004】

ところでウエハサイズは３００ｍｍサイズから４５０ｍｍサイズへとさらなる大口径化が検討されている。ウエハの大きさに合わせて現像処理部も大型化するが、既述のように、現像処理部と現像ノズルとが前記配列方向に並ぶ構成では、当該配列方向に現像ノズルの設置分のスペースが必要となるため、装置の配列方向の長さが大きくなり、装置の大型化を招いてしまう。また一つの現像処理部に対して複数本のノズルが設けられるときには、さらに配列方向にスペースが必要となる上、現像処理部から離れて設けられたノズルは移動距離が長くなるので、処理時間が延び、スループットの低下を招くおそれがある。
さらにスループットを向上させるために液処理装置の個数を増加しようとすると、液処理装置のスペースに加えて現像ノズルの設置スペースが必要となるため、かなり装置が大きくなる。また前記配列方向の長さが増大し、ウエハの搬送領域が伸びると、ウエハの搬送に時間がかかり、スループットが低下する懸念もある。

【0005】

特許文献２には、１つの液処理装置に複数のノズル支持アームが設けられる構成が記載されている。ノズル支持アームは当該アームの長手方向軸線周りの異なる周方向位置に配置されることにより、互いに干渉せずにウエハに対して進退できるように構成されている。図１に示されるように、複数個の液処理装置はウエハの搬送領域に沿って並ぶように設けられ、ノズル支持アームは前記液処理装置の配列方向に進退するように構成されている。従ってこの構成においても、ウエハの大口径化に伴い液処理装置が大型化した場合には、ウエハに合わせてノズル支持アームも長くする必要があるため、液処理装置とノズル支持アームの両方の増大分、装置の配列方向の長さが大きくなる。また液処理装置の個数を増加しようとすると、ノズル支持アームの長さ分の設置スペースが必要となるため、装置が非常に大型化してしまう。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２０１２−７０００３号公報：図３、図１２等

【特許文献2】特開２０１３−４６２３号公報：図１、図７、図９等

【発明の開示】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、複数の基板保持部を備え、前記基板保持部に保持された基板に対してノズルから処理流体を供給して液処理を行う液処理装置において、装置の小型化を図ることができる技術を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

このため本発明の液処理装置は、基板に対して処理流体により液処理を行う液処理装置において、
左右方向に並べて配置され、各々基板を水平に保持するための複数の基板保持部と、
前記複数の基板保持部の各々を囲むように設けられた複数のカップ体と、
前記複数のカップ体の各々が配置される領域を互いに区画するために設けられ、カップ体の上端よりも高い位置まで伸びている部材と、
前記複数の基板保持部の各々に対応して基板保持部毎に設けられ、前記基板保持部に保持された基板に対して一の処理流体を供給するための一のノズル及び他の処理流体を供給するための他のノズルを含む処理流体ノズルと、
前記一のノズル及び他のノズルが共通のアーム部に設けられた状態で、前記一のノズルまたは他のノズルを、前記基板の中心部を含む領域に処理流体を供給する供給位置と、前記複数の基板保持部の並びに対して、基板が搬入出される前方側とは反対側の後方側の待機位置と、の間で前記基板保持部の並び方向と交差する前後方向に進退させるノズル移動機構と、を備えたことを特徴とする。

【発明の効果】

【0009】

本発明の液処理装置は、複数の基板保持部が左右方向に配列されており、各々の基板保持部に対しては、前記左右方向と交差する前後方向の前方側から基板が搬入出されると共に、基板に処理流体を供給するためのノズルが、前後方向の後方側の待機位置から当該前後方向に進退するように構成されている。このため基板保持部に受け渡される基板から見ると、基板保持部の背後にノズルが設けられており、基板保持部の並び方向である左右方向にノズルの設置スペースを確保する必要がない。従って複数の基板保持部を配列しても、前記前後方向の大きさは基板保持部が単独である場合と変えずに、複数の基板保持部用のノズルを設置できる。また左右方向においても基板の処理スペース分の増加で足り、ノズルの設置スペースを余分に設ける必要がないことから、装置の小型化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明に係る液処理装置を適用した現像装置を示す斜視図である。

【図2】現像装置を構成する現像処理部を示す縦断側面図である。

【図3】現像処理部を示す平面図である。

【図4】現像処理部に設けられるカップ体を示す平面図である。

【図5】現像処理部に設けられる第１のノズル及び第２のノズルを示す斜視図である。

【図6】現像装置の排気路を示す平面図である。

【図7】現像処理部にて行われる現像処理を示す工程図である。

【図8】現像処理部に設けられるノズル洗浄部を示す縦断側面図と平面図である。

【図9】ノズル洗浄部の他の例を示す平面図である。

【図10】ノズルの他の例を示す斜視図及び縦断側面図である。

【図11】ノズルの他の例を示す平面図である。

【図12】ノズルの他の例を示す平面図である。

【図13】現像装置が組み込まれる塗布、現像装置を示す平面図である。

【図14】塗布、現像装置を示す斜視図である。

【図15】塗布、現像装置を示す縦断側面図である。

【発明を実施するための最良の形態】

【0011】

以下に説明する実施の形態においては、本発明の液処理装置を、塗布、現像装置に設置される現像装置に適用した例について図面を参照して説明する。図１は現像装置の一実施形態を示す概略斜視図、図２は現像装置に設けられる現像処理部の一実施形態を示す縦断側面図、図３はその平面図である。本発明の液処理装置は複数の現像処理部１を備えており、この例では図１に示すように４個の現像処理部１（１Ａ〜１Ｄ）が左右方向（第１の方向）であるＸ方向に並ぶように配列されている。これら現像処理部１Ａ〜１Ｄは同様に構成されており、以下、図面を参照して説明する。

【0012】

現像処理部１は、ウエハＷを水平に吸着保持する基板保持部であるスピンチャック２を備えている。このスピンチャック２はウエハＷの裏面の中央部を水平に吸着保持し、鉛直軸周りに回転自在に構成されており、ここでいう「水平」には、ウエハＷを略水平に保持する場合も含まれる。スピンチャック２は平面視円形状に形成され、回転昇降軸２１を介して駆動機構（スピンチャックモータ）２２に接続されており、スピンチャック２はこの駆動機構２２によって回転及び昇降自在に構成されている。またスピンチャック２は図示しない吸引管と接続されており、図示しない吸着孔を介してウエハＷを吸着しながら保持する真空チャックとしての機能を備えている。このスピンチャック２に対して、ウエハＷは前記スピンチャック２の並び方向と交差する前後方向（第２の方向）の前方側から搬入出されるように構成されている。

