特許 5932512 バンク形成用感光性樹脂組成物、バンク、及びバンクの形成方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5932512

(24)【登録日】2016年5月13日

(45)【発行日】2016年6月8日

(54)【発明の名称】バンク形成用感光性樹脂組成物、バンク、及びバンクの形成方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/004 20060101AFI20160526BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20160526BHJP

   H05B 33/12 20060101ALI20160526BHJP

   H05B 33/22 20060101ALI20160526BHJP

   G02B 5/20 20060101ALI20160526BHJP

【ＦＩ】

   G03F7/004 501

   G03F7/004 505

   H05B33/14 A

   H05B33/12 B

   H05B33/22 Z

   G02B5/20 101

【請求項の数】13

【全頁数】39

(21)【出願番号】特願2012-139608(P2012-139608)

(22)【出願日】2012年6月21日

(65)【公開番号】特開2014-6273(P2014-6273A)

(43)【公開日】2014年1月16日

【審査請求日】2015年3月23日

(73)【特許権者】

【識別番号】000220239

【氏名又は名称】東京応化工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100106002

【弁理士】

【氏名又は名称】正林 真之

(72)【発明者】

【氏名】田所 恵典

(72)【発明者】

【氏名】塩田 大

(72)【発明者】

【氏名】野田 国宏

(72)【発明者】

【氏名】黒子 麻祐美

【審査官】 石附 直弥

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１１−０９５６３５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０３Ｆ７／００４−７／１８

Ｇ０２Ｂ５／２０−５／２８

Ｈ０１Ｌ５１／００−５１／５６

Ｈ０５Ｂ３３／００−３３／２８

Ｇ０２Ｆ１／１３３−１／１３４７

ＣＡ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）フッ素系樹脂、及び（Ｅ）下記式（１）で表される化合物を含有する、バンク形成用感光性樹脂組成物。

【化1】

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示す。ただし、Ｒ^１及びＲ^２の少なくとも一方は有機基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Ｒ^３は、単結合を示す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。ただし、Ｒ^６及びＲ^７が水酸基となることはない。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Ｒ^１０は、水素原子又は有機基を示す。）

【請求項2】

さらに（Ｆ）着色剤を含有する、請求項１に記載のバンク形成用感光性樹脂組成物。

【請求項3】

請求項１又は２に記載のバンク形成用感光性樹脂組成物から形成されたバンク。

【請求項4】

基板上に、請求項３に記載のバンクを備える、光学素子製造用のバンク付基板。

【請求項5】

請求項４に記載の光学素子製造用のバンク付基板を備える、光学素子。

【請求項6】

請求項５に記載の光学素子を備える、表示装置。

【請求項7】

請求項１又は２に記載のバンク形成用感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、を含むバンクの形成方法。

【請求項8】

前記塗布工程において、前記バンク形成用感光性樹脂組成物が、前記基板のバンクが形成される領域全面に塗布され、
前記露光工程において、前記感光性樹脂層が、所定のバンクのパターンに応じて露光され、
さらに、前記露光された感光性樹脂層を現像してバンクのパターンを形成する現像工程を含む、請求項７に記載のバンクの形成方法。

【請求項9】

請求項１又は２に記載のバンク形成用感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、
前記感光性樹脂層を露光する露光工程と、を含む、光学素子製造用のバンク付基板の製造方法。

【請求項10】

前記塗布工程において、前記バンク形成用感光性樹脂組成物が、前記基板のバンクが形成される領域全面に塗布され、
前記露光工程において、前記感光性樹脂層が、所定のバンクのパターンに応じて露光され、
さらに、前記露光された感光性樹脂層を現像してバンクのパターンを形成する現像工程を含む、請求項９に記載のバンク付基板の製造方法。

【請求項11】

請求項７又は８に記載の方法により基板上に形成された前記バンクにより囲まれた領域内にインクを注入して画素を形成する、画素形成工程を含む、光学素子の製造方法。

【請求項12】

前記画素形成工程において、前記インクが、インクジェット法により前記バンクにより囲まれた領域内に注入される、請求項１１に記載の光学素子の製造方法。

【請求項13】

前記光学素子がカラーフィルタ、有機ＥＬ表示素子、又は有機ＴＦＴアレイである、請求項１１又は１２に記載の光学素子の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、バンク形成用感光性樹脂組成物、バンク、バンク付基板、光学素子、表示装置、バンクの形成方法、バンク付基板の製造方法、及び光学素子の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来より、有機ＥＬ表示素子や、カラーフィルタ、有機ＴＦＴアレイ等の光学素子は、基板上に、画素を取り囲むバンク（隔壁）を形成した後に、バンクに囲まれた領域内に、種々の機能層を積層して製造されている。このようなバンクを容易に形成する方法として、感光性樹脂組成物を用いるフォトリソグラフィー法によりバンクを形成する方法が知られている（特許文献１）。

