特許 5929837 シリル基で保護された含窒素環状化合物及びその製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5929837

(24)【登録日】2016年5月13日

(45)【発行日】2016年6月8日

(54)【発明の名称】シリル基で保護された含窒素環状化合物及びその製造方法

(51)【国際特許分類】

   C07F 7/10 20060101AFI20160526BHJP

【ＦＩ】

   C07F7/10 T

【請求項の数】4

【全頁数】18

(21)【出願番号】特願2013-113846(P2013-113846)

(22)【出願日】2013年5月30日

(65)【公開番号】特開2014-231502(P2014-231502A)

(43)【公開日】2014年12月11日

【審査請求日】2015年5月26日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002060

【氏名又は名称】信越化学工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100079304

【弁理士】

【氏名又は名称】小島 隆司

(74)【代理人】

【識別番号】100114513

【弁理士】

【氏名又は名称】重松 沙織

(74)【代理人】

【識別番号】100120721

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 克成

(74)【代理人】

【識別番号】100124590

【弁理士】

【氏名又は名称】石川 武史

(74)【代理人】

【識別番号】100157831

【弁理士】

【氏名又は名称】正木 克彦

(72)【発明者】

【氏名】殿村 洋一

(72)【発明者】

【氏名】久保田 透

【審査官】 黒川 美陶

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１４−０５８４８０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０８−１３４０８３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｆ

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

下記一般式（１）

【化1】

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ⁹（式中、Ｒ⁹は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基である。）又は−Ｃ≡Ｎのいずれかであり、ａは０又は１である。］
で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物。

【請求項2】

Ｒ⁴、Ｒ⁵がいずれもエチレン基である請求項１記載のシリル基で保護された含窒素環状化合物。

【請求項3】

下記一般式（２）

【化2】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキレン基である。）
で示される化合物と下記一般式（３）

【化3】

［式中、Ｒ¹⁰は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ⁹（式中、Ｒ⁹は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基である。）又は−Ｃ≡Ｎのいずれかである。］
で示される化合物を反応させることを特徴とする下記一般式（１ａ）

【化4】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁰、Ａは上記の通りである。）
で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物の製造方法。

【請求項4】

下記一般式（４）

【化5】

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ⁹（式中、Ｒ⁹は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基である。）又は−Ｃ≡Ｎのいずれかであり、ａは０又は１である。］
で示される含窒素環状化合物を、Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ−基（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基）を有するシリル化剤を用いてシリル化することを特徴とする下記一般式（１）

【化6】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ａ、ａは上記の通りである。）
で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として有用なシリル基で保護された含窒素環状化合物及びその製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

ピペラジン等の含窒素環状化合物は、特許文献１及び２に記載のようにエポキシ樹脂硬化剤等の樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤として有用である。また、ピペラジンは２級アミン構造を有しており、エポキシ樹脂等の硬化剤として用いた場合、ピペラジンの２級アミン部分とエポキシ基との反応によるエポキシ樹脂へのピペラジン環の導入が可能であり、ピペラジン環構造が有する剛直性、高い機械的強度、紫外線領域を含んだ透明性を付与することができる。

【0003】

しかしながら、特許文献１及び２（特開昭５０−６９２００号公報、米国特許第４８００２２２号明細書）記載のピペラジンは、窒素原子上に活性水素を有しているため、エポキシ樹脂等の硬化剤として用いる場合、予め添加しておくと経時的に増粘、ゲル化するため一液型硬化性組成物とすることができず、使用時に正確な秤量、混合等の煩雑な操作を必要とする二液型組成物とせざるを得なかった。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開昭５０−６９２００号公報

