特許5871203酸素プラズマエッチング用レジスト材料、レジスト膜、及びそれを用いた積層体

発明の名称　酸素プラズマエッチング用レジスト材料、レジスト膜、及びそれを用いた積層体

出願人　ＤＩＣ株式会社　（識別番号 2886）

　　　　特許公開件数ランキング 159 位（205件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 88 位（272件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5871203

公報発行日　2016年3月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5871203

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