発明の名称 TiN膜の成膜方法および記憶媒体
出願人 東京エレクトロン株式会社 (識別番号 219967)
特許公開件数ランキング 35 位(570件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 20 位(748件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-5872904
公報発行日 2016年3月1
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5872904
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