【0013】

スピンチャック２の周囲には、処理流体である現像液の飛散を抑制すると共に、現像液を回収するために、スピンチャック２に保持されたウエハＷの側方及び下方を周方向全体に亘って囲むようにして平面視環状のカップ体３が設けられている。このカップ体３の上面はウエハＷよりも大口径の開口部３１となっており、この開口部３１を介して、後述する塗布、現像装置の搬送機構とスピンチャック２との間でウエハＷの受け渡しを行うことができるようになっている。
またカップ体３は側壁３２を備え、この側壁３２の上端側は内側に傾斜して傾斜部３２１をなしており、カップ体３の底部側は、例えば凹部状をなす液受け部３３として形成されている。液受け部３３は、内側カップ３４によりウエハＷの周縁下方側に全周に亘って、外側領域と内側領域とに区画されている。外側領域の底面部には貯留した現像液のドレインを排出するための排液路３５が接続されている。

【0014】

図４は、図２に示すカップ体３をＡ−Ａ´線に沿って切断して示す平面図であるが、図２及び図４に示すように、前記内側領域には気流制御用の隔壁部３６が設けられている。この隔壁部３６は、例えば平面的に見てスピンチャック２の回転昇降軸２１と同心円状の円の一部をなす円弧状に形成されている。例えば隔壁部３６は平面的に見て半円よりも僅かに大きい円弧状に形成され、スピンチャック２の周囲の片側に寄った位置、例えば図４中右側部分に設けられている。

【0015】

隔壁部３６の内側には、カップ体３内の雰囲気を排気するために排気口３７が形成されている。この排気口３７は内側領域の底面部に、スピンチャック２の周方向の一部に沿って形成され、例えば排気口３７の長さ方向の両端が隔壁部３６の両端よりも内側に位置するように設けられる。カップ体３の底面部はスピンチャック２の周囲を囲むように環状に形成されているが、この環状の底面部を平面的に見て２分割したときの片側（半分側）に排気口３７が形成されることになる。排気口は、複数個の排気口を配列して形成するようにしてもよい。排気口３７は、図４に点線にて示すように専用排気路３８により覆われ、この専用排気路３８の他端側は後述するように現像装置が設置された工場の排気路を介して図示しない排気機構に接続されている。またカップ体３内における排気口３７の周囲は、例えば隔壁部３６よりも低い壁部３７１により区画されている。

【0016】

カップ体３の周囲には、スピンチャック２に保持されたウエハＷ及びウエハＷの上方空間を囲む囲み部材をなすケース体４が設けられている。ケース体４は例えば平面視四角形状の上面が開口したボックス形状をなしており、カップ体３の側方を周方向全体に亘って囲む側壁４１を備え、この側壁４１の上縁はカップ体３の傾斜部３２よりも高くなるように構成されている。またスピンチャック２の側方には、昇降機構３９１と接続された支持ピン３９がウエハＷの裏面を支持して昇降可能に設けられており、外部の搬送機構との協働作用によって、当該搬送機構との間でウエハＷの受け渡しができるように構成されている。

【0017】

さらに現像装置は、夫々の現像処理部１毎に、スピンチャック２に保持されたウエハＷに処理流体を供給するためのノズルを備えている。この例のノズルは第１のノズル５及び第２のノズル６を備え、前記第１のノズル５は第１の処理流体である現像液を供給するためのノズル、第２のノズル６は第２の処理流体である洗浄液（リンス液）及び乾燥ガスを供給するためのノズルとして夫々用いられる。これら第１のノズル５及び第２のノズル６は、スピンチャック２上のウエハＷに処理流体を供給する供給位置と、前記前後方向のウエハＷが搬入出される前方側とは反対側の後方側の待機位置と、の間でノズル移動機構により前後方向に進退自在に構成されている。この例では第１のノズル５及び第２のノズル６の進退方向である前後方向は、前記複数のスピンチャック２の並び方向である左右方向と直交する方向（Ｙ方向）に設定されている。

【0018】

前記ノズル移動機構は、第１のノズル５を進退させる第１のアーム部５１と、第２のノズル６を進退させる第２のアーム部６１と、を備えており、これら第１のアーム部５１及び第２のアーム部６１は左右方向に互いに離間して設けられている。前記第１のアーム部５１はケース体４の外方に設けられた基台５２に移動機構５３を介して設けられている。この移動機構５３は、基台５２に沿って進退移動すると共に上方側に伸びる進退機構５３１と、この進退機構５３１に沿って昇降する昇降機構５３２と、を備えている。こうして、第１のノズル５は第１のアーム部５１が進退及び昇降することにより、スピンチャック２に保持されたウエハＷの中心部を含む領域に現像液を吐出する供給位置と、ケース体４の外方の待機位値との間で前後方向（Ｙ方向）に移動自在に構成されている。

【0019】

第１のノズル５は、図５（ａ）に示すように、その下端面に、細長いスリット状に開口した吐出口５４を備えている。この例では、第１のノズル５がＹ方向に伸びるように構成されているので、前記吐出口５４の長さ方向はＹ方向に平行し、第１のノズル５が供給位置にあるときにはウエハＷの中心部を含む領域に帯状に現像液を吐出するようになっている。この例では吐出口５４の長さ（Ｙ方向の大きさ）はウエハＷの直径よりも小さく設定されており、例えば吐出口５４の長さは例えば５ｍｍ〜１５ｍｍ、幅は例えば０．１ｍｍ〜１ｍｍに夫々設定されている。
また前記吐出口５４は、第１のノズル５が供給位置と待機位置との間で移動するときに、スピンチャック２に保持されたウエハＷの直径上を通るように構成されている。そして第１のアーム部５１は、例えば待機位置にある第１のノズル５の吐出口５４とスピンチャック２に保持されたウエハＷの中心とを結ぶ直線Ｌ（図３参照）よりも左側又は右側、この例では左側に寄って設けられている。

