特許 5900399 ビス（アミノアルキル）シラン化合物及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5900399

(24)【登録日】2016年3月18日

(45)【発行日】2016年4月6日

(54)【発明の名称】ビス（アミノアルキル）シラン化合物及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   C07F 7/18 20060101AFI20160324BHJP

【ＦＩ】

   C07F7/18 MCSP

   C07F7/18 U

【請求項の数】2

【全頁数】13

(21)【出願番号】特願2013-66486(P2013-66486)

(22)【出願日】2013年3月27日

(65)【公開番号】特開2014-189519(P2014-189519A)

(43)【公開日】2014年10月6日

【審査請求日】2015年2月24日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002060

【氏名又は名称】信越化学工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100079304

【弁理士】

【氏名又は名称】小島 隆司

(74)【代理人】

【識別番号】100114513

【弁理士】

【氏名又は名称】重松 沙織

(74)【代理人】

【識別番号】100120721

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 克成

(74)【代理人】

【識別番号】100124590

【弁理士】

【氏名又は名称】石川 武史

(74)【代理人】

【識別番号】100157831

【弁理士】

【氏名又は名称】正木 克彦

(72)【発明者】

【氏名】久保田 泰文

(72)【発明者】

【氏名】久保田 透

【審査官】 榎本 佳予子

(56)【参考文献】

【文献】 英国特許出願公開第０１５０６２２６（ＧＢ，Ａ）

【文献】 特開２００８−０５６８５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１４３８８１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｆ ７／１８

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

下記一般式（１）

【化1】

（式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ同一でも異なっていても良く、水素原子又は炭素数２〜２０の置換もしくは非置換１価炭化水素基であるが、Ｒ¹及びＲ²の置換基のうちの少なくとも１つが芳香族基である。Ｒ³は炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴は炭素数１〜１０の１価炭化水素基である。）
で表されるビス（アミノアルキル）シラン化合物。

【請求項2】

下記一般式（２）

【化2】

（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴は炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｘは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で表されるビス（ハロアルキル）シラン化合物と、下記一般式（３）

【化3】

（式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ同一でも異なっていても良く、水素原子又は炭素数２〜２０の置換もしくは非置換１価炭化水素基であるが、Ｒ¹及びＲ²の置換基のうちの少なくとも１つが芳香族基である。）
で表されるアミン化合物とを反応させることを特徴とする請求項１記載のビス（アミノアルキル）シラン化合物の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、新規なビス（アミノアルキル）シラン化合物及びその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

アミノアルキル基を含有するシラン化合物は、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、表面処理剤、ポリウレタン樹脂製造用触媒、繊維処理剤等として有用な化合物である。高分子材料の機械的特性や耐熱性を向上させる目的で無機材料（例えば、ガラス繊維、金属酸化物充填剤）を添加する場合、上記シラン化合物を用いることにより、高分子材料と無機材料との密着性向上や無機材料の分散状態が良くなることが知られており、期待される添加効果がより高くなることが知られている。そのようなアミノアルキルシランとしては、３−アミノプロピルトリエトキシシラン等の１級アミノ基を有するアルコキシシラン化合物や、３−Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン等の２級アミノ基を有するアルコキシシラン化合物、３−ジエチルアミノプロピルトリメトキシシラン等の３級アミノ基を有するアルコキシシラン化合物等が知られている。

【0003】

しかしながら、これらの化合物は、１分子当たり１つのアミノ基しか有していないため、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、表面処理剤、ポリウレタン樹脂製造用触媒、繊維処理剤等として用いた場合に効果の発現が十分でない場合があった。

【0004】

上記問題を解決するために、２つ以上のアミノ基を有するアルコキシシラン化合物が提案されており、この２つ以上のアミノ基を有するアミノアルキルアルコキシシラン化合物としては、例えばＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシシラン等のアミノエチルアミノプロピルシラン化合物（非特許文献１：Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，１９４５年、第６７巻、１７７２頁）、４−アルキルピペラジノプロピルトリアルコキシシラン（特許文献１：特開２００９−１４３８８１号公報）等が提案されている。

【0005】

また、アミノ基を２つ以上導入する方法として、アミノアルキル基を２つ以上含有する化合物として、ビス（３−アミノプロピル）ジメトキシシランや、ビス（３−ジメチルアミノプロピル）ジメトキシシラン（特許文献２：特開２００８−０５６８５０号公報）のような非環状のアミノ基を有するアミノアルキル基含有シラン化合物が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２００９−１４３８８１号公報

