特許5928666変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜

発明の名称　変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜

出願人　ＤＩＣ株式会社　（識別番号 2886）

　　　　特許公開件数ランキング 161 位（205件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 89 位（279件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5928666

公報発行日　2016年6月1

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5928666

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