【0020】

前記第２のアーム部６１も第１のアーム部５１と同様に、ケース体４の外方に設けられた基台６２に移動機構６３を介して設けられている。この移動機構６３は、基台６２に沿って進退移動すると共に上方側に伸びる進退機構６３１と、この進退機構６３１に沿って昇降する昇降機構６３２と、を備え、第２のアーム部６１及び基台６２はＹ方向に沿って伸びるように設けられている。この例の第２のノズル６は、洗浄液例えば純水を吐出する洗浄ノズル部６４と、乾燥ガス例えば窒素ガスを供給する乾燥ガスノズル部６５と、を備えた複合ノズルとして構成されている。これら洗浄ノズル部６４と乾燥ガスノズル部６５とは、第２のノズル６がＹ方向に伸びるように構成されているので、図５（ｂ）に示すように、Ｙ方向に互いに連接するように設けられている。これら洗浄ノズル部６４と乾燥ガスノズル部６５は、鉛直下方に開口した円形の細孔である吐出口６４１、６５１を夫々備えており、その口径は例えば０．１ｍｍ〜１０ｍｍに設定されている。

【0021】

こうして第２のノズル６は第２のアーム部６１を介して、スピンチャック２に保持されたウエハＷに洗浄液又は乾燥ガスを吐出する供給位置と、カップ体３の外方の待機位置との間で、前後方向（Ｙ方向）に移動自在に構成されている。そして第２のノズル６が供給位置にあるときにはウエハＷの中心部を含む領域に純水又は窒素ガスを夫々吐出するようになっている。前記吐出口６４１、６５１は、第２のノズル６が供給位置と離間位置との間で移動するときに、スピンチャック２に保持されたウエハＷの直径上を通るように構成され、第２のアーム部６１は前記直線Ｌよりも右側又は左側、この例では右側に寄って設けられている。この例では、第１のアーム部５１の移動機構５３と第２のアーム部６１の移動機構６３とにより、ノズル移動機構が構成されている。

【0022】

これら第１のアーム部５１及び第２のアーム部６２は左右方向に離間して設けられているが、第１のノズル５の吐出口６４と、第２のノズル６の吐出口６４１、６５１とは、夫々ウエハＷの中心部を含む領域に現像液等を供給するように構成されている。このため第１のノズル５及び第２のノズル６は、供給位置にて入れ替えるときに平面的に見て互いに干渉する位置に設けられている。従って第１のノズル５と第２のノズル６の互いに干渉を避けるために、既述のように第１のノズル５及び第２のノズル６は昇降自在に構成されている。例えば第１のノズル５の基台５２と第２のノズル６の基台６２の高さ位置は互いに揃えられ、第２のアーム部６１が第１のアーム部５１の上方側に位置するように構成されている。但し、第１のノズル５と第２のノズル６とは、少なくとも一方が昇降自在に構成されればよい。

【0023】

こうして例えば第２のノズル６を第１のノズル５よりも上方側に配置することにより、第１のノズル５と第２のノズル６とが互いに干渉せずに進退移動できる。また図３に示すように、第１のノズル５は第２のアーム部６１とは平面的に見て重ならず、第２のノズル６は第１のアーム部５１とは平面的に見て重ならないように、第１のノズル５及び第２のノズル６、第１のアーム部５１及び第２のアーム部６１の形状が夫々設定されている。これにより第２のノズル６を第１のノズル５の上方側を移動させて、第１のノズル５よりも進退方向の前方に位置させてから下降させることによって、夫々のノズル５、６を互いに干渉せずに、供給位置と待機位置との間で進退移動することができる。

【0024】

第１のノズル５、第２のノズル６の洗浄ノズル部６４、乾燥ガスノズル６５は夫々供給路５４１、６４２、６５２により、バルブやマスフローコントローラなどを含んだ流量制御部を介して現像液供給源、洗浄液供給源、乾燥ガス供給源に夫々接続されている。こうして後述する制御部からの制御信号に基づき、流量制御部が第１のノズル５からウエハＷへの現像液の給断、第２のノズル６からウエハＷへの洗浄液や乾燥ガスの給断を制御するように構成されている。なお流量制御部、現像液供給源、洗浄液供給源及び乾燥ガス供給源については図示を省略する。

【0025】

図１〜図３に戻って説明を続けると、ケース体４の側壁４１には第１のノズル５及び第２のノズル６を通過させるためのノズル用の開口部４２が形成されている。またケース体４におけるノズル用の開口部４２が形成された側壁４１と対向する側壁４１にはウエハＷを搬入出するための基板用の開口部４３が形成されており、これらノズル用の開口部４２及び基板用の開口部４３は夫々シャッター４４、４５により開閉自在に構成されている。前記ノズル用の開口部４２は常時シャッター４４により閉じられており、第１及び第２のノズル５、６を待機位置と供給位置との間で進退移動させるときに開くように構成されている。また基板用の開口部４３も常時シャッター４５により閉じられており、ウエハＷをスピンチャック２と外部の搬送機構との間で受け渡すときに開くように構成されている。

【0026】

図２及び図６に示すように、カップ体３内の雰囲気を排気するための専用排気路３８はカップ体３の底面部に形成された排気口３７と接続されるが、これら排気口３７及び専用排気路３８は、例えば図６に示すように、前記前後方向の後方側に設けられている。また専用排気路３８はカップ体３毎に設けられており、図６に示すように、夫々の専用排気路３８は、スピンチャック２の並びから見て前方側（図６中紙面上方側）に引き出されている。そしてこれら専用排気路３８は、最も下流側の現像処理部１Ａの下流側にて共通の排気路３０に接続されて、この排気路３０を介して既述の排気機構に接続されている。図６ではカップ体３の外縁と排気口３７とを実線にて示し、専用排気路３８については点線にて示している。また図示の便宜上、待機位置にある第１のノズル５と第２のノズル６とを、重ならないように描いている。例えばカップ体３の外部の専用排気路３８及び排気路３０は、後述する塗布、現像装置においては、例えばウエハＷの搬送領域と液処理ユニットとの間に設けられる。