【特許文献2】特開２００８−０５６８５０号公報

【非特許文献】

【0007】

【非特許文献1】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，１９４５年、第６７巻、１７７２頁

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0008】

しかしながら、非特許文献１のＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシシランは、窒素原子上に活性水素を有する場合、密着性の向上等の添加効果は高いものの、窒素原子と反応する官能基、例えば、イソシアネート基、エポキシ基、酸無水物基を有する化合物に添加した場合に反応してしまい、効果が十分発揮できない場合や、耐熱性が十分でない場合がある。また、特許文献１の４−アルキルピペラジノプロピルトリアルコキシシラン等の環状の構造を有するアミノアルキルシラン化合物は、鎖状構造に比べて安定な構造を有しており、これらにより処理された無機材料を高分子材料中に添加することにより、機械的特性や耐熱性の向上が期待されるものの、アミノ基はいずれも３級アミノ基であり、効果が十分でない場合がある。

【0009】

また、特許文献２のシラン化合物の３−アミノプロピル基は、窒素上に活性水素を有するため、上記と同様の問題を有しており、非環状のジアミノアルキル基では効果が十分発揮されない場合や、耐熱性が十分でない場合がある。ビス（３−ジメチルアミノプロピル）ジメトキシシランも、同様に耐熱性が十分でないという問題がある。

【0010】

本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、表面処理剤、ポリウレタン樹脂製造用触媒、繊維処理剤等として使用した場合に、耐熱性が高く、且つ添加効果が大きい新規なアミノアルキルシラン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、同一分子内に２つのアミノアルキル基を有するビス（アミノアルキル）シラン化合物、特にアミノ基が環構造の一部となっている環状アミノ基を有するアミノアルキル基を２つ有するアルコキシシラン化合物や、窒素原子上に芳香族基が置換したアミノ基を有するアミノアルキル基を２つ有する化合物が、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、表面処理剤、ポリウレタン樹脂製造用触媒、繊維処理剤等として使用した場合に、耐熱性が高く、添加による特性向上を図ることができることを知見し、本発明を完成するに至った。

【0012】

従って、本発明は、以下のアミノアルキル基を有するビス（アミノアルキル）シラン化合物及びその製造方法を提供する。
〔１〕
下記一般式（１）

【化1】

（式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ同一でも異なっていても良く、水素原子又は炭素数２〜２０の置換もしくは非置換１価炭化水素基であるが、Ｒ¹及びＲ²の置換基のうちの少なくとも１つが芳香族基である。Ｒ³は炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴は炭素数１〜１０の１価炭化水素基である。）
で表されるビス（アミノアルキル）シラン化合物。
〔２〕
下記一般式（２）

【化2】

（式中、Ｒ³は炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴は炭素数１〜１０の１価炭化水素基であり、Ｘは塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で表されるビス（ハロアルキル）シラン化合物と、下記一般式（３）

【化3】

（式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ同一でも異なっていても良く、水素原子又は炭素数２〜２０の置換もしくは非置換１価炭化水素基であるが、Ｒ¹及びＲ²の置換基のうちの少なくとも１つが芳香族基である。）
で表されるアミン化合物とを反応させることを特徴とする請求項〔１〕記載のビス（アミノアルキル）シラン化合物の製造方法。

【発明の効果】

【0013】

本発明により提供されるビス（アミノアルキル）シラン化合物は、塗料添加剤、接着剤、シランカップリング剤、表面処理剤、ポリウレタン樹脂製造用触媒、繊維処理剤等として有用である。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】参考例１で得られたビス［３−（４−メチルピペラジノ）プロピル］ジメトキシシランの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図2】参考例１で得られたビス［３−（４−メチルピペラジノ）プロピル］ジメトキシシランのＩＲスペクトルである。

【図3】参考例２で得られたビス（３−モルホリノプロピル）ジメトキシシランの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図4】参考例２で得られたビス（３−モルホリノプロピル）ジメトキシシランのＩＲスペクトルである。

【図5】実施例１で得られたビス［３−（Ｎ−フェニルアミノ）プロピル］ジメトキシシランの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図6】実施例１で得られたビス［３−（Ｎ−フェニルアミノ）プロピル］ジメトキシシランのＩＲスペクトルである。