【0003】

また、バンクに囲まれた領域内に、種々の機能層を積層する方法としては、機能層を構成する材料を含むインクを調製し、調製したインクをバンクに囲まれた領域内に注入する方法が知られている。この方法では、所定量のインクを、所定の個所に正確に注入しやすいことから、インクジェット法が採用されることが多い。

【0004】

さらに、インクを用いて画素を形成する場合、バンクへのインクの付着の予防や、隣接する画素間に注入されるインクが混合されることを防ぐ目的等で、バンクに撥インク性を付与することが求められる。バンクに撥インク性を付与する方法としては、例えば、バンクにフッ素系樹脂を含有させる方法が知られている（特許文献２）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２０１０−２６２９４０号公報

【特許文献2】国際公開第２００８−１４９４９８号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、本発明者らが検討したところ、形成されるバンクへの撥インク性の付与を目的に、バンクの形成に用いる感光性樹脂組成物にフッ素系樹脂を配合する場合、形成されるバンクのパターンにおいて、バンクの基板との接触面にすそ引きが生じやすいことが明らかとなった。この場合、すそ引きによって、バンクに囲まれた領域の内周に撥インク性の薄膜が形成されるため、当該薄膜に画素を形成するためのインクが弾かれて、バンクに囲まれた領域内に十分な量のインクを注入できない問題がある。

【0007】

かかる問題は、バンクに囲まれた領域内に、インクジェット法によりインクを注入する場合において顕著である。インクジェット法では、インクが、インクジェットヘッドからバンクに囲まれた領域内に液滴として吐出されるが、すそ引きにより形成された撥インク性の薄膜によって液滴が容易に弾かれてしまうためである。

【0008】

また、バンクのパターンにすそ引きが生じた場合、形成される光学素子の特性にも種々の悪影響が生じる。具体的には、例えば、有機ＥＬ表示素子においては、ハレーション等の問題が生じることがある。

【0009】

本発明は、上記課題解決することを目的とするものであり、撥インク性に優れ、且つすそ引きが抑制された良好な断面形状のバンクを与える、バンク形成用感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。

【0010】

また、本発明は、当該バンク形成用感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンク、当該バンクを備えるバンク付基板、当該バンク付基板を備える光学素子、当該光学素子を備える表示装置、当該バンク形成用感光性樹脂組成物を用いるバンクの製造方法、当該バンク形成用感光性樹脂組成物を用いるバンク付基板の製造方法、及び当該バンク付基板の製造方法により得られるバンク付基板を用いる光学素子の製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた。その結果、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）フッ素系樹脂を含むバンク形成用感光性樹脂組成物に、特定の構造の化合物を配合することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。

【0012】

本発明の第一の態様は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）フッ素系樹脂及び（Ｅ）下記式（１）で表される化合物を含有する、バンク形成用感光性樹脂組成物である。

【化1】

（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示す。ただし、Ｒ^１及びＲ^２の少なくとも一方は有機基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Ｒ^３は、単結合又は有機基を示す。Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。ただし、Ｒ^６及びＲ^７が水酸基となることはない。Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Ｒ^１０は、水素原子又は有機基を示す。）

【0013】

本発明の第二の態様は、第一の態様に係るバンク形成用感光性樹脂組成物から形成されたバンクである。

【0014】

本発明の第三の態様は、基板上に、第二の態様に係るバンクを備える、光学素子製造用のバンク付基板である。

【0015】

本発明の第四の態様は、第三の態様に係る光学素子製造用のバンク付基板を備える、光学素子である。

【0016】

本発明の第五の態様は、第四の態様に係る光学素子を備える、表示装置である。

【0017】

本発明の第六の態様は、第一の態様に係るバンク形成用感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、
感光性樹脂層を露光する露光工程と、を含むバンクの形成方法である。

【0018】

本発明の第七の態様は、第一の態様に係るバンク形成用感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、
感光性樹脂層を露光する露光工程と、を含む光学素子製造用のバンク付基板の製造方法である。

【0019】

本発明の第八の態様は、第六の態様に係る方法により基板上に形成された前記バンクにより囲まれた領域内にインクを注入して画素を形成する、画素形成工程を含む、光学素子の製造方法である。

