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▶ カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】5882286
(24)【登録日】2016年2月12日
(45)【発行日】2016年3月9日
(54)【発明の名称】光学システム及び露光装置
(51)【国際特許分類】
G03F 7/20 20060101AFI20160225BHJP
G03B 9/04 20060101ALI20160225BHJP
【ＦＩ】
G03F7/20 503
G03B9/04
【請求項の数】6
【外国語出願】
【全頁数】13
(21)【出願番号】特願2013-231362(P2013-231362)
(22)【出願日】2013年11月7日
(62)【分割の表示】特願2012-22377(P2012-22377)の分割
【原出願日】2003年12月18日
(65)【公開番号】特開2014-64019(P2014-64019A)
(43)【公開日】2014年4月10日
【審査請求日】2013年11月22日
(31)【優先権主張番号】10350545.8
(32)【優先日】2003年10月29日
(33)【優先権主張国】DE
【前置審査】
(73)【特許権者】
【識別番号】503263355
【氏名又は名称】カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
(74)【代理人】
【識別番号】100147485
【弁理士】
【氏名又は名称】杉村 憲司
(74)【代理人】
【識別番号】100147692
【弁理士】
【氏名又は名称】下地 健一
(72)【発明者】
【氏名】ビーク ヘルマン
(72)【発明者】
【氏名】ヴィル マルクス
(72)【発明者】
【氏名】ビショフ トーマス
(72)【発明者】
【氏名】クワン イム−ブン パトリック
(72)【発明者】
【氏名】グエン ユー−リーム
(72)【発明者】
【氏名】クサルター ステファン
(72)【発明者】
【氏名】ミュールベイヤー ミカエル
【審査官】
赤尾 隼人
(56)【参考文献】
【文献】
特開２０００−１７３９１６（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２００２−１１８０５３（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２００２−３７２７３５（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特表２００２−５０９６５３（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
Ｇ０３Ｆ ７／２０
Ｈ０１Ｌ ２１／０２７
Ｇ０２Ｂ ５／００−５／１３６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
光学システムであって、
それぞれ開口を画定する、複数のダイアフラムと、
前記複数のダイアフラムの一つを選択的に位置決めする保持装置と、
を備え、
前記光学システムは、光軸を有する投影光学システムを有するマイクロリソグラフィ光学システムであり、
前記複数のダイアフラムは、それぞれの該複数のダイアフラムが、前記保持装置により前記投影光学システム内に位置決めされたとき、開口の大きさの違いにより前記投影光学システムの前記光軸方向の開口の位置が互いに異なることを特徴とする、光学システム。
それぞれ開口を画定する、複数のダイアフラムと、
前記複数のダイアフラムの一つを選択的に位置決めする保持装置と、
を備え、
前記光学システムは、光軸を有する投影光学システムを有するマイクロリソグラフィ光学システムであり、
前記複数のダイアフラムは、それぞれの該複数のダイアフラムが、前記保持装置により前記投影光学システム内に位置決めされたとき、開口の大きさの違いにより前記投影光学システムの前記光軸方向の開口の位置が互いに異なることを特徴とする、光学システム。
【請求項2】
前記複数のダイアフラムの一つを前記投影光学システムの光線経路へ挿入し、及び、前記光線経路から引っ込めるように構成された装置をさらに備える、