【図7】参考例３で得られたビス（３−ジエチルアミノプロピル）ジメトキシシランの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図8】参考例３で得られたビス（３−ジエチルアミノプロピル）ジメトキシシランのＩＲスペクトルである。

【発明を実施するための形態】

【0015】

本発明のビス（アミノアルキル）シラン化合物は、下記一般式（１）

【化4】

（式中、Ｒ¹及びＲ²は、それぞれ同一でも異なっていても良く、水素原子又は炭素数２〜２０の置換もしくは非置換１価炭化水素基であるが、Ｒ¹及びＲ²のうち少なくとも一方は置換もしくは非置換１価炭化水素基であるか、又はＲ¹及びＲ²が結合してこれらが結合する窒素原子と共に炭素数４〜８の環を形成しても良い。環を形成する場合には、上記窒素原子に加えて更にヘテロ原子を介在しても良い。Ｒ³は炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状の２価炭化水素基であり、Ｒ⁴は炭素数１〜１０の１価炭化水素基である。）
で表される化合物である。

【0016】

ここで、Ｒ¹及びＲ²は水素原子又は炭素数２〜２０、好ましくは２〜１０の置換もしくは非置換一価炭化水素基である。具体的には、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、デシル基、オクタデシル基等の直鎖状のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基等の分岐状のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状のアルキル基、ビニル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基等が例示される。

【0017】

また、これらの炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていても良く、該置換基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のオルガノオキシ基、フッ素原子等のハロゲン原子からなる基、シアノ基、オルガノチオ基、メチルスルホニル基、オルガノスルホニル基、オルガノオキシカルボニル基、オルガノカルボニルオキシ基、芳香族炭化水素基、ジアルキルアミノ基、アルキルシリル基、アルコキシシリル基等が挙げられ、これらを組み合わせて用いることができる。

【0018】

この場合、Ｒ¹及びＲ²の少なくとも一方は、上述した１価炭化水素基であり、具体的にはエチル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基であることが好ましく、中でもフェニル基、トリル基等のアリール基であることが好ましい。

【0019】

また、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成して環状アミノ基となる場合、Ｒ¹の炭素原子とＲ²の炭素原子とが直接結合したものの他、Ｒ¹の炭素原子とＲ²の炭素原子とが、１個以上の酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を介して結合して環を形成したものであっても良い。Ｒ¹とＲ²とが環を形成した場合の環中に含まれる炭素数は４〜８である。

【0020】

環状アミノ基としては、具体的には、ピロリジノ基、２−メチルピロリジノ基、３−メチルピロリジノ基、ピペリジノ基、２−メチルピペリジノ基、３−メチルピペリジノ基、４−メチルピペリジノ基、４−エチルピペリジノ基、４−プロピルピペリジノ基、ヘキサメチレンイミノ基、ヘプタメチレンイミノ基、オクタメチレンイミノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基、ピペラジノ基、１−メチルピペラジノ基、１−エチルピペラジノ基、１−プロピルピペラジノ基、２−メチルピペラジノ基、３−メチルピペラジノ基、４−メチルピペラジノ基、４−エチルピペラジノ基、４−プロピルピペラジノ基、４−イソプロピルピペラジノ基、ホモピペラジノ基、３−メチルホモピペラジノ基等が挙げられる。

【0021】

Ｒ³は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜８の直鎖状又は分岐状の２価炭化水素基である。具体的には、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、イソブチレン基等のアルキレン基、メチレンフェニレン基、メチレンフェニレンメチレン基等のアラルキレン基等が例示される。

【0022】

Ｒ⁴は、炭素数１〜１８、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜６の１価炭化水素基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、デシル基、オクタデシル基等の直鎖状のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基等の分岐状のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状のアルキル基、ビニル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基等が例示される。