【発明の効果】

【0020】

本発明によれば、撥インク性に優れ、且つすそ引きが抑制された良好な断面形状のバンクを与える、バンク形成用感光性樹脂組成物を提供することができる。

【0021】

また、本発明によれば、当該バンク形成用感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンク、当該バンクを備えるバンク付基板、当該バンク付基板を備える光学素子、当該光学素子を備える表示装置、当該バンク形成用感光性樹脂組成物を用いるバンクの製造方法、当該バンク形成用感光性樹脂組成物を用いるバンク付基板の製造方法、及び当該バンク付基板の製造方法により得られるバンク付基板を用いる光学素子の製造方法を提供することができる。

【発明を実施するための形態】

【0022】

≪バンク形成用感光性樹脂組成物≫
本発明に係るバンク形成用感光性樹脂組成物（以下、「感光性樹脂組成物」ともいう。）は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）フッ素系樹脂、及び（Ｅ）上述の式（１）で表される化合物を少なくとも含有している。以下、本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される各成分について説明する。

【0023】

＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂＞
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂（以下、「（Ａ）成分」ともいう。）とは、樹脂濃度２０質量％の樹脂溶液（溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）により、膜厚１μｍの樹脂膜を基板上に形成し、濃度０．０５質量％のＫＯＨ水溶液に１分間浸漬した際に、膜厚０．０１μｍ以上溶解するものをいう。

【0024】

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、上述のアルカリ可溶性を示す樹脂であれば特に限定されず、従来公知の樹脂から適宜選択して使用できる。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として好適な樹脂としては、（Ａ１）カルド構造を有する樹脂が挙げられる。

【0025】

（Ａ１）カルド構造を有する樹脂としては、特に限定されるものではなく、従来公知の樹脂を用いることができる。その中でも、下記式（ａ−１）で表される樹脂が好ましい。

【0026】

【化2】

【0027】

上記式（ａ−１）中、Ｘ^ａは、下記式（ａ−２）で表される基を示す。

【0028】

【化3】

【0029】

上記式（ａ−２）中、Ｒ^ａ１は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜６の炭化水素基、又はハロゲン原子を示し、Ｒ^ａ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｗ^ａは、単結合又は下記式（ａ−３）で表される基を示す。

【0030】

【化4】

【0031】

また、上記式（ａ−１）中、Ｙ^ａは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基（−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−）を除いた残基を示す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。

【0032】

また、上記式（ａ−１）中、Ｚ^ａは、テトラカルボン酸二無水物から２個の酸無水物基を除いた残基を示す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式（ａ−１）中、ｍは、０〜２０の整数を示す。

【0033】

（Ａ１）カルド構造を有する樹脂の質量平均分子量は、１０００〜４００００であることが好ましく、２０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、良好な現像性を得ながら、十分な耐熱性、膜強度を得ることができる。

【0034】

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、（ａ１）不飽和カルボン酸と、不飽和カルボン酸の他の共重合成分との共重合体を用いることもできる。このような樹脂の中では、破壊強度や基板との密着性に優れるバンクを与える感光性樹脂組成物を得やすいことから、（ａ１）不飽和カルボン酸と（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物とを少なくとも重合させた（Ａ２）共重合体が挙げられる。

【0035】

（ａ１）不飽和カルボン酸としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；これらジカルボン酸の無水物；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、得られる樹脂のアルカリ溶解性、入手の容易性等の点から、（メタ）アクリル酸及び無水マレイン酸が好ましい。これらの（ａ１）不飽和カルボン酸は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0036】

（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物としては、（ａ２−Ｉ）脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物と、（ａ２−ＩＩ）脂環式エポキシ基を持たない不飽和化合物とが挙げられ、（ａ２−Ｉ）脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物が好ましい。

【0037】

（ａ２−Ｉ）脂環式エポキシ基を有する不飽和化合物において、脂環式エポキシ基を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。これらの（ａ２−Ｉ）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0038】

具体的に、（ａ２−Ｉ）脂環式エポキシ基含有不飽和化合物としては、例えば下記式（ａ２−１）〜（ａ２−１６）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、現像性を適度なものするためには、下記式（ａ２−１）〜（ａ２−６）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ２−１）〜（ａ２−４）で表される化合物がより好ましい。

【0039】

【化5】

【0040】

【化6】

【0041】

【化7】

【0042】

上記式中、Ｒ^１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^１２は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^１３は炭素数１〜１０の２価の炭化水素基を示し、ｎは０〜１０の整数を示す。Ｒ^１２としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^１３としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、−ＣＨ_２−Ｐｈ−ＣＨ_２−（Ｐｈはフェニレン基を示す）が好ましい。