請求項１に記載の光学システム。
請求項１に記載の光学システム。
【請求項3】
前記装置は、前記複数のダイアフラムの一つを他のダイアフラムと交換する交換機構を有する、請求項２に記載の光学システム。
【請求項4】
前記複数のダイアフラムの一つを前進及び後退させて、前記ダイアフラムを前記光線経路に対して選択的に前進及び後退させる駆動ユニットを備える、請求項２に記載の光学システム。
【請求項5】
前記光学システムは、ミラーを有する、請求項１〜４の何れか一項に記載の光学システム。
【請求項6】
請求項１〜５の何れか一項に記載の光学システムを有する露光装置であって、前記光学システムは、さらに、照明システムを備え、前記露光装置は、マイクロリソグラフィ投影露光装置であることを特徴とする、露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、光学式撮像装置、特に、半導体素子製造用ＥＵＶＬ分野におけるマイクロリソグラフィを目的とし、光線経路と、複数の光学素子と、調整可能なダイアフラム開口部
形状を有するダイアフラム装置とを備えたものに関する。
【背景技術】
【0002】
光学式撮像装置のシステムダイアフラムとして、種々のダイアフラムが利用されていることが一般的に知られている。光学式撮像装置の光線経路における光線束の直径は、特に
、開口径を変更可能なこれらダイアフラムによって変更することができる。
【0003】
一般的に鎌形状からなり、一端が固定マウントに回転自在に支持された薄いブレイドを少なくとも４つ、大抵はそれ以上備えた所謂アイリスダイアフラムが特に普及している。
この配置では、ブレイドの他端が、回転リングの溝やスロットに挿入されたピンを備えた
案内装置として設けられ、回転リングが回転することによって、ブレイドが移動し、ダイ
アフラムの残存開口径を変更できる。
【0004】
ドイツ特許公報ＤＥ １０１ １１ ２９９ Ａ１は、そのようなアイリスダイアフラムを開示しており、特に、半導体リソグラフィにおける露光目的のものであって、複数のブレ
イドを備え、これらのブレイドが案内部材によって案内され、ダイアフラムの開口部を調
整する目的で設けられた少なくとも１つの駆動装置によって、これらのブレイドが駆動可
能なものを開示している。案内部材は、アイリスダイアフラムの光軸に対する放射方向で
少なくともほぼ直線的にブレイドを移動可能に設計されている。
【0005】
ドイツ特許公報ＤＥ １９９ ５５ ９８４ Ａ１は、光学式撮像装置を絞るための更なるダイアフラムを開示している。
既知のダイアフラムのうち、特に、ブレイドによって連続的な調整が可能なアイリスダ
イアフラムは、主にＥＵＶＬ分野におけるマイクロリソグラフィ用の光学システムを絞る
用途には不適合となっている。それは、この分野において、取付可能な空間に関してより
厳しい要求がなされ、これらの構造では満たし得なくなっているからである。
【0006】
そこで、小さな取付空間しか必要としないダイアフラムを用いて絞ることが可能な最初に述べた形式の光学撮像装置を開発することを本発明の目的とする。
この目的は、ダイアフラム装置が、複数の異なるダイアフラム開口部を格納したダイアフ
ラム格納部を備え、各ダイアフラム開口部が、固定された形状を有し、光線経路に導入さ
れ得るという事実に基づく本発明により達成される。
【0007】
本発明による方策は、単純且つ有利な方法で、ダイアフラム開口部形状が不変で、非常に小さな空間に格納可能なダイアフラム機構を備えた光学式撮像装置を開発することであ
る。ダイアフラム開口部形状の幾何学形状に制限がなく、円形や、楕円形、または他の幾
何学形状をダイアフラム開口部に用いることができる。既知のブレイド型アイリスダイア
フラムに対して、移動される質量が比較的小さく、光学式撮像装置におけるダイアフラム
の交換を非常に迅速に行うことができる。最も多彩な形式の複数のダイアフラムが、ダイ
アフラム開口部を備えた既存のダイアフラム格納部によって使用されるようになる。
【0008】
ダイアフラム格納部が回転ディスクダイアフラム群として設計される場合、具体的には、ダイアフラム格納部が光学式撮像装置の外部に配置される場合、更に、ダイアフラム開