【0027】

また現像装置の各駆動機構２２や移動機構５３、６３、専用排気路３８や排気路３０に設けられた図示しない圧力調整部等は、塗布、現像装置全体の動作を制御する制御部１００により制御されるようになっている。制御部１００は、例えば図示しないプログラム格納部を有するコンピュータからなり、プログラム格納部には、第１のノズル５及び第２のノズル６を用いて後述の現像処理を行う動作等についてのステップ（命令）群を備えたコンピュータプログラムが格納されている。そして当該コンピュータプログラムが制御部１００に読み出されることにより、制御部１００は現像装置１の動作を制御する。なおこのコンピュータプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶機構に収納された状態でプログラム格納部に格納される。

【0028】

以上に説明した構成に基づいて、ウエハＷに一連の現像処理を行う手順について、図７を参照しながら説明する。ウエハＷは図示しない外部の搬送機構により、現像処理部１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄの順にこの繰り返しで搬入される。現像処理部１Ａ〜１Ｄに搬入されるウエハＷは、レジストが塗布され、そのレジストが所定の露光処理を受けたものである。

【0029】

先ず各カップ体３内を図示しない排気機構により、共通の排気路３０、専用排気路３８及び排気口３７を介して排気する。これにより、カップ内３は図２に点線で示すような気流が形成されて排気される。排気口３７は既述のようにカップ体３の底面部の片側（半分側）に形成されているが、気流の流れから見て排気口３７の上流側には気流制御用の隔壁部３６が設けられていて、これが圧損となる。このため排気口３７が設けられたカップ体３の片側領域ではこの隔壁部３６により排気が抑えられるので、排気口３７が形成された領域と形成されていない領域との間で排気の程度が揃えられ、カップ体３の気流を周方向においてより均一にすることができる。

【0030】

各カップ体３内が所定の排気量になると、前記搬送機構によりウエハＷが現像処理部１Ａのケース体４の基板用の開口部４３を介して、カップ体３の開口部３１の上方側に搬入される。そして昇降ピン３９との協働作用により、ウエハＷがスピンチャック２上に受け渡されてカップ体３内に入る。次いで制御部１００からの制御信号を受けて、第１のノズル５が待機位置から供給位置に移動し、さらに吐出口５４がウエハＷの表面から１５ｍｍ〜２０ｍｍとなる高さ位置に下降する。
続いて図７（ａ）に示すように、スピンチャック２によりウエハＷを回転させながら、第１のノズル５からウエハＷの中心部を含む領域に現像液を供給する。ウエハ中心部に供給された現像液Ｄはスピンコーティングにより、ウエハＷの周縁部側へと広がり、ウエハ表面全体に塗布される。このとき第１のノズル５から現像液を吐出しながら、第１のノズル５をウエハＷの中心部と外側方向との間で前記前後方向に進退移動させるようにしてもよい。

【0031】

こうして第１のノズル５から現像液を吐出して所定時間経過すると、現像液の供給を停止し、第１のノズル５を待機位置へ退行させる。一方第２のノズル６を、洗浄液ノズル部６４が供給位置に位置するように移動させる。このとき、既述のように第１のノズル５と第２のノズル６との高さ位置が設定されているので、図７（ｂ）に示すように、第２のノズル６は第１のノズル５の上方側を通過して第１のノズル５の前方側まで移動し、次いで下降するように駆動される。これにより、第２のノズル６の洗浄ノズル部６４が供給位置において、その吐出口６４１がウエハＷの表面から１５ｍｍ〜２０ｍｍとなる高さに位置される（図７（ｃ）参照）。こうしてウエハＷを回転させながら、洗浄液である純水をウエハＷ表面の中心部を含む領域に吐出する。吐出された洗浄液はウエハＷの遠心力の作用により液面に沿って外側に広がり、ウエハＷ表面のレジスト溶解成分を含む現像液を洗い流し、ウエハＷの表面が洗浄される。

【0032】

洗浄液の吐出開始から所定の時間が経過すると、洗浄液の供給を停止し、乾燥ガスノズル部６５が供給位置に位置するように第２のノズル６を進退移動させて、ウエハＷの中心部を含む領域に乾燥ガスである窒素ガスを供給する。この乾燥ガスの供給とカップ体３内の排気とにより、ウエハＷの中心部から周縁部に向かう気流が形成され、この気流と遠心力との作用により、ウエハＷに付着した液はウエハＷから除去され、ウエハＷが乾燥される。

【0033】

ウエハＷの乾燥が終了すると、乾燥ガスノズル部６５から乾燥ガスの供給を停止し、第２のノズル６を待機位置に移動させる。またスピンチャック２の回転を停止させて、外部の搬送機構と昇降ピン３９との協働作業によりウエハＷがケース体４の基板用の開口部４３を介して現像装置の外部に搬出される。
現像処理部１Ｂ〜１Ｄにおいても、夫々ウエハＷに対して、現像処理部１Ａにおける処理と同様に処理が行われる。こうして現像処理部１Ａ→１Ｂ→１Ｃ→１Ｄの順にウエハＷが搬入され、同様に一連の現像処理が行われる。

【0034】

上述の実施の形態によれば、ウエハＷに処理流体を供給するためのノズルは、スピンチャック２の並び方向（左右方向）に交差する前後方向に、スピンチャック２上のウエハＷに現像液を供給する供給位置と、カップ体３の外側の待機位置との間で進退するように構成されている。またウエハＷはスピンチャック２に対して、スピンチャック２の並び方向の前方側からが受け渡されるように構成されている。このためスピンチャック２に受け渡されるウエハＷから見ると、スピンチャック２の背後にノズルが設けられており、スピンチャック２の並び方向にノズルの設置スペースを確保する必要がない。

【0035】

このため複数のスピンチャック２を配列しても、ノズルの進退方向である前後方向の大きさをスピンチャック２が単独である場合と変えずに、複数のスピンチャック２用のノズルを設置できる。また装置の左右方向の大きさについても、ウエハＷの処理スペースであるカップ体３のスペース分のみが増加することになる。これに対して、ノズルをスピンチャック２と並んで設ける構成の装置では、スピンチャック２の配列数を増加する場合、カップ体３のスペースに合わせてノズルの設置スペースも確保する必要がある。従って本発明の構成では、複数のスピンチャック２を配列した場合に、装置全体の小型化を図ることができる。
またスピンチャック２の配列方向はウエハＷの搬送方向でもあるため、複数のスピンチャック２を配列するときに、この配列方向の長さの増大を抑えることは、ウエハＷの搬送時間の低減につながり、スループットの低下を抑制できる。