【0043】

（ａ２−ＩＩ）脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物としては、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エポキシアルキルエステル類；α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル等のα−アルキルアクリル酸エポキシアルキルエステル類；等が挙げられる。これらの中でも、共重合反応性、硬化後の樹脂の強度等の点から、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、及び６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレートが好ましい。これらの（ａ２−ＩＩ）脂環式基を有さないエポキシ基含有不飽和化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0044】

（Ａ２）共重合体は、上記（ａ１）不飽和カルボン酸、及び（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物とともに、（ａ３）エポキシ基を有さない脂環式基含有不飽和化合物を重合させたものであってもよい。

【0045】

（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物としては、脂環式基を有する不飽和化合物であれば特に限定されない。脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。これらの（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0046】

具体的に、（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物としては、例えば下記式（ａ３−１）〜（ａ３−７）で表される化合物が挙げられる。これらの中では、現像性の良好な感光性樹脂組成物を得やすいことから、下記式（ａ３−３）〜（ａ３−８）で表される化合物が好ましく、下記式（ａ３−３）、（ａ３−４）で表される化合物がより好ましい。

【0047】

【化8】

【0048】

【化9】

【0049】

上記式中、Ｒ^２１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^２２は単結合又は炭素数１〜６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Ｒ^２３は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｒ^２２としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Ｒ^２３としては、例えばメチル基、エチル基が好ましい。

【0050】

（Ａ２）共重合体は、上記以外の他の化合物をさらに共重合させたものであってもよい。このような他の化合物としては、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等が挙げられる。これらの化合物は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0051】

（メタ）アクリル酸エステル類としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル（メタ）アクリレート；クロロエチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート；等が挙げられる。

【0052】

（メタ）アクリルアミド類としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−アリール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

【0053】

アリル化合物としては、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類；アリルオキシエタノール；等が挙げられる。

【0054】

ビニルエーテル類としては、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル；ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２，４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテル等のビニルアリールエーテル；等が挙げられる。

【0055】

ビニルエステル類としては、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル等が挙げられる。

【0056】

スチレン類としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン等のアルキルスチレン；メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレン等のアルコキシスチレン；クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、２−ブロモ−４−トリフルオロメチルスチレン、４−フルオロ−３−トリフルオロメチルスチレン等のハロスチレン；等が挙げられる。

【0057】

（Ａ２）共重合体に占める上記（ａ１）不飽和カルボン酸由来の構成単位の割合は、１〜２５質量％であることが好ましく、８〜１６質量％であることがより好ましい。また、（Ａ２）共重合体に占める上記（ａ３）脂環式基含有不飽和化合物由来の構成単位の割合は、１〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。

【0058】

また、（Ａ２）共重合体に占める上記（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位の比率は、２０〜６０質量％が好ましく、２０〜４０質量％がより好ましい。

【0059】

（Ａ２）共重合体の質量平均分子量（Ｍｗ：ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）のスチレン換算による測定値。本明細書において同じ。）は、２０００〜２０００００であることが好ましく、５０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

【0060】

（Ａ２）共重合体は公知のラジカル重合法により製造することができる。すなわち、各化合物、並びに公知のラジカル重合開始剤を重合溶媒に溶解した後、加熱撹拌することにより製造することができる。

【0061】

また、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、上記（ａ１）不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、後述する（Ｂ）光重合性モノマーとの重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する（Ａ３）共重合体、又は上記（ａ１）不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、上記（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位と、後述する光重合性モノマー（Ｂ）との重合可能部位を有する構成単位とを少なくとも有する（Ａ４）共重合体を含む樹脂も好適に使用できる。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が（Ａ３）共重合体、又は（Ａ４）共重合体を含む場合、感光性樹脂組成物の基板への密着性、感光性樹脂組成物の硬化後の破壊強度を高めることができる。

【0062】

（Ａ３）共重合体、及び（Ａ４）共重合体は、（Ａ２）共重合体について他の化合物として記載される、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等をさらに共重合させたものであってもよい。