【0023】

上記一般式（１）で示されるビス（アミノアルキル）シラン化合物の具体例としては、
ビス（３−ジエチルアミノプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−ジエチルアミノプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（３−プロピルアミノプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−プロピルアミノプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（３−Ｎ−フェニルアミノプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−Ｎ−フェニルアミノプロピル）ジエトキシシラン、
ビス［３−Ｎ−（４−メチルフェニルアミノ）プロピル］ジメトキシシラン、
ビス［３−Ｎ−（４−メチルフェニルアミノ）プロピル］ジエトキシシラン、
ビス（３−ピロリジノプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−ピロリジノプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（３−ピペリジノプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−ピペリジノプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（３−モルホリノプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−モルホリノプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（３−ピペラジノプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−ピペラジノプロピル）ジエトキシシラン、
ビス［３−（４−メチルピペリジノプロピル）］ジメトキシシラン、
ビス［３−（４−メチルピペリジノプロピル）］ジエトキシシラン、
ビス［３−（４−エチルピペリジノプロピル）］ジメトキシシラン、
ビス［３−（４−エチルピペリジノプロピル）］ジエトキシシラン、
ビス［３−（４−プロピルピペリジノプロピル）］ジメトキシシラン、
ビス［３−（４−プロピルピペリジノプロピル）］ジエトキシシラン、
ビス（ジエチルアミノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（ジエチルアミノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（プロピルアミノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（プロピルアミノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（Ｎ−フェニルアミノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（Ｎ−フェニルアミノメチル）ジエトキシシラン、
ビス［Ｎ−（４−メチルフェニルアミノ）メチル］ジメトキシシラン、
ビス［Ｎ−（４−メチルフェニルアミノ）メチル］ジエトキシシラン、
ビス（ピロリジノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（ピロリジノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（ピペリジノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（ピペリジノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（モルホリノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（モルホリノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（ピペラジノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（ピペラジノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（４−メチルピペリジノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（４−メチルピペリジノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（４−エチルピペリジノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（４−エチルピペリジノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（４−プロピルピペリジノメチル）ジメトキシシラン、
ビス（４−プロピルピペリジノメチル）ジエトキシシラン、
ビス（２−ジエチルアミノエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−ジエチルアミノエチル）ジエトキシシラン、
ビス（２−プロピルアミノエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−プロピルアミノエチル）ジエトキシシラン、
ビス（２−Ｎ−フェニルアミノエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−Ｎ−フェニルアミノエチル）ジエトキシシラン、
ビス［２−Ｎ−（４−メチルフェニルアミノ）エチル］ジメトキシシラン、
ビス［２−Ｎ−（４−メチルフェニルアミノ）エチル］ジエトキシシラン、
ビス（２−ピロリジノエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−ピロリジノエチル）ジエトキシシラン、
ビス（２−ピペリジノエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−ピペリジノエチル）ジエトキシシラン、
ビス（２−モルホリノエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−モルホリノエチル）ジエトキシシラン、
ビス（２−ピペラジノエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−ピペラジノエチル）ジエトキシシラン、
ビス［２−（４−メチルピペリジノエチル）］ジメトキシシラン、
ビス［２−（４−メチルピペリジノエチル）］ジエトキシシラン、
ビス［２−（４−エチルピペリジノエチル）］ジメトキシシラン、
ビス［２−（４−エチルピペリジノエチル）］ジエトキシシラン、
ビス［２−（４−プロピルピペリジノエチル）］ジメトキシシラン、
ビス［２−（４−プロピルピペリジノエチル）］ジエトキシシラン
等が挙げられる。

【0024】

本発明における上記一般式（１）で示されるビス（アミノアルキル）シラン化合物の製造方法は、具体的には、下記一般式（２）

【化5】

（式中、Ｒ³，Ｒ⁴は上記に同じであり、Ｘは、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。）
で表されるビス（ハロアルキル）シラン化合物と、下記一般式（３）

【化6】

（式中、Ｒ¹，Ｒ²は上記に同じである。）
で表されるアミン化合物を反応させて製造する方法が挙げられる。

【0025】

上記一般式（２）におけるＲ³及びＲ⁴としては、上述した基が挙げられる。

【0026】

また、上記一般式（２）で示されるビス（ハロアルキル）シラン化合物としては、具体的に、
ビス（３−クロロプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−クロロプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（２−クロロエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−クロロエチル）ジエトキシシラン、
ビス（クロロメチル）ジメトキシシラン、
ビス（クロロメチル）ジエトキシシラン、
ビス（３−ブロモプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−ブロモプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（２−ブロモエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−ブロモエチル）ジエトキシシラン、
ビス（ブロモメチル）ジメトキシシラン、
ビス（ブロモメチル）ジエトキシシラン、
ビス（３−ヨードプロピル）ジメトキシシラン、
ビス（３−ヨードプロピル）ジエトキシシラン、
ビス（２−ヨードエチル）ジメトキシシラン、
ビス（２−ヨードエチル）ジエトキシシラン、
ビス（ヨードメチル）ジメトキシシラン、
ビス（ヨードメチル）ジエトキシシラン
等が挙げられる。

