特許5900669液浸リソグラフィ装置、デバイス製造方法

発明の名称　液浸リソグラフィ装置、デバイス製造方法

出願人　株式会社ニコン　（識別番号 4112）

　　　　特許公開件数ランキング 154 位（211件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 130 位（211件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5900669

公報発行日　2016年4月6

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5900669

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