【特許文献2】米国特許第４８００２２２号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明は、ポリウレタン、ポリエステル及びポリカーボネート等の樹脂に添加した時にも、剛直性、高い機械的強度、紫外線領域及び可視光領域を含んだ領域で透明性を付与でき、且つ一液型硬化性組成物とすることができる化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達した。即ち、上述したように、特許文献１，２に記載のピペラジンは、エポキシ樹脂等の硬化剤として用いる場合、一液型硬化性組成物とし得ないものであった。この問題を解決する方法として、ピペラジンの窒素原子上の活性水素をトリメチルシリル基等のシリル基で保護することが考えられる。このようなシリル基で保護されたピペラジンは予めエポキシ樹脂等に添加することができ、水分を遮断した系では反応性を示さず安定な組成物であるが、水分と接触することにより加水分解による脱保護が起こり、アミノ基が再生し硬化剤として働く一液型硬化性組成物とすることができる。しかしながら、上記シリル基で保護されたピペラジン化合物は官能基がアミノ基のみであり、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等に添加する場合は剛直性、高い機械的強度、紫外線領域を含んだ透明性を付与する効果が大きいものの、ポリウレタン、ポリエステルやポリカーボネート等のアミノ基との相互作用が比較的少ない樹脂へ添加した場合は、添加効果が充分でない場合が認められた。
このため、本発明者らは、更に検討を行った結果、エステル基やシアノ基を有するシリル基で保護された含窒素環状化合物が、ポリウレタン、ポリエステル及びポリカーボネート等の樹脂に添加した場合においても、剛直性、高い機械的強度、紫外線領域及び可視光領域を含んだ領域で透明性を付与することができ、且つ一液型硬化性組成物とすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

【0007】

従って、本発明は、下記に示すシリル基で保護された含窒素環状化合物及びその製造方法を提供する。
［１］ 下記一般式（１）

【化1】

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ⁹（式中、Ｒ⁹は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基である。）又は−Ｃ≡Ｎのいずれかであり、ａは０又は１である。］
で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物。
［２］ Ｒ⁴、Ｒ⁵がいずれもエチレン基である［１］記載のシリル基で保護された含窒素環状化合物。
［３］ 下記一般式（２）

【化2】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキレン基である。）
で示される化合物と下記一般式（３）

【化3】

［式中、Ｒ¹⁰は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ⁹（式中、Ｒ⁹は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基である。）又は−Ｃ≡Ｎのいずれかである。］
で示される化合物を反応させることを特徴とする下記一般式（１ａ）

【化4】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁰、Ａは上記の通りである。）
で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物の製造方法。
［４］ 下記一般式（４）

【化5】

［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ⁹（式中、Ｒ⁹は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基である。）又は−Ｃ≡Ｎのいずれかであり、ａは０又は１である。］
で示される含窒素環状化合物を、Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ−基（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基）を有するシリル化剤を用いてシリル化することを特徴とする下記一般式（１）

【化6】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ａ、ａは上記の通りである。）
で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物の製造方法。

【発明の効果】

【0008】

本発明により提供されるシリル基で保護された含窒素環状化合物は、ポリウレタン、ポリエステル及びポリカーボネート等の樹脂に添加した場合、剛直性、高い機械的強度、紫外線領域及び可視光領域を含んだ領域で透明性を付与することができ、且つ一液型硬化性組成物とすることができるため、樹脂添加剤、塗料添加剤、接着剤等として有用である。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】実施例１で得られた１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジンの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図2】実施例１で得られた１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジンのＩＲスペクトルである。

【図3】実施例２で得られた１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジンの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図4】実施例２で得られた１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジンのＩＲスペクトルである。

【図5】実施例３で得られた１−トリイソプロピルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジンの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図6】実施例３で得られた１−トリイソプロピルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジンのＩＲスペクトルである。

【図7】実施例４で得られた１−トリイソプロピルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジンの¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。

【図8】実施例４で得られた１−トリイソプロピルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジンのＩＲスペクトルである。

【発明を実施するための形態】

【0010】

本発明のシリル基で保護された含窒素環状化合物は、下記一般式（１）で示される化合物である。

【化7】

［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基、Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０の２価炭化水素基、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ⁹（式中、Ｒ⁹は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基である。）又は−Ｃ≡Ｎのいずれかであり、ａは０又は１である。］