【0027】

上記一般式（３）におけるＲ¹及びＲ²としては、上述した基が挙げられる。

【0028】

また、上記一般式（３）で示されるアミン化合物としては、具体的にはジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジヘキシルアミン等のアルキルアミン、アニリン、４−メチルアニリン、Ｎ−メチルアニリン、ベンジルアミン等のアリール基含有アミン、ピロリジン、ピペリジン、ヘキサメチレンイミン等の環状アルキルアミン、モルホリン、ピペラジン、１−メチルピペラジン、１−エチルピペラジン、１−プロピルピペラジン、ホモピペラジン等のヘテロ元素含有環状アミン等が挙げられる。

【0029】

上記ビス（ハロアルキル）シラン化合物とアミン化合物の反応に於いては、ハロゲン化水素が副生するが、これは上記一般式（３）で示されるアミン化合物自体を塩基として補足してもよく、他のアミン化合物を塩基として補足しても良い。他のアミン化合物としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、メチルイミダゾール、テトラメチルエチレンジアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等が挙げられる。

【0030】

上記一般式（２）で示されるビス（ハロアルキル）シラン化合物と上記一般式（３）で示されるアミン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、上記一般式（３）で示されるアミン化合物自体をハロゲン化水素補足に塩基として用いる場合は、式（２）のビス（ハロアルキル）シラン化合物１モルに対して、式（３）のアミン化合物を０．４〜１５．０モル、特に０．６〜６．０モルの範囲が好ましく、他のアミン化合物をハロゲン化水素補足に塩基として用いる場合は、式（３）のアミン化合物を０．４〜１４．０モル、特に０．６〜４．０モル用いることが好ましい。

【0031】

また、他のアミン化合物をハロゲン化水素補足に塩基として用いる場合の他のアミン化合物の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、ビス（ハロアルキル）シラン化合物１モルに対して、０．２〜１０．０モル、特に０．４〜４．０モル用いることが好ましい。

【0032】

上記ビス（ハロアルキル）シラン化合物とアミン化合物の反応に於いては、触媒を用いることができる。用いられる触媒としては、ハロゲン化４級アンモニウム化合物、ハロゲン化４級ホスホニウム化合物等が挙げられ、具体的には、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化トリオクチルメチルアンモニウム、塩化セチルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化テトラブチルホスホニウム、塩化トリブチルメチルホスホニウム、塩化テトラフェニルホスホニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化トリオクチルメチルアンモニウム、臭化セチルトリメチルアンモニウム、臭化ベンジルトリメチルアンモニウム、臭化テトラブチルホスホニウム、臭化トリブチルメチルホスホニウム、臭化テトラフェニルホスホニウム、ヨウ化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラエチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化トリオクチルメチルアンモニウム、ヨウ化セチルトリメチルアンモニウム、ヨウ化ベンジルトリメチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルホスホニウム、ヨウ化トリブチルメチルホスホニウム、ヨウ化テトラフェニルホスホニウム等が挙げられる。

【0033】

上記触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、上記一般式（２）で示されるビス（ハロアルキル）シラン化合物１モルに対して、０．００１〜０．１モル、特に０．００２〜０．０５モルの範囲が好ましい。触媒が、０．００１モルより少ないと触媒の効果が十分発現しない場合があり、０．１モルより多くても、触媒の量に見合うだけの反応促進効果がみられない場合がある。

【0034】

上記反応の反応温度は、特に限定されないが、好ましくは０〜２００℃、特に好ましくは２０〜１５０℃である。反応時間は好ましくは１〜４０時間、特に好ましくは２〜３０時間である。上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、具体的には、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種単独で用いても良く、２種類以上を混合して用いても良い。

【0035】

反応の終了後にはアミン化合物の塩が生じるが、これは反応液をろ過又はエチレンジアミン、１、８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等を添加し、分離する等の方法により除去できる。以上のようにして塩を除去した反応液からは、蒸留等の通常の方法で目的物を回収することができる。