口部を設けられた複数の回転ディスクダイアフラムを備え、更に、具体的には、回転ディ
スクダイアフラムが別体のプラグインユニットに収容される場合に、非常に有利である。
【0009】
これらの方策によって、具体的には、光学式撮像装置外部におけるダイアフラム装置の設計における更なる空間の節約が可能となる。その結果、回転ディスクダイアグラム群に
比較的多くの異なる回転ディスクダイアフラムを積み重ねることができる。内部に配置す
ることと対比してみると、光学式撮像装置外部にダイアフラム装置を配置することは、更
に、ダイアフラム装置による光学式撮像装置の汚染を最小限にする。更に、このダイアフ
ラム装置は、光学式撮像装置における光学素子にひどい振動を誘発しないように光学式撮
像装置と力学的に分離することができる。
【0010】
更に、２つのローラに巻かれて張力がかけられた板金ストリップをダイアフラム格納部として設け、この板金ストリップが複数の固定形状のダイアフラム開口部を備え、具体的
には、種々の固定形状のダイアフラム開口部を複数備え、ローラを回転させてダイアフラ
ム開口部を変更することで、ダイアフラムの調整が可能である本発明の一体構造形態を提
供できる。
【0011】
この結果、各種のダイアフラムの非常に高い動的調整が可能となり、各種のダイアフラムを非常に小さな空間に格納することができる。移動される質量が比較的小さく、ダイア
フラム開口部の幾何学形状に制限がない。ダイアフラムの交換を迅速に行うことができる
。
【0012】
本発明の有利な改良と展開は、更なる従属請求項に挙げられている。本発明の各実施形態は、図面を用いて以下に概ね説明されている。
【図面の簡単な説明】
【0013】
【図1a】標準的な光線経路を有した、ＥＵＶＬ分野におけるマイクロリソグラフィを行うための投影対物レンズの詳細を示す。
【図3】回転ディスクダイアフラムの３つの実施形態の側面図を示す。
【図4a】回転ディスクダイアフラム群を備えたダイアフラム装置の一実施形態の説明図を示す。
【図4b】回転ディスクダイアフラム群を備えたダイアフラム装置の一実施形態の説明図を示す。
【図4c】回転ディスクダイアフラム群を備えたダイアフラム装置の一実施形態の説明図を示す。
【図5】リフト装置と、保持装置と、回転ディスクダイアフラムの絞りとしてのスプリング部材とを備えたダイアフラム装置の図を示す。
【図6a】回転ディスクダイアフラムの位置決めをする電磁保持装置の一実施形態の説明図を示す。
【図6b】回転ディスクダイアフラムの位置決めをする電磁保持装置の一実施形態の説明図を示す。
【図6c】回転ディスクダイアフラムの位置決めをする電磁保持装置の一実施形態の説明図を示す。
【図7a】ミラーの汚染監視手段の一実施形態の説明図を示す。
【図7b】ミラーの汚染監視手段の一実施形態の説明図を示す。
【図8】リフト装置を備えた独創的な外部ダイアフラム装置の側面図を示す。
【図9】リスト装置を備えたダイアフラム装置の更なる実施形態の側面図を示す。
【図10a】リフト装置の一実施形態の斜視図を示す。
【図10b】リフト装置の一実施形態の斜視図を示す。
【図10c】リフト装置の一実施形態の斜視図を示す。
【図11】回転ディスクダイアフラム群を降ろすロボット把持アームの斜視図を示す。
【図12】板金ストリップを巻かれた２つのローラを備えたダイアフラム装置の更なる実施形態の斜視図を示す。
【図14】光源、照明システム、投影対物レンズを備えたＥＵＶ投射露光装置の設計原理を示す。
【発明を実施するための形態】
【0014】
図１ａは、ＥＵＶＬ分野で使用される投影対物レンズ１の詳細を示している。投影対物レンズ１は、投影対物レンズ１における破線で描かれたハウジング１ａに付設されたミラ
ー３間に標準的な光線経路２と、対象面４（図１４に詳細を説明する）とを有している。
【0015】
光線経路２内に配設されているのは、投影対物レンズ１の光線を絞るためのダイアフラム開口部６を有したダイアフラム５である。図に示すように、ここでは、ダイアフラム５
の特性と取付空間に関して厳しい要求がなされている。この要求は、主に円で強調された