【0011】

ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁹は、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜５の非置換又は置換の１価炭化水素基であり、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基等の直鎖状のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、テキシル基、２−エチルヘキシル基等の分岐鎖状のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の環状のアルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基、フェニル基、トリル基等のアリール基、ベンジル基等のアラルキル基などが例示され、特にメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましい。また、炭化水素基の水素原子の一部又は全部が置換されていてもよく、該置換基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、（イソ）プロポキシ基等のアルコキシ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；シアノ基；アミノ基；フェニル基、トリル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数２〜１０のアシル基、それぞれ各アルキル基、各アルコキシ基が炭素数１〜５であるトリアルキルシリル基、トリアルコキシシリル基、ジアルキルモノアルコキシシリル基もしくはモノアルキルジアルコキシシリル基が挙げられ、更にエステル基（−ＣＯＯ−）、エーテル基（−Ｏ−）、スルフィド基（−Ｓ−）等が介在していてもよく、これらを組み合わせて用いることもできる。

【0012】

Ｒ⁴、Ｒ⁵は炭素数１〜１０、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜３の２価炭化水素基であり、具体的には、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、イソブチレン基等のアルキレン基、フェニレン基等のアリーレン基、メチレンフェニレン基、メチレンフェニレンメチレン基等のアラルキレン基が例示される。

【0013】

特に、Ｒ⁴及びＲ⁵を含む環状構造としては、イミダゾリジン構造、ピペラジン構造、ヘキサヒドロピリミジン構造が好ましく、その中でも上記一般式（１）中におけるＲ⁴及びＲ⁵がいずれもエチレン基である化合物、即ち、

【化8】

で示される環状構造であるピペラジン構造が、樹脂添加時に高い機械的強度を与えることができる点で好ましい。

【0014】

Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は、水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、具体的には、上記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³で例示した置換基と同様の基が挙げられ、特にメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましい。

【0015】

上記一般式（１）で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物としては、具体的には、１−トリメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリエチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、
１−トリエチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−トリメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリエチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリエチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリメチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−トリエチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、
１−トリメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリエチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−トリメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−ヘキシルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−デシルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリエチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリイソブチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−テキシルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリイソプロピルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリシクロペンチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−ヘキシルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−デシルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリエチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリイソブチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、
１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−テキシルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリイソプロピルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリシクロペンチルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−４−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−トリメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ヘキシルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−デシルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリエチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリイソブチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−テキシルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリイソプロピルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリシクロペンチルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−４−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ヘキシルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−デシルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリエチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリイソブチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−テキシルジメチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリイソプロピルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリシクロペンチルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−４−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−ヘキシルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−デシルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−トリエチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−トリイソブチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−テキシルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−トリイソプロピルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−トリシクロペンチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−トリメチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ヘキシルジメチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−デシルジメチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリエチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリイソブチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−テキシルジメチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリイソプロピルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリシクロペンチルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−４−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−トリメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリエチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリエチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン
、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリエチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン
、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリエチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリメチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリエチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ヘキシルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−デシルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリエチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソブチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−テキシルジメチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソプロピルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロペンチルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロヘキシリルシリル−３−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン等が例示される。

【0016】

本発明における上記一般式（１）で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物の製造方法は、例えば、下記一般式（２）

【化9】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は上記と同様である。）
で示される化合物と下記一般式（３）

【化10】

（式中、Ｒ¹⁰は水素原子又は炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基であり、Ａは上記と同様である。）
で示される化合物を反応させる方法が例示される。

【0017】

この場合、得られる化合物は、下記一般式（１ａ）で示される。

【化11】

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ¹⁰、Ａは上記の通りである。）

【0018】

ここで、Ｒ¹⁰が炭素数１〜２０の非置換若しくは置換の１価炭化水素基の場合、上記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁹と同様の基が挙げられる。