【0063】

（Ｂ）光重合性モノマーとの重合可能部位を有する構成単位は、（Ｂ）光重合性モノマーとの重合可能部位としてエチレン性不飽和基を有するものが好ましい。（Ａ３）共重合体については、上記（ａ１）不飽和カルボン酸の単独重合体に含まれるカルボキシル基の少なくとも一部と、上記（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物とを反応させることにより、調製することができる。また、（Ａ４）共重合体は、上記（ａ１）不飽和カルボン酸に由来する構成単位と、上記（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物に由来する構成単位とを有する共重合体におけるエポキシ基の少なくとも一部と、（ａ１）不飽和カルボン酸とを反応させることにより、調製することができる。

【0064】

（Ａ３）共重合体、及び（Ａ４）共重合体の質量平均分子量は、２０００〜５００００であることが好ましく、５０００〜３００００であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。

【0065】

以上説明した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の中では、（Ａ１）カルド構造を有する樹脂が好ましい。光学素子を製造する際に、バンク形成用感光性樹脂組成物が高温にさらされる場合があるが、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として（Ａ１）カルド構造を有する樹脂を用いる場合、バンク形成用感光性樹脂組成物が高温にさられても、光学素子の性能に悪影響を与える分解物が生成しにくいためである。

【0066】

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して３０〜９０質量％であることが好ましく、４５〜７５質量％であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、現像性のバランスをとりやすい傾向がある。

【0067】

＜（Ｂ）光重合性モノマー＞
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される（Ｂ）光重合性モノマー（以下、「（Ｂ）成分」ともいう。）としては、エチレン性不飽和基を有するモノマーを好ましく用いることができる。このエチレン性不飽和基を有するモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。

【0068】

単官能モノマーとしては、（メタ）アクリルアミド、メチロール（メタ）アクリルアミド、メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0069】

一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート（すなわち、トリレンジイソシアネート）、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネート等と２−ビドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物、メチレンビス（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとＮ−メチロール（メタ）アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0070】

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの中でも、感光性樹脂組成物の基板への密着性、感光性樹脂組成物の硬化後の破壊強度を高める点から、３官能以上の多官能モノマーが好ましく、６官能以上の多官能モノマーがより好ましい。

【0071】

（Ｂ）成分の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感度、現像性、解像性のバランスがとりやすい傾向がある。

【0072】

＜（Ｃ）光重合開始剤＞
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される（Ｃ）光重合開始剤（以下、「（Ｃ）成分」ともいう。）としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。

【0073】

（Ｃ）光重合開始剤として具体的には、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ケトン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチルスルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ−２−エチルヘキシル安息香酸、４−ジメチルアミノ−２−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（Ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、２−クロロチオキサンテン、２，４−ジエチルチオキサンテン、２−メチルチオキサンテン、２−イソプロピルチオキサンテン、２−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、２−メルカプトベンゾイミダール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）−イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、α，α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパン、ｐ−メトキシトリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）フェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（３−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス−トリクロロメチル−６−（２−ブロモ−４−メトキシ）スチリルフェニル−ｓ−トリアジン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0074】

これらの中でも、オキシム系の光重合開始剤を用いることが、感度の面で特に好ましい。オキシム系の光重合開始剤の中で、特に好ましいものとしては、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾル−３−イル］，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、及び１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が挙げられる。

【0075】

（Ｃ）成分の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して０．５〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、耐熱性、及び耐薬品性に優れるバンクを与える感光性樹脂組成物を得ることができ、感光性樹脂組成物の硬化不良を抑制することができる。

【0076】

また、この（Ｃ）成分に、光開始助剤を組み合わせてもよい。光開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸メチル、ペンタエリストールテトラメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピオネート等のチオール化合物等が挙げられる。これらの光開始助剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0077】

＜（Ｄ）フッ素系樹脂＞
本発明に係る感光性樹脂組成物は、（Ｄ）フッ素系樹脂（以下、「（Ｄ）成分」ともいう。）を含有する。感光性樹脂組成物に（Ｄ）フッ素系樹脂を含有させる場合、カラーフィルタ、有機ＥＬ表示素子、又は有機ＴＦＴアレイ等においてインクを用いて画素を形成する際に、本発明に係る感光性樹脂組成物により形成されたバンクが、インクを弾きやすくなり、バンクへのインクの付着や、バンクに囲まれた領域にインクを注入する際の、隣接する画素とのインクの混合を防ぐことができる。

【0078】

（Ｄ）成分であるフッ素系樹脂は、フッ素原子を含有する樹脂であって、感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンクに、画素を形成するためのインクに対する撥インク性を付与できる樹脂であれば特に限定されない。（Ｄ）フッ素系樹脂は、フッ素原子を含むモノマーの単独重合体、又はフッ素原子を含むモノマーと、フッ素原子を含まないモノマーとの共重合体であってよい。