ダイアフラム５の側面５’に対してされている。したがって、図１ｂに図示されているよ
うに、ダイアフラム開口部６は、中心からずらされているべきである。ダイアフラム５に
おけるダイアフラム開口部６のこのような不可欠な配置と、投影対物レンズ１における小
さな取付空間とが、従来の連続的に調整可能な（例えば、ブレイドによる）アイリスダイ
アフラムをこのような投影対物レンズ１、特に、ＥＵＶＬ分野における動作波長に使用す
ることを困難にしている。
【0016】
図２は、投影対物レンズ１の詳細を示す。投影対物レンズ１は、回転ディスクダイアフラム群７ａ，７ｂを有するダイアフラム装置７を備える。回転ディスクダイアフラム群７
ａ，７ｂは、個別のダイアフラム５を備える。ダイアフラム５は、固定された形状を有す
る（図１ｂ参照）回転ディスクダイアフラムとして設計され、上下に積み重ねられている
。ダイアフラム開口部６は、図示された円形状に代えて、楕円形やその他の形状となって
いてもよい。回転ディスクダイアフラム５は、好ましくは、ダイアフラム群７ａ，ｂ内の
第１位置から、矢印８で示された方向に沿って、投影対物レンズ１の光線経路２内の第２
位置へ導入され、作動位置９（点線で示す）へ至る。図１ｂに示すように、回転ディスク
ダイアフラム５は、光線に隣接する側に幅の狭い縁を備え、残りの外周全体に幅が広い縁
を備えるように成形されている。
【0017】
図３ａ〜図３ｃに示すように、光線方向の上流側に配設されたミラー３に対する回転ディスクダイアフラム５ａ〜５ｃの最適な物理的間隔は、ダイアフラムのサイズの違いによ
って異なる。これを確実にするため、回転ディスクダイアフラム５ａ〜５ｃをミラー３に
対して一定の高さｈに配置する際に、ミラー３には、これらの配置のレンジ１０に対して
異なる高さが付与される。ダイアフラム５ｂおよび５ｃは、それぞれ、第１領域Ｉおよび
第２領域ＩＩを有し、第２領域Ｉは、ダイアフラム５ｂおよび５ｃの径方向に沿って第１
領域Ｉの内側に位置する。さらに、ダイアフラム５ｂおよび５ｃは、第１領域Ｉおよび第
２領域ＩＩの間に、第１領域Ｉおよび第２領域ＩＩに対して平行ではない第３領域ＩＩＩ
を有する。
【0018】
図４ａに図示するように、回転ディスクダイアフラム群７ａは、複数の回転ディスクダイアフラム５を備え、これら回転ディスクダイアフラム５は、個別のプラグインユニット
１１に収容されている。各プラグインユニット１１は、全てのプラグインユニット１１に
対して共通な連接部材（図示せず）によって、個別に回し出される（図４ａの矢印１２に
よって示す）。いずれ後述するように、この回し出されによって、各回転ディスクダイア
フラム５が回し出されたのち、投影対物レンズ１の光線経路２を通って作動位置９へとリ
フトされ得る（図４ａに点線矢印８によって示す）。プラグインユニット１１の回転動作
は、歯車駆動部によってなされる。歯車駆動部は、リフト機構もしくはモジュールハウジ
ングに取り付けられ、プラグインユニット１１が通過する際に当該駆動部の歯車の歯を動
かすように配置される。あるいは、他の実施形態においては、他の駆動機構、具体的には
、摩擦車、電磁クラッチ、あるいはロータが組み込まれた特別なモータをプラグインユニ
ット１１に設けることも可能であると考えられる。
【0019】
本実施形態では、プラグインユニット１１は全て同一の高さを有している。しかしながら他の実施形態では、種々のサイズのダイアフラム（図３ａ〜３ｃを比較）を使用できる
ように、これらのプラグインユニット１１は異なる高さを有していてもよい。
【0020】
回転ディスクダイアフラム５が作動位置９へ到達すると、回転ディスクダイアフラム５は、保持装置もしくは絞り１３に連結する。保持装置１３によって、回転ディスクダイア
フラム５を繰り返しマイクロメートル範囲で精密に位置決めできる。これにより、個別の
プラグインユニット１１や、全体的なリフト機構（矢印８で示す）の精度要求が削減され
る。
【0021】
図４ｂから明らかなように、別の実施形態においては、作動位置９へ回転ディスクダイアフラム５をリフトする代わりに、適切な回転ディスクダイアフラム５が保持装置１３と
実質的に同じ高さに到達するまで回転ディスクダイアフラム群７ｂを垂直方向（矢印８’
