特許5871004酸化亜鉛薄膜の製造方法及び酸化亜鉛薄膜を備えるデバイスの製造方法

発明の名称　酸化亜鉛薄膜の製造方法及び酸化亜鉛薄膜を備えるデバイスの製造方法

出願人　株式会社ニコン　（識別番号 4112）

　　　　特許公開件数ランキング 155 位（208件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 130 位（205件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5871004

公報発行日　2016年3月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5871004

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