【0079】

（Ｄ）フッ素系樹脂の好適な例としては、（ｄ１）エチレン性不飽和基及びフッ素原子を有するモノマーと、（ｄ２）（メタ）アクリル酸とを少なくとも共重合させた共重合体が挙げられる。このような（Ｄ）フッ素系樹脂を用いる場合、感光性樹脂組成物を用いて、画素形成用のインクに対する撥液性に優れるバンクを形成しやすい。

【0080】

（（ｄ１）エチレン性不飽和基及びフッ素原子を有するモノマー）
エチレン性不飽和基及びフッ素原子を有するモノマー（以下、「（ｄ１）モノマー」ともいう。）は、エチレン性不飽和基とフッ素原子とを有していれば特に限定されない。このような（ｄ１）モノマーとしては、下式（ｄ１−１）で表される化合物等が挙げられる。これらの（ｄ１）モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0081】

【化10】

【0082】

式（ｄ１−１）中、Ｘ^１及びＸ^２はそれぞれ独立に水素原子又はフッ素原子を示し、Ｘ^３は水素原子、フッ素原子、メチル基、又はパーフルオロメチル基を示し、Ｘ^４及びＸ^５は水素原子、フッ素原子、又はパーフルオロメチル基を示す。Ｒｆは炭素数１〜４０の含フッ素アルキル基又は炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基を示し、ａは０〜３の整数を示し、ｂ及びｃはそれぞれ独立に０又は１を示す。Ｒｆが含フッ素アルキル基である場合、炭素数は２〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましく、４〜６が特に好ましい。Ｒｆがエーテル結合を有する含フッ素アルキル基である場合、炭素数は２〜５０が好ましく、３〜２０がより好ましく、４〜６が特に好ましい。

【0083】

（ｄ１）モノマーから誘導されるユニットの含有量は、（Ｄ）フッ素系樹脂に対して３０〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは４０〜６０質量％の範囲である。（Ｄ）フッ素系樹脂における（ｄ１）モノマーから誘導されるユニットの含有量を上記の範囲とする場合、感光性樹脂組成物により撥インク性に優れるバンクを形成しやすく、感光性樹脂組成物における、（Ｄ）フッ素系樹脂と、他の成分との相溶性が良好となる傾向がある。

【0084】

また、（ｄ１）モノマーにおいては、−（ＣＦ_２）_ｔＦ（ｔ＝１〜１０）で表される基を有するものが好ましい。ｔは１〜８であることがより好ましく、２〜６であることがさらに好ましい。（ｄ１）モノマーが上記の基を有する場合、感光性樹脂組成物により撥インク性に優れるバンクを形成しやすい。

【0085】

＜（ｄ２）（メタ）アクリル酸＞
（Ｄ）フッ素系樹脂は、感光性樹脂組成物の現像性を向上させるために、カルボキシル基を有するモノマーである（ｄ２）（メタ）アクリル酸に由来する単位を含むのが好ましい。

【0086】

（ｄ２）（メタ）アクリル酸に由来する単位の含有量は、（Ｄ）フッ素系樹脂に対して０．１〜２０質量％であることが好ましい。（Ｄ）フッ素系樹脂における（ｄ２）（メタ）アクリル酸に由来する単位の含有量を上記の範囲とする場合、現像性が良好であり、撥インク性に優れるバンクを形成できる感光性樹脂組成物を得やすい。

【0087】

（Ｄ）フッ素系樹脂には、必要に応じて、上記の（ｄ１）モノマー及び（ｄ２）モノマー以外の他のモノマーを共重合させてもよい。このような他のモノマーとしては、以下に記述する種々のモノマーが挙げられる。

【0088】

（（ｄ３）エチレン性不飽和基及びエポキシ基を有するモノマー）
（Ｄ）フッ素系樹脂は、さらに、エチレン性不飽和基及びエポキシ基を有するモノマー（以下、「（ｄ３）モノマー」ともいう。）を共重合させた共重合体であることが好ましい。（ｄ３）モノマーを共重合させることにより、感光性樹脂組成物により形成されるバンクの撥インク性をより向上させることができる。

【0089】

（ｄ３）モノマーとしては、グリシジル（メタ）アクリレート、下記式（ｄ３−１）〜（ｄ３−３）で表される脂環式エポキシ化合物、（メタ）アクリル酸のカルボキシル基と二官能以上のエポキシ化合物のエポキシ基とを反応させて得られるモノマー、側鎖に水酸基やカルボキシル基を有するアクリル系モノマーの水酸基又はカルボキシル基と二官能以上のエポキシ化合物のエポキシ基とを反応させて得られるモノマー等が挙げられる。中でも、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。これらの（ｄ３）モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0090】