で示す）に移動させたのち、適切な回転ディスクダイアフラム５を収容したプラグインユ
ニット１１を回し出し、更に一可能性として僅かな垂直移動（矢印８）を加えて、保持装
置１３に連結することも可能である。この実施形態は、ダイアフラム交換機構がミラー３
の前に非常に小さな空間を必要とするだけで、この空間を追加システム（ミラークリーニ
ングシステムなど）のために空けることができるという利点がある。垂直移動可能な回転
ディスクダイアフラム群７ｂの作動領域１４は、図４ｃにおいて、破線もしくは点線で図
示されている。追加システム１５のための自由領域１５も同様である。
【0022】
特に、ＥＵＶＬ分野において、投影対物レンズ１は、例えばミラー３といった投影対物レンズ１における個別の光学素子の互いに対する動きとこれらの取付機構に対する動きと
の双方に対して非常に敏感である。干渉的な振動の伝達を最小限とするために、投影対物
レンズ１は、振動から分離されている。更に、投影対物レンズ１内部の個別の部材は、互
いに堅く（高い固有振動数を有するよう）連結されており、通常は低い振動数からなる残
留振動によって揺動しても、剛体として互いに動くようになっている。
【0023】
全体として十分に高い固有振動数を有するダイアフラム装置７の実施形態を開発するのは困難である。そのためには、比較的大きな質量を移動させなければならないとともに、
取付空間が制限されているからである。結果として、動力運動（振動）は、ダイアフラム
装置７によって投影対物レンズ１全体に伝達される。しかしながら、投影対物レンズ１の
他の光学素子に対するダイアフラム５の相対位置は、一般的に、あまり重大ではない。
【0024】
この問題に対する可能な解決策は、ダイアフラム装置７全体を投影対物レンズ１から力学的に分離した別体の機構に取り付けることである。しかしながら、これでは、投影対物
レンズ１にてダイアフラムを正確に位置決めすることがより難しくなる。
【0025】
別の解決策は、選択された回転ディスクダイアフラム５を保持装置１３とともにダイアフラム装置７の他の部分（回転ディスクダイアフラム群７ａ，７ｂ、プラグインユニット
１１、リフト機構、ハウジングなど）から分離して、これらを異なる構造体に配設し、保
持装置１３を光学式撮像装置もしくは投影対物レンズ１に直接固定することである。ダイ
アフラム装置７の他の部分は、別体の機構に取り付ければよい。
【0026】
別の可能な解決策は、保持装置１３とリフト機構１６との双方を投影対物レンズ１に固定するとともに、ダイアフラム装置７の他の部分を別体の構造体に取り付けることである
。
保持装置１３によって、回転ディスクダイアフラム５は、確実に、６自由度を有する状態
で、投影対物レンズ１に対して精密に位置決めされる。更に、重力や他の干渉力に抗して
、回転ディスクダイアフラム５を保持装置３に保持もしくは固定する必要もある。ミラー
表面を粒子で汚染してしまうことを防止するために、回転ディスクダイアフラム５は、で
きる限り静かに固定されるべきである。
【0027】
図５に描かれているように、回転ディスクダイアフラム５は、リフト装置１６によって離脱位置から作動位置９へと搬送され、そこで保持装置１３に保持される。図５に図示さ
れたダイアフラム装置７の場合、主としてダイアフラム交換機構における回転機構を用い
ることが好ましい。それは、並進機構に比べ、例えば摩擦力によって生じる、汚染を引き
起こす粒子がほとんど発生しないからである。図５に更に図示されているように、保持装
置１３において回転ディスクダイアフラム５を保持する実質的に一定の力は、剛性の低い
スプリング部材１７による単純且つ有利な方法で発生されている。スプリング部材１７は
、回転ディスクダイアフラム５の作動位置９に対してスプリング部材１７が大きな圧縮偏
差を生じてしまうことを防止するために、予め圧縮されているべきである。矢印１８は、
投影対物レンズ１における分離配置されたハウジング１ａ（破線で示す）と、同様に分離
配置された投影対物レンズ１の残りの部分（破線ボックス１９）との力学的な分離もしく
は振動の分離を表している。
【0029】
図６ａから明らかなように、保持装置１３ａは、永久磁石２０と、コイル巻線２２を施された軟鋼コア２１とを備えている。回転ディスクダイアフラム５（ここでは詳細を図示