【0036】

さらに既述のようにウエハＷから見てスピンチャック２の背後にノズルが設けられているため、スピンチャック２の配列方向の大きさを変えずにノズルの本数を増加することができる。このように装置の大きさを変えずに、ノズルの本数を変更することができるので、１台のスピンチャック２で複数の処理流体や処理ガスを用いた液処理を行うことができ、処理の自由度を高めることができる。

【0037】

さらに複数のスピンチャック２の夫々は、カップ体３と、その側壁４１の上縁がカップ体３よりも高いケース体４によって２重に囲まれているので、処理流体のはねであるスプラッシュや処理流体のミストが外部へ流出することが抑えられる。このスプラッシュやミストはパーティクルの発生原因となるため、パーティクルの発生を抑制するためにはケース体４の設置は有効である。またケース体４は外部のパーティクルの流入を防ぐ役割も果たしている。

【0038】

さらにノズルは前後方向に進退するのみであり、左右方向には移動しないので、ケース体４に形成されるノズル用開口部４２の左右方向の大きさはノズルが進退移動できる程度の大きさであればよい。このためノズルが左右方向に移動するタイプに比べて、ケース体に形成される開口部は小さくて済むので、この点からも処理流体のスプラッシュやミストの流出や、外部のパーティクルの流入が抑制される。さらにノズル用の開口部４２及び基板用の開口部４３をシャッター４４、４５により夫々開閉自在に構成することによって、液処理中に前記開口部４２、４３を塞ぐことができるので、より処理流体のスプラッシュやミストの流出や外部のパーティクルの流入が抑えられる。

【0039】

またカップ体３内に隔壁部３６を設けているので、当該隔壁部３６の形状や設置個所を調整することにより、カップ体３内の気流を制御することができる。このため排気口３７をカップ体３の片側に寄った位置に設けたとしても、カップ体３内に周方向に均一な気流を形成することができる。従って排気口３７及び専用排気路３８の設置個所が選定でき、装置設計の自由度が高くなる。
さらに各専用排気路３８は、最も下流側の現像処理部１Ａよりもさらに下流側の地点にて共通の排気路３０に集合させている。このため各カップ体からの専用排気路が共通の排気路に直接接続される構成に比べて、コンダクタンスが揃えられ、カップ体３内への逆流が抑制できると共に、カップ体３間における排気量が揃えられて、安定した排気を行うことができる。

【0040】

以上において、この実施の形態では、第１のノズル５及び第２のノズル６はいずれか一方が昇降自在に構成されればよい。また第１及び第２のアーム部５１、６１を夫々基台５２、６２に沿って進退自在に設けると共に、これら第１及び第２のアーム５１、６２に夫々昇降機構を取り付け、これら昇降機構により第１のノズル５及び第２のノズル６を夫々昇降させるようにしてもよい。さらにケース体４を設けずにカップ体３を上方側まで伸びるように設け、このカップ体３にノズル用の開口部と基板用の開口部とを形成するようにしてもよい。この場合にはカップ体３が囲み部材に相当する。またケース体４はその上面を塞ぐように構成してもよい。

【0041】

続いて本発明の液処理装置の他の例について説明する。この例は、ノズルを洗浄するためのノズル洗浄部２３を、ケース体４の外方であって、前記供給位置と、待機位置とを結ぶ直線上に設けたものである。例えばノズル洗浄部２３は、図３に点線にて示すように、ケース体４のノズル用開口部４２の直ぐ後方側外方に設けられる。例えばノズル洗浄部２３は、図８に示すように、ノズルが収容される液収容部をなすバス室２４を備え、このバス２４室の底面には、開閉バルブＶ１を備えたドレイン管２５が接続されている。ノズル５、６は夫々のアーム５１、６１よりも下方側に伸びるように設けられているので、バス室２４は、例えばノズル５、６のみが個別に収容されるように構成される。バス室２４の側壁には、ノズルを洗浄する洗浄液を供給するための吐出ノズル２６１と、洗浄液を洗い流すためのリンス液である純水を供給するための吐出ノズル２６２と、乾燥用のガスである窒素ガスを供給するための吐出ノズル２６３とが設けられている。これら吐出ノズル２６１、２６２、２６３は、夫々洗浄液供給部、リンス液供給部、乾燥ガス供給部をなすものである。ドレイン管２５に接続された開閉バルブＶ１を閉じ、吐出ノズル２６１、２６２から洗浄液又はリンス液を供給することにより、バス室２４内に洗浄液又はリンス液を貯留することができる。また吐出ノズル２６１からノズルに洗浄液を吐出することにより、ノズルの先端部を洗浄することができ、またバス室２４に貯留した洗浄液によってもノズルの先端部を洗浄することができるようになっている。

【0042】

バス室２４は、例えば図８（ｂ）に示すように、第１のノズル５及び第２のノズル６が待機位置にあるときに、これら第１及び第２のノズル５、６が洗浄バス２４の上方側に位置するように構成されている。図８（ｂ）では、第１のノズル５及び第２のノズル６が重なって描いているが、実際には既述のように第１のノズル５の上方側に第２のノズル６が位置している。
このようなノズルの洗浄は、例えばロットの全てのウエハＷに対して現像処理が行われた後、第１のノズル５と第２のノズル６とに対して順番に行われる。例えばノズル５を洗浄するときには、待機位置にあるノズル５を下降することにより、ノズル５を洗浄バス２４に収容して行う。ノズル５の洗浄が終わった後、例えばノズル５を洗浄バス２４よりも進退方向の手前側又は奥側に位置させてから、待機位置にある第２のノズル６を下降することにより、第１のノズル５と干渉させずに第２のノズル６を洗浄バス２４に収容して行う。

【0043】

このような構成では、ノズルの進退方向にノズル洗浄部２４が設けられているので、ノズルを進退移動させることによりノズルの洗浄を行うことができて便利である。またノズル洗浄部２４がスピンチャック２の前後方向の後方側に配置されるので、装置の左右方向の長さを大きくせずに、洗浄スペースを確保することができる。
またこのようなノズル洗浄部（洗浄バス）は、第１のノズル５と第２のノズル６とに対して、夫々個別に用意するようにしてもよい。この場合には、一方の洗浄バスと他方の洗浄バスとは、左右方向（Ｘ方向）に並んで配列される。このようにすると、第１のノズル５と第２のノズル６とに対して夫々同時に洗浄を行うことができて、洗浄処理に要する時間を短縮できる。