【実施例】

【0036】

以下、実施例及び参考例により本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。

【0037】

［参考例１］
ビス［３−（４−メチルピペラジノ）プロピル］ジメトキシシランの製造
２００ｍｌの４つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、１−メチルピペラジン９２．２ｇ（０．９２ｍｏｌ）とメタノール９．２ｇを仕込んだ。内温を１００〜１２０℃に温調しながら、ビス（３−クロロプロピル）ジメトキシシラン４９．０ｇ（０．２ｍｏｌ）を５時間掛けて滴下した後、そのままの温度で６時間熟成した。生成した塩酸塩をろ過により除いた後、減圧蒸留を行い、ビス［３−（４−メチルピペラジノ）プロピル］ジメトキシシランを沸点１６５〜１６８℃／０．１ｋＰａの留分として６０．４ｇ（０．１６２ｍｏｌ）得た。収率は８１．０％であった。

【0038】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３７２，３２９，３００，２７０，１１３
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）
図１にスペクトルチャートを示す。
ＩＲスペクトル
図２にチャートを示す。
以上の結果より、得られた化合物はビス［３−（４−メチルピペラジノ）プロピル］ジメトキシシランであることが確認された。

【0039】

［参考例２］
ビス（３−モルホリノプロピル）ジメトキシシランの製造
２００ｍｌの４つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、モルホリン８０．１ｇ（０．９６ｍｏｌ）を仕込んだ。内温を１００〜１２０℃に温調しながら、ビス（３−クロロプロピル）ジメトキシシラン４９．０ｇ（０．２ｍｏｌ）を３時間掛けて滴下した後、そのままの温度で２時間熟成した。生成した塩酸塩をろ過により除いた後、減圧蒸留を行い、ビス（３−モルホリノプロピル）ジメトキシシランを沸点１４６〜１５０℃／０．２ｋＰａの留分として５７．９ｇ（０．１６７ｍｏｌ）得た。収率は８３．５％であった。

【0040】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３４６，３１５，２４６，２１８，１９０、１００
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）
図３にスペクトルチャートを示す。
ＩＲスペクトル
図４にチャートを示す。
以上の結果より、得られた化合物はビス（３−モルホリノプロピル）ジメトキシシランであることが確認された。

【0041】

［実施例１］
ビス［３−（Ｎ−フェニルアミノ）プロピル］ジメトキシシランの製造
２００ｍｌの４つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、アニリン１１１．７ｇ（１．２ｍｏｌ）を仕込んだ。内温を１００〜１２０℃に温調しながら、ビス（３−クロロプロピル）ジメトキシシラン４９．０ｇ（０．２ｍｏｌ）を３時間掛けて滴下した後、そのままの温度で５時間熟成した。生成した塩酸塩をろ過により除いた後、減圧蒸留を行い、ビス［３−（Ｎ−フェニルアミノ）プロピル］ジメトキシシランを沸点２００〜２０５℃／６０Ｐａの留分として４４．１ｇ（０．１２３ｍｏｌ）得た。収率６１．５％であった。

【0042】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３５８，３２６，２９７，２２１，１９２、１０６
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）
図５にスペクトルチャートを示す。
ＩＲスペクトル
図６にチャートを示す。
以上の結果より、得られた化合物はビス［３−（Ｎ−フェニルアミノ）プロピル］ジメトキシシランであることが確認された。

【0043】

［参考例３］
ビス（３−ジエチルアミノプロピル）ジメトキシシランの製造
２００ｍｌの４つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計及び撹拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、ビス（３−クロロプロピル）ジメトキシシラン４９．０ｇ（０．２ｍｏｌ）を仕込んだ。内温を９０〜１２０℃に温調しながら、ジエチルアミン７３．１ｇ（１．０ｍｏｌ）を８時間掛けて滴下した後、そのままの温度で１６時間熟成した。生成した塩酸塩をろ過により除いた後、減圧蒸留を行い、ビス（３−ジエチルアミノプロピル）ジメトキシシランを沸点１０７〜１０９℃／０．２ｋＰａの留分として４９．１ｇ（０．１５４ｍｏｌ）得た。収率は７７．０％であった。

【0044】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３１８，２５７，２３２，２０４，１７４，１４４，１１２，８６
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム）
図７にスペクトルチャートを示す。
ＩＲスペクトル
図８にチャートを示す。
以上の結果より、得られた化合物はビス（３−ジエチルアミノプロピル）ジメトキシシランであることが確認された。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】