特許第5928666号(P5928666)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許5928666変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜
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  • 特許5928666-変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜 図000023
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