【0044】

またノズル洗浄部は、図９に示すように、ノズルに対して洗浄液を供給するための洗浄バス２７１と、ノズルに対してリンス液を供給するためのリンスバス２７２と、ノズルに対して乾燥用のガスを供給するための乾燥バス２７３とを、ノズルの進退方向（Ｙ方向）に並べて設けるようにしてもよい。これら洗浄バス２７１、リンスバス２７２、乾燥バス２７３は、夫々第１のノズル５及び第２のノズル６を収容できるように構成されている。洗浄バス２７１、リンスバス２７２、乾燥バス２７３には、洗浄液供給部をなす吐出ノズル２８１と、リンス液供給部をなす吐出ノズル２８２と、乾燥ガス供給部をなす吐出ノズル２８３とが夫々設けられている。

【0045】

この構成では、第１のノズル５及び第２のノズル６を進退移動させることにより、当該ノズル５、６を洗浄バス２７１→リンスバス２７２→乾燥バス２７３の順に夫々収容し、夫々のバスにて洗浄液等の供給を行うことによって洗浄処理が行われる。このため図９に示すように、例えば第２のノズル６に対してリンスバス２７２にてリンス液の供給を行っている間に、第１のノズル５に対して洗浄バス２７１にて薬液の供給を行うというように、一方のノズルの洗浄の終了を待つことなく、他方のノズルに対して洗浄を開始できるので、洗浄処理に要する時間を短縮できる。また複数のバスが前後方向に配置されるので、装置の左右方向の大型化を抑えて、洗浄スペースを確保することができる。

【0046】

続いて第１のノズル及び第２のノズルの他の例について、図１０を参照して説明する。この例では一方のノズルこの例では第１のノズル５５が前後方向（Ｙ方向）に進退自在に構成され、他方のノズルこの例では第２のノズル６６は昇降自在及び前後方向に進退自在に構成されて、第１のノズル５５及び第２のノズル６６が互いに干渉せずに、供給位置と待機位置との間で移動するようになっている。
第１のノズル５５はノズル移動機構を兼ねる支持部材５５１により支持されて、前後方向に水平に伸びる基台５５２に沿って移動自在に構成されている。前記支持部材５５１は、その基端側から上方側に伸び、次いで屈曲してスピンチャック２側に水平に伸びる略Ｌ字型に構成され、この支持部材５５１の先端領域の下端に第１のノズル５５が設けられ、支持部材５５１の基端側は基台５５２に沿って移動自在に構成されている。５５３は現像液の供給管である。

【0047】

また第２のノズル６６は、例えば洗浄液ノズル部６７１と乾燥ガスノズル部６７２とを備えた複合ノズルとして構成され、上下方向に伸びるガイド板６６２に沿って昇降する昇降機構を兼ねる支持部材６６１に支持されている。前記ガイド板６６２は水平な移動体６６３の上面に取り付けられており、この移動体６６３は前後方向に水平に伸びる基台６６４に沿って移動自在に構成されている。この例では、支持部材６６１と移動体６６３とにより第２のノズル６６のノズル移動機構が構成されている。
前記第２のノズル６６の基台６６４は、第１のノズル５５の支持部材５５１と同様に、その基端側から上方側に伸び、次いで屈曲してスピンチャック２側に水平に伸びる略Ｌ字型に構成されている。また第２のノズル６６の基台６６４と第１のノズル５５の支持部材５５２とは、例えば図１０（ａ）に示すように、平面的に見て互いに重なるように、支持部材５５１の上方側に基台６６４が位置するように設けられている。６７３、６７４は夫々洗浄液供給管、乾燥ガス供給管である。

【0048】

このような構成では、第１のノズル５５を待機位置（図１０（ｃ）に示す位置）から供給位置（図１０（ｂ）に示す位置）まで前後方向に進行させて、スピンチャック２上のウエハＷに現像液を供給し、次いで待機位置まで退行させる。続いて第２のノズル６６を待機位置（図１０（ｂ）に示す位置）から供給位置（図１０（ｃ））まで前後方向に進行させて、スピンチャック２上のウエハＷに洗浄液を供給し、次いで待機位置まで退行させる。
この構成においても、第１のノズル５５と第２のノズル６６とが互いに干渉せずに、供給位置と待機位置との間で移動でき、また第１のノズル５５の支持部材５５１と第２のノズル６６の基台６６４とは平面的に見て重なるように設けられているので、ノズルの設置スペースをより削減することができる。

【0049】

さらに本発明では、複数のノズルを設ける場合に、夫々のノズルの待機位置をノズルの進退方向の異なる位置に設けるようにしてもよい。また本発明においては、前記前後方向はスピンチャック２の並び方向（左右方向）とのなす角（θ１、θ２）が例えば６０度〜１２０度である方向であればよい。ここではウエハＷの中心Ｏを通る前記並び方向の直線Ｌ１とノズルの進退方向を示す直線Ｌ２、Ｌ３とのなす角をθ１、θ２としている。
例えば前記なす角（θ１、θ２）は図１１に示すように、第１のノズルと第２のノズルとが互いに干渉せずに供給位置と待機位置との間で進退移動できる大きさに適宜設定される。この例では、第１のノズル５６は第１のアーム部５６１に支持されて、移動機構５６２により基台５６３に沿って進退自在に構成されている。また第２のノズル６７は第２のアーム部６７１に支持されて、移動機構６７２により基台６６３に沿って進退自在に構成されている。これら第１のノズル５６と第２のノズル６７とは、供給位置に対して入れ替えるときに互いに干渉しない位置に設けられている。このため第１のノズル５６と第２のノズル６７との少なくとも一方のノズルを昇降させる必要はなく、これらは同じ高さ位置で進退自在に構成することができる。