【化11】

【0091】

式（ｄ３−２）、（ｄ３−３）中、Ｒ^１ｄは水素原子又はメチル基を示し、ｕは１〜１０の整数を示し、ｖ及びｗはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。

【0092】

（Ｄ）フッ素系樹脂が（ｄ３）モノマーに由来する単位を含む場合、（Ｄ）フッ素系樹脂中の当該単位の含有量は、（Ｄ）フッ素系樹脂に対して１〜４０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。（Ｄ）フッ素系樹脂における（ｄ３）モノマーに由来する単位の含有量を上記の範囲とする場合、撥インク性が良好なバンクを形成できる感光性樹脂組成物を得やすい。

【0093】

（（ｄ４）式（ｄ４−１）で表される構造を有するモノマー）
（Ｄ）フッ素系樹脂は、さらに、エチレン性不飽和基及び下記式（ｄ４−１）で表される構造を有するモノマー（以下、「（ｄ４）モノマー」ともいう。）を共重合させた共重合体であることが好ましい。（ｄ４）モノマーを共重合させることにより、現像性に優れる感光性樹脂組成物を得やすく、感光性樹脂組成物における（Ｄ）フッ素系樹脂と他の成分との相溶性を向上させることができる。

【0094】

【化12】

【0095】

（ｄ４）モノマーは、エチレン性不飽和基及び下記式（ｄ４−２）で表される構造を有するものがより好ましい。

【0096】

【化13】

【0097】

式（ｄ４−１）、（ｄ４−２）中、Ｒ^２ｄは炭素数１〜５のアルキレン基を示し、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、炭素数１〜３のアルキレン基が好ましく、エチレン基が最も好ましい。Ｒ^３ｄは水素原子、水酸基、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を示し、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。中でも、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。上記置換基としては、カルボキシル基、水酸基、炭素数１〜５のアルコキシ基等が挙げられる。ｘは１以上の整数を示し、１〜６０の整数が好ましく、１〜１２の整数がより好ましい。

【0098】

このような（ｄ４）モノマーとしては、下記式（ｄ４−３）で表される化合物等が挙げられる。これらの（ｄ４）モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0099】

【化14】

【0100】

式（ｄ４−３）中、Ｒ^４ｄは水素原子又はメチル基を示す。Ｒ^２ｄ、Ｒ^３ｄ、ｘは上記式（ｄ４−１）、（ｄ４−２）と同義である。

【0101】

（ｄ４）モノマーから誘導されるユニットの含有量は、（Ｄ）フッ素系樹脂に対して１〜４０質量％であることが好ましく、より好ましくは５〜２５質量％の範囲である。上記の範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の現像性や、感光性樹脂組成物における（Ｄ）フッ素系樹脂と他の成分との相溶性が良好となる傾向があり好ましい。

【0102】

（（ｄ５）ケイ素原子を有するモノマー）
（Ｄ）フッ素系樹脂は、さらに、ケイ素原子を有するモノマー（以下、「（ｄ５）モノマー」ともいう。）を共重合させた共重合体であることが好ましい。（ｄ５）モノマーは、エチレン性不飽和基及びケイ素原子に結合した少なくとも１つのアルコキシ基を有するものであれば特に限定されない。この（ｄ５）モノマーを共重合させることにより、感光性樹脂組成物により形成されるバンクの撥インク性をより向上させることができる。

【0103】

このような（ｄ５）モノマーとしては、下記式（ｄ５−１）で表される化合物等が挙げられる。これらの（ｄ５）モノマーは、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0104】

【化15】

【0105】

式（ｄ５−１）中、Ｒ^５ｄは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Ｒ^６ｄは炭素数１〜２０のアルキレン基又はフェニレン基を示し、好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基である。Ｒ^７ｄ、Ｒ^８ｄはそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基又はフェニル基を示し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基である。Ｓｉに複数のＲ^７ｄが結合している場合、該複数のＲ^７ｄは同一であっても異なっていてもよい。また、Ｓｉに複数の（ＯＲ^８ｄ）が結合している場合、該複数の（ＯＲ^８ｄ）は同一であっても異なっていてもよい。ｐは０又は１であり、好ましくは１である。ｑは１〜３の整数であり、好ましくは２又は３であり、より好ましくは３である。