【0019】

上記一般式（２）で示される化合物としては、具体的には１−トリメチルシリルイミダゾリジン、１−ヘキシルジメチルシリルイミダゾリジン、１−デシルジメチルシリルイミダゾリジン、１−トリエチルシリルイミダゾリジン、１−トリイソブチルシリルイミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリルイミダゾリジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリルイミダゾリジン、１−テキシルジメチルシリルイミダゾリジン、１−トリイソプロピルシリルイミダゾリジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリルイミダゾリジン、１−トリシクロペンチルシリルイミダゾリジン、１−トリシクロヘキシリルシリルイミダゾリジン、１−トリメチルシリルピペラジン、１−ヘキシルジメチルシリルピペラジン、１−デシルジメチルシリルピペラジン、１−トリエチルシリルピペラジン、１−トリイソブチルシリルピペラジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリルピペラジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリルピペラジン、１−テキシルジメチルシリルピペラジン、１−トリイソプロピルシリルピペラジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリルピペラジン、１−トリシクロペンチルシリルピペラジン、１−トリシクロヘキシリルシリルピペラジン、１−トリメチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−ヘキシルジメチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−デシルジメチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−トリエチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソブチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジメチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−ｔ−ブチルジフェニルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−テキシルジメチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−トリイソプロピルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−トリ（ｓｅｃ−ブチル）シリルヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロペンチルシリルヘキサヒドロピリミジン、１−トリシクロヘキシリルシリルヘキサヒドロピリミジン等が例示される。

【0020】

上記一般式（３）で示される化合物としては、具体的にはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が例示される。

【0021】

上記一般式（２）で示される化合物と上記一般式（３）で示される化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（２）で示される化合物１モルに対し一般式（３）で示される化合物を０．１〜４モル、特に０．２〜２モルの範囲が好ましい。

【0022】

上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましい。また、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。反応雰囲気は窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。

【0023】

なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【0024】

また、本発明における上記一般式（１）で示されるシリル基で保護された含窒素環状化合物の別な製造方法として、例えば、下記一般式（４）

【化12】

（式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ａ、ａは上記と同様である。）
で示される含窒素環状化合物を、
Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ−基
（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記と同様である。）
を有するシリル化剤を用いてシリル化する方法も例示される。

【0025】

上記一般式（４）におけるＲ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ａは、上述したものが例示でき、上記一般式（４）で示される化合物としては、具体的には１−（２−メトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−（２−エトキシカルボニルエチル）イミダゾリジン、１−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−（２−シアノエチル）イミダゾリジン、１−（２−シアノ−２−メチルエチル）イミダゾリジン、１−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−（２−エトキシカルボニルエチル）ピペラジン、１−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ピペラジン、１−（２−シアノエチル）ピペラジン、１−（２−シアノ−２−メチルエチル）ピペラジン、１−（２−メトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−（２−エトキシカルボニルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−（２−メトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−（２−エトキシカルボニル−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−（２−シアノエチル）ヘキサヒドロピリミジン、１−（２−シアノ−２−メチルエチル）ヘキサヒドロピリミジン等が例示される。

【0026】

上記シリル化反応で用いられるＲ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ−基を有するシリル化剤としては、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルヨードシラン、トリエチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン等のＲ¹Ｒ²Ｒ³ＳｉＸ（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記の通りであり、Ｘは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子である。）で表されるトリオルガノハロシラン化合物；ヘキサメチルジシラザン、ヘキサエチルジシラザン等の（Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｓｉ）₂ＮＨ（Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記の通りである。）で表されるシラザン化合物；ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、ビス（トリエチルシリル）アセトアミド、ビス（トリメチルシリル）トリフルオロアセトアミド等のＣＲ₃Ｃ（−ＯＳｉＲ¹Ｒ²Ｒ³）＝ＮＳｉＲ¹Ｒ²Ｒ³（Ｒは水素原子又はフッ素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記の通りである。）で表されるシリルアミド化合物；メタンスルホン酸トリメチルシリル、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル等のＣＲ₃ＳＯ₃ＳｉＲ¹Ｒ²Ｒ³（Ｒは水素原子又はフッ素原子であり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は上記の通りである。）で表されるスルホン酸シリルエステル化合物が例示される。

【0027】

上記一般式（４）で示される化合物と、シリル化剤との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、一般式（４）で示される化合物１モルに対し、シリル化剤を、シリル基のモル数で１〜４モル、特に１〜２モルの範囲が好ましい。

【0028】

上記反応の反応温度は特に限定されないが、０〜２００℃、特に２０〜１５０℃が好ましく、反応時間も特に限定されないが、１〜４０時間、特に１〜２０時間が好ましい。

【0029】

上記反応は、無触媒でも進行するが、触媒を用いることもできる。用いられる触媒としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド等の４級アンモニウム塩や、硫酸、スルホン酸といった酸とその誘導体やその無機塩等の塩基性又は酸性化合物が例示される。