せず）も同様に、軟鋼コア２１’を対向側に備え、その電磁力によって保持されている。
これは、更なる粒子汚染の事例につながり得る、むき出しの機械的可動部品をごく僅かに
する、もしくは一切なくすという効果がある。
【0030】
図６ｂに図示されているように、保持装置１３ｂは、部品２３に設けられ、固定部品２３’と永久磁石２０とを備える。回転ディスクダイアフラム５は、軟鋼コア２１を備え、
それによって回転ディスクダイアフラム５は保持装置１３ｂに保持される。加えて、リフ
ト装置１６（図６ｂでは詳細を図示せず）は、切替可能な電磁石２０’を備え、電磁石２
０’は、ダイアフラム交換時に保持装置１３ｂからダイアフラムを緩めるように切り替え
られる。
【0031】
図６ｃに図示されているのは、第３実施形態の保持装置１３ｃであり、本質的に図６ｂの保持装置１３ｂに相当している。回転ディスクダイアフラム５の切欠２５に係合した柔
軟なスプリング部材２４がこの実施形態では更に挿入されている。
【0032】
図７ａは、保持装置１３ｄを回転ディスクダイアフラム５ｄとともに示している。ここでは、更にミラー汚染監視手段が設けられている。これは、回転ディスクダイアフラム５
の開口部に沿って配設された複数の細いタングステン導線２６によって達成されている。
この目的のため、回転ディスクダイアフラム５ｄは、例えばセラミックやこれに類似した
絶縁材料から作られている。タングステン導線２６との電気的接続は、回転ディスクダイ
アフラム５ｄの軸受部位２７上の３つの接点で達成されている。
【0034】
図８に示されているように、垂直方向に移動可能な回転ディスクダイアフラム群７ｂは、投影対物レンズ１の外部、もしくは、そのハウジング１ａの外部に配設されている。こ
れは、投影対物レンズ１を回転ディスクダイアフラム群７ｂによる汚染から保護するもの
である。回転ディスクダイアフラム群７ｂは、可動するロボット把持アームとして設計さ
れた供給装置２８を設けられている。供給装置２８は、回転ディスクダイアフラム群７ｂ
から対応する回転ディスクダイアフラム５を取り出し、回転ディスクダイアフラム５を投
影対物レンズ１の光線経路２へ挿入するために設けられた開口部２９を介して、回転ディ
スクダイアフラム５を投影対物レンズ１の光線経路２へ挿入する。追加的なリフト装置１
６’（簡略的に図示）は、同様に投影対物レンズ１の外部に配設され、回転ディスクダイ
アフラム５を保持装置１３へ搬送し、そして、回転ディスクダイアフラム５は、作動位置
９に固定される。既に上述したように、ダイアフラム交換機構及びリフト装置１６’は、
力学的に分離する方法で異なる構造体に取り付け可能である。リフト装置１６’の柔軟な
スプリング１７によって力学的に分離された接続が確保される。投影対物レンズ１もしく
はハウジング１ａの開口部２９は、作動中に閉鎖される。
【0035】
図９では、リフト装置１６’’が、投影対物レンズ１のハウジング１ａ内部へ導入され、取り付けられている。粒子汚染を防止もしくは最小限にするために、互いに摺動もしく
は回転する表面は極力最小限に減らされている。これは、固定結合部や適切なアクチュエ
ータ（音声コイルアクチュエータ、ローレンツアクチュエータ）によって実現できる。表
面は、分子汚染の発生を防止するために最小限にされ、更に、脱ガス率の低い適切な材質
（樹脂や潤滑油が付随していない鋼）のみが使用される。軸受の潤滑は、固体結合部を使
用することで省くことができる。投射光学系の構造を力学的に損なわないように、質量は
小さく維持され、あるいは、リフト装置１６’’の固有振動数はできるだけ高く維持され
る。
【0036】
図９から更に明らかなように、リフト装置１６’’は、回転ディスクダイアフラム５のための保持装置１３を備えている。回転ディスクダイアフラム５は、供給装置２８上に配
置される板金として構成されている。供給装置２８は、ミラー３の下の投射光学系へ回転
ディスクダイアフラム５を搬送する。回転ディスクダイアフラム５は、リフト装置１６’
’が上昇する際に供給装置２８から持ち上げられる。リフト装置１６’’は、内部絞りの