【0106】

（ｄ５）モノマーから誘導されるユニットの含有量は、（Ｄ）フッ素系樹脂に対して２０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは１０質量％以下の範囲である。上記の範囲とすることにより、撥インク性及び着色感光性樹脂組成物の他の成分との相溶性が良好となる傾向があり好ましい。

【0107】

上記のモノマーの他のモノマーとしては、エチレン性不飽和基を有する種々のモノマーを用いることができ、中でも、アクリル系モノマーが好ましい。アクリル系モノマーの好適な例としては、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド（Ｎ−ＭＡＡ）、メチルメタクリレート（ＭＡＡ）、シクロヘキシルメタクリレート（ＣＨＭＡ）、イソボニルメタクリレート（ＩＢＭＡ）等が挙げられる。（Ｄ）フッ素系樹脂おける、これらの他のモノマーに由来する単位の含有量は、（Ｄ）フッ素系樹脂に対して０〜２５質量％であることが好ましい。

【0108】

（ｄ１）モノマー及び（ｄ２）モノマー並びに必要に応じてその他のモノマーを反応させて共重合体を得る方法としては、公知の方法を用いることができる。

【0109】

（Ｄ）フッ素系樹脂の質量平均分子量は、２０００〜５００００であることが好ましく、より好ましくは５０００〜２００００である。（Ｄ）フッ素系樹脂の質量平均分子量を２０００以上にすることにより、感光性樹脂組成物により形成されるバンクの耐熱性及び強度を向上させることができ、また５００００以下にすることにより感光性樹脂組成物の現像性を高めることができる。

【0110】

感光性樹脂組成物における（Ｄ）フッ素系樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分に対して、０．１〜１０質量％であるのが好ましく、０．２〜５質量％であるのがより好ましい。感光性樹脂組成物がこのような量で（Ｄ）フッ素系樹脂を含有する場合、感光性樹脂組成物を感度、現像性、及び解像性に優れるものとしつつ、感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンクに、画素を形成するためのインクに対する良好な撥インク性を付与しやすい。

【0111】

＜（Ｅ）式（１）で表される化合物＞
本発明に係る感光性樹脂組成物は、（Ｅ）下記式（１）で表される化合物（以下、「（Ｅ）成分」ともいう。）を含有する。感光性樹脂組成物にこの化合物を含有させる場合、形成されるバンクにおけるすそ引きの発生を抑制することができる。

【0112】

【化16】

【0113】

上記式（１）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示すが、Ｒ^１及びＲ^２の少なくとも一方は有機基を示す。

【0114】

Ｒ^１及びＲ^２における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。この有機基は、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。この有機基は、通常は１価であるが、環状構造を形成する場合等には、２価以上の有機基となり得る。

【0115】

Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合をさらに含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。

【0116】

Ｒ^１及びＲ^２の有機基中の炭化水素基以外の結合としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、酸素原子、窒素原子、珪素原子等のヘテロ原子を含む結合が挙げられる。具体例としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（−Ｎ＝Ｃ（−Ｒ）−、−Ｃ（＝ＮＲ）−：Ｒは水素原子又は有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合、アゾ結合等が挙げられる。

【0117】

耐熱性の観点から、Ｒ^１及びＲ^２の有機基中の炭化水素基以外の結合としては、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、イミノ結合（−Ｎ＝Ｃ（−Ｒ）−、−Ｃ（＝ＮＲ）−：Ｒは水素原子又は１価の有機基を示す）、カーボネート結合、スルホニル結合、スルフィニル結合が好ましい。

【0118】

Ｒ^１及びＲ^２の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、本発明の効果が損なわれない限り特に限定されず、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシル基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基、アミノ基（−ＮＨ_２、−ＮＨＲ、−ＮＲＲ’：Ｒ及びＲ’はそれぞれ独立に炭化水素基を示す）等が挙げられる。上記置換基に含まれる水素原子は、炭化水素基によって置換されていてもよい。また、上記置換基に含まれる炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよい。

【0119】

Ｒ^１及びＲ^２の有機基中の炭化水素基以外の置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、イソシアナト基、チオシアナト基、イソチオシアナト基、シリル基、シラノール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシル基、カルボキシラート基、アシル基、アシルオキシ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ヒドロキシイミノ基、アルキルエーテル基、アルケニルエーテル基、アルキルチオエーテル基、アルケニルチオエーテル基、アリールエーテル基、アリールチオエーテル基が好ましい。

【0120】

以上の中でも、Ｒ^