【0050】

さらに図１１に示す構成の第１のノズルと第２のノズルとを、複数の基板保持部であるスピンチャックの並びと直交する方向に進退するように設けてもよい。この場合には第１のノズルの第１のアーム部と第２のノズルの第２のアーム部とは、その長さ方向が前記直交する方向に向くように、左右方向に互いに離間すると共に、前記第１のノズル及び第２のノズルが、供給位置に対して入れ替えるときに平面的に見て互いに干渉しないように設けられる。この場合、例えば第１のノズルと第２のノズルのうちの一方のノズルが基板の中心部を含む領域に処理液を吐出し、他方のノズルが基板の中心部から外れた領域に処理流体例えば乾燥用のガスを吐出する構成を挙げることができる。また他方のノズルが乾燥用のガスを吐出する場合には、ノズルの吐出口の向きが基板の中心部に向いている構成であってもよい。あるいはこの例において、他方のノズルは処理液を吐出するものであってもよい。

【0051】

また図１２に示すように、一方のノズル６をスピンチャック２の並び方向（Ｘ方向）に僅かに移動させることにより、他方のノズル５との干渉を抑えてＹ方向に進退移動させるようにしてもよい。この例では、第２のノズル６は例えば第１のノズル５と同じ高さ位置に設けられ、第２のノズル６の基台６２はＸ方向に伸びるガイドレール６６に沿って移動自在に構成されている。例えば第１のノズル５及び第２のノズル６が待機位置にあるときには、第２のノズル６は図１２中の一点鎖線にて示すように、第１のノズル５と干渉しない位置まで左右方向に離れて配置される。そして、第２のノズル６を供給位置に移動するときには、待機位置からそのまま前進させて供給位置よりも片側この例では右側に寄った位置まで進行させてから、供給位置まで左側にスライド移動させることが行われる。この構成も、ノズル６を、スピンチャック２に保持されたウエハＷに処理流体を供給する供給位置と待機位置との間で前後方向に進退移動させる場合に含まれる。

【0052】

また本発明では、スピンチャック２毎に設けられるノズルは一つであってもよい。例えば図５（ｂ）に示す複合ノズルのように、一つのノズルに対して、互いに異なる液体又はガスを吐出する複数のノズル部を備えた構成とし、例えば一つのノズルに第１の処理流体である現像液を吐出するノズル部と、第２の処理流体である洗浄液を吐出するノズル部と、乾燥ガスを吐出するノズル部とを設ける。この場合には、例えば現像液を吐出するノズル部が第１のノズルに相当し、洗浄液を吐出するノズル部が第２のノズルに相当する。この構成では、第１のノズル及び第２のノズルは共通のアーム部に支持されて、ノズル移動機構により一体的に進退されることになる。

【0053】

さらに本発明の液処理装置は、基板保持部であるスピンチャックを一つとし、このスピンチャックに保持されたウエハＷに対して、処理流体を供給するノズルを複数個設ける場合にも適用することができる。スピンチャックに搬入されるウエハから見て、ノズルはスピンチャックの背後に設けられるので、一つのスピンチャックに対して複数本のノズルが設けられる場合であっても、ノズルが単独の場合と装置サイズを変えずにノズルを増加することができ、装置の大型化を抑えることができる。これに対して、ノズルが左右方向にスピンチャック２と並んで設けられる構成では、ノズルが複数になると、ノズルの設置スペース分左右方向の大きさが増大し、装置が大型化してしまう。
また前記左右方向は、ウエハＷの搬送領域に面しており、この左右方向のサイズが大きくなると、その分ウエハＷの搬送領域が長くなる。これによりウエハＷの搬送に時間がかかり、スループットが低下するので、本発明のように、液処理装置の左右方向の小型化を図ることができる構成は有効である。この場合においても、図５（ｂ）に示すような複合ノズルを用い、一つのノズルに第１の処理流体を吐出する第１のノズルをなすノズル部と、第２の処理流体を吐出する第２のノズルをなすノズル部とを設ける構成であってもよい。

【0054】

図１３〜図１５に、上記の現像装置１が組み込まれる塗布、現像装置の一例を示す。図１３、図１４、図１５は夫々当該塗布、現像装置７の平面図、斜視図、概略縦断側面図である。この塗布、現像装置７は、キャリアブロックＤ１と、処理ブロックＤ２と、インターフェイスブロックＤ３と、を直線状に接続して構成されている。インターフェイスブロックＤ３にはさらに露光装置Ｄ４が接続されている。以降の説明ではブロックＤ１〜Ｄ３の配列方向を左右方向（Ｘ方向）とする。キャリアブロックＤ１は、同一のロットの基板であるウエハＷを複数枚含むキャリアＣを塗布、現像装置７内に搬入出する役割を有し、キャリアＣの載置台７１と、開閉部７２と、開閉部７２を介してキャリアＣからウエハＷを搬送するための移載機構７３とを備えている。

【0055】

処理ブロックＤ２は、ウエハＷに液処理を行う第１〜第６の単位ブロックＥ１〜Ｅ６が下から順に積層されて構成されている。説明の便宜上ウエハＷに下層側の反射防止膜を形成する処理を「ＢＣＴ」、ウエハＷにレジスト膜を形成する処理を「ＣＯＴ」、露光後のウエハＷにレジストパターンを形成するための処理を「ＤＥＶ」と夫々表現する場合がある。この例では、図１４に示すように下からＢＣＴ層、ＣＯＴ層、ＤＥＶ層が２層ずつ積み上げられ、同じ単位ブロックにおいて互いに並行してウエハＷの搬送及び処理が行われる。

【0056】

ここでは単位ブロックのうち代表してＤＥＶ層Ｅ５、Ｅ６を、図１３を参照しながら説明する。キャリアブロックＤ１からインターフェイスブロックＤ３へ向かう搬送領域７４の前後の一方側には棚ユニットＵが左右方向に複数配置され、他方側には本発明の現像装置１が設けられている。棚ユニットＵは、加熱モジュールを備えており、前記搬送領域７４には、ウエハＷの搬送機構である搬送アームＦ３が設けられている。

【0057】

他の単位ブロックＥ１、Ｅ２、Ｅ３及びＥ４は、ウエハＷに供給する薬液が異なることを除き、単位ブロックＥ５、Ｅ６と同様に構成される。単位ブロックＥ１、Ｅ２は、現像処理部１の代わりに反射膜形成モジュールを備え、単位ブロックＥ３、Ｅ４は、現像処理部１の代わりにレジスト膜形成モジュールＣＯＴを備える。図１５では各単位ブロックＥ１〜Ｅ６の搬送アームはＦ１〜Ｆ６として示している。