反対に駆動する。回転ディスクダイアフラム５は、自重により保持装置１３上に配置され
る。上方への持ち上がりは、例えば保護カバー（図１０ａと対比）によって防止できる。
回転ディスクダイアフラム５は、脱落したり、ミラー３と衝突し得ない。
【0037】
続く図１０ａ〜１０ｃは、図９のリフト装置１６’’の構造形態１６ａ，１６ｂ，１６ｃを示す。これらは、操作用の音声コイルアクチュエータ（詳細は図示せず）を備えてい
る。回転結合部は、それぞれ固体結合部３０として設計されている。
【0038】
図１０ａに図示したように、保護カバー３１は、揺動体として構成されたリフト装置１６ａに回転ディスクダイアフラム５を持ち上げさせてしまうことを防止する。リフト装置
１６ａ〜１６ｃは、各々の持ち上がり動作の終了位置を規定する内部停止端を備えている
。リフト装置１６ａのステアリング動作は、矢印３２によって示されている。
【0039】
図１０ｂは、リフト装置１６ｂを示している。リフト装置１６ｂは、一組のスケールとして設計され、平行四辺形状のガイドを備えている。この場合、回転ディスクダイアフラ
ム５をほぼ垂直に上方へ移動させることができるという利点がある。
【0040】
パンタグラフ型リフト装置１６ｃが図１０ｃに描かれている。
【0041】
図１１は、ロボット把持アームとして設計された供給装置２８を示す。回転ディスクダイアフラム５を供給装置２８のレセプタクルからリフト装置１６ａ，１６ｂ，１６ｃによ
って下から引き出すことができる。ロック機構３３は、搬送中に回転ディスクダイアフラ
ム５を固定する。他の実施形態において、回転ディスクダイアフラム５は、両側から取り
付けることができるように、対照的に成形されていてもよい。加えて、供給装置２８は、
二重把持部として、つまり、２つの回転ディスクダイアフラム５を収容するための２つの
レセプタクルを備えるように設計されていてもよい（図示せず）。それにより、ダイアフ
ラムの交換に要する時間が実質的に短くなる。交換中、供給装置２８は、回転ディスクダ
イアフラム５とともに投影対物レンズ１の投射光学系へと移動する。既に投射光学系に配
置され、交換される回転ディスクダイアフラム５は、第２の（空の）レセプタクルに置か
れる。新たな回転ディスクダイアフラム５は、リフト装置１６ａ，１６ｂ，１６ｃによっ
て運ばれる。それゆえ、ダイアフラムの交換中、供給装置２８の投射光学系への移動が１
回少なくて済む。
【0042】
投影対物レンズ１に用いるダイアフラム装置７’の更なる実施形態は、図１２に図示されている。ここでの大きな利点は、小さな取付空間しか必要としないにもかかわらず、ダ
イアフラム交換の機構が改善されたことである。図示されているように、投射光線３４は
、板金ストリップ７ｃによって絞られる。板金ストリップ７ｃには、開口部３５が設けら
れ、開口部３５は、光学的要求に応じた最適な固定的幾何学形状を有している。板金スト
リップ７ｃ上には、ダイアフラムとして更なる開口部３５が隣接して形成されている。開
口部３５の配列は、要件に応じたダイアフラム交換の適切な速度を確保するために変更可
能である。
【0043】
板金ストリップ７ｃは、２つのローラ３６に巻かれている。これらは、板金ストリップ７ｃが折り目を生じないように駆動され、張力がかけられている。２つの追加的な張力案
内ローラ３７は、光線方向にダイアフラムが移動することを防止するために設けられてい
る。その結果、特に、ローラ３６（巻かれた板金ストリップ７ｃを含む）の径の変化が、
板金ストリップ７ｃの傾いた位置によって顕著に影響されることはない。
【0044】
ダイアフラム開口部３５の最適な位置は、板金ストリップ７ｃのエッジにあるマーキング３８を介して適切なセンサ（図示せず）を使用することで測定できる。しかしながら、
別の実施形態における他の方法も考えられる。
【0046】
図１４に示すように、ＥＵＶ投射露光装置４０は、光源４１と、パターンベアリングマスクが設けられた対象面４の領域を照射するＥＵＶ照明システムと、ハウジング１ａと対
象面４のパターンベアリングマスクを感光性基板４３に撮像する光線経路２（破線で示す
）とを有する投影対物レンズ１とを備える。投影対物レンズ１を絞るダイアフラム５は、
点線で示されている。