【0030】

なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒などが例示される。これらの溶媒は１種を単独で使用してもよく、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。

【実施例】

【0031】

以下、合成例及び実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。

【0032】

［合成例１］１−ｔ−ブチルジメチルシリルピペラジン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ピペラジン１０７６．３ｇ（１２．５モル）、キシレン５００ｍｌを仕込み、１１０℃に加熱した。内温が安定した後、５０質量％ｔ−ブチルジメチルクロロシランのトルエン溶液１５０７．０ｇ（５．０モル）を３時間かけて滴下し、その温度で２時間撹拌した。室温まで冷却後、１０質量％水酸化ナトリウム水溶液２５００ｇを加え、有機層を分液、蒸留した。１−ｔ−ブチルジメチルシリルピペラジンを沸点７０−７１℃／０．２ｋＰａの留分として６４６．６ｇ得た。

【0033】

［実施例１］１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例１で得られた１−ｔ−ブチルジメチルシリルピペラジン１６０．３ｇ（０．８モル）を仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリル酸メチル７５．８ｇ（０．８８モル）を２時間かけて滴下し、その温度で４時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１３５−１３７℃／０．４ｋＰａの留分を２１９．９ｇ得た。

【0034】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２８６，２２９，１８７，８９，７３，５９
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図１にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図２にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジンであることが確認された。

【0035】

［実施例２］１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例１で得られた１−ｔ−ブチルジメチルシリルピペラジン１６０．３ｇ（０．８モル）を仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリロニトリル４６．７ｇ（０．８８モル）を２時間かけて滴下し、その温度で４時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１４５−１４７℃／０．４ｋＰａの留分を１９４．１ｇ得た。

【0036】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２５３，２３８，１９６，１５５，７３，５９
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図３にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図４にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−ｔ−ブチルジメチルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジンであることが確認された。

【0037】

［合成例２］１−トリイソプロピルシリルピペラジン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ピペラジン１８９．４ｇ（２．２モル）、キシレン２００ｍｌ、メタンスルホン酸１．０ｇ（０．０１モル）を仕込み、１３０℃に加熱した。内温が安定した後、トリイソプロピルクロロシラン１９２．８ｇ（１．０モル）を２時間かけて滴下し、その温度で１０時間撹拌した。室温まで冷却後、１０質量％水酸化ナトリウム水溶液５００ｇを加え、有機層を分液、蒸留した。１−トリイソプロピルシリルピペラジンを沸点１０９−１１１℃／０．４ｋＰａの留分として１３２．６ｇ得た。

【0038】

［実施例３］１−トリイソプロピルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例２で得られた１−トリイソプロピルシリルピペラジン１９４．０ｇ（０．８モル）を仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリル酸メチル７５．８ｇ（０．８８モル）を２時間かけて滴下し、その温度で４時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１６３−１６４℃／０．４ｋＰａの留分を２５０．０ｇ得た。

【0039】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ３２８，２８５，２４３，１９８，９７，５９
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図５にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図６にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−トリイソプロピルシリル−４−（２−メトキシカルボニルエチル）ピペラジンであることが確認された。

【0040】

［実施例４］１−トリイソプロピルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、合成例２で得られた１−トリイソプロピルシリルピペラジン１９４．０ｇ（０．８モル）を仕込み、７０℃に加熱した。内温が安定した後、アクリロニトリル４６．７ｇ（０．８８モル）を２時間かけて滴下し、その温度で４時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点１７９−１８０℃／０．４ｋＰａの留分を２２４．８ｇ得た。

【0041】

得られた留分の質量スペクトル、¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを測定した。
質量スペクトル
ｍ／ｚ ２９５，２５２，２１１，１６９，９７，５９
¹Ｈ−ＮＭＲスペクトル（重クロロホルム溶媒）
図７にチャートで示す。
ＩＲスペクトル
図８にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は１−トリイソプロピルシリル−４−（２−シアノエチル）ピペラジンであることが確認された。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】