【0058】

処理ブロックＤ２におけるキャリアブロックＤ１側には、各単位ブロックＥ１〜Ｅ６に跨って上下に伸びるタワーＴ１と、タワーＴ１に対してウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在な受け渡しアーム７５とが設けられている。タワーＴ１は、互いに積層された複数のモジュールにより構成されており、単位ブロックＥ１〜Ｅ６の各高さに設けられるモジュールは、当該単位ブロックＥ１〜Ｅ６の各搬送アームＦ１〜Ｆ６との間でウエハＷを受け渡すことができる。これらのモジュールとしては、受け渡しモジュールＴＲＳ、ウエハＷの温度調整を行う温調モジュールＣＰＬ、複数枚のウエハＷを一時的に保管するバッファモジュール、及びウエハＷの表面を疎水化する疎水化処理モジュールなどが含まれている。

【0059】

インターフェイスブロックＤ３は、単位ブロックＥ１〜Ｅ６に跨って上下に伸びるタワーＴ２、Ｔ３、Ｔ４を備えている。タワーＴ２とタワーＴ３に対しては、昇降自在なインターフェイスアーム７６により、タワーＴ２とタワーＴ４に対しては昇降自在なインターフェイスアーム７７により、夫々ウエハＷの受け渡しが行われる。またタワーＴ２と露光装置Ｄ４の間でウエハＷの受け渡しを行うためのインターフェイスアーム７８が設けられている。タワーＴ２には、受け渡しモジュールＴＲＳやバッファモジュール、ウエハＷの温度調整を行う温調モジュールなどが互いに積層されている。またタワーＴ３、Ｔ４にも夫々モジュールが設けられているが、ここでは説明を省略する。

【0060】

この塗布、現像装置７及び露光装置Ｄ４からなるシステムのウエハＷの搬送経路について説明する。ウエハＷはロットごとにキャリアＣから搬出される。つまり、一のロットのウエハＷが全て払い出された後に他のロットのウエハＷがキャリアＣから搬出されるように設定されている。また、キャリアＣから払い出される前に、各ウエハＷの搬送経路は予め設定されており、上記のように二重化された単位ブロックのうち、予め設定された単位ブロックに搬送される。

【0061】

ウエハＷは、キャリアＣから移載機構７３により、処理ブロックＤ２におけるタワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳ０に搬送される。この受け渡しモジュールＴＲＳ０からウエハＷは、単位ブロックＥ１、Ｅ２に振り分けられて搬送される。
例えばウエハＷを単位ブロックＥ１に受け渡す場合には、タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳのうち、単位ブロックＥ１に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ１（搬送アームＦ１によりウエハＷの受け渡しが可能な受け渡しモジュール）に対して、前記ＴＲＳ０からウエハＷが受け渡される。またウエハＷを単位ブロックＥ２に受け渡す場合には、タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳのうち、単位ブロックＥ２に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ２に対して、前記ＴＲＳ０からウエハＷが受け渡される。これらのウエハＷの受け渡しは、受け渡しアーム７５により行われる。

【0062】

このように振り分けられたウエハＷは、ＴＲＳ１（ＴＲＳ２）→反射防止膜形成モジュール→加熱モジュール→ＴＲＳ１（ＴＲＳ２）の順に搬送され、続いて受け渡しアーム７５により単位ブロックＥ３に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ３と、単位ブロックＥ４に対応する受け渡しモジュールＴＲＳ４とに振り分けられる。
そしてＴＲＳ３、ＴＲＳ４に振り分けられたウエハＷは、ＴＲＳ３（ＴＲＳ４）→レジスト膜形成モジュールＣＯＴ→加熱モジュール→保護膜形成モジュールＩＴＣ→加熱モジュール→タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳの順で搬送される。前記受け渡しモジュールＴＲＳに搬送されたウエハＷは、インターフェイスアーム７６、７８により、タワーＴ３を介して露光装置Ｄ４へ搬入される。露光後のウエハＷは、インターフェイスアーム７７によりタワーＴ２、Ｔ４間を搬送されて、単位ブロックＥ５、Ｅ６に対応するタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ５、ＴＲＳ６に夫々搬送される。然る後、加熱モジュール→現像装置１→加熱モジュール→タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳに搬送された後、移載機構７３を介してキャリアＣに戻される。

【0063】

本発明の液処理装置は、基板に対してレジスト液、反射防止膜形成用及びウェットエッチング用の薬液や、リンス液（洗浄液）等を供給して液処理を行う液処理装置や、基板と被接着体（例えば基板）とを接着するために、基板に液状の接着剤を処理流体として供給する液処理装置等に適用できる。
また第１のノズルと第２のノズルから夫々吐出される第１の処理流体及び第２の処理流体の種類については上述の実施の形態に限られない。例えば第１のノズルに現像液を吐出するためのノズル部と、リンス液（洗浄液）を吐出するためのノズル部を設けると共に、第２のノズルに乾燥用ガスを供給するためのノズル部を設ける構成としてもよい。この場合には、現像液及びリンス液が第１の処理流体に相当し、乾燥用ガスが第２の処理流体に相当する。

【0064】

さらに本発明の処理流体には蒸気やミスト等も含まれる。例えば現像後のレジストパターンにＮメチルピロリドンや乳酸エチル等の有機溶剤蒸気を供給し、レジスト表面を溶解させる処理（スムージング処理）に用いる有機溶剤の蒸気も処理流体に相当する。また洗浄液を二流体スプレーなどの液滴化機構により液滴化して基板を洗浄する処理（洗浄処理）や、リンス液によるリンス処理の後に例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等の蒸気やミストを供給して基板を乾燥する処理（乾燥処理）等に用いる蒸気やミストも処理流体に含まれる。

【符号の説明】

【0065】

Ｗ ウエハ
１Ａ〜１Ｄ 現像処理部
２ スピンチャック
３ カップ体
３７ 排気口
３８ 専用排気路
４ ケース体
４１ 側壁
４２ ノズル用の開口部
４３ 搬入出用の開口部
４４、４５ シャッター
５ 第１のノズル
５１ 第１のアーム部
５２、６２ 基台
５３、６３ 移動機構
６ 第２のノズル
６１ 第２のアーム部

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】