特許5870568成膜装置、プラズマ処理装置、成膜方法及び記憶媒体

発明の名称　成膜装置、プラズマ処理装置、成膜方法及び記憶媒体

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 35 位（570件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 22 位（757件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5870568

公報発行日　2016年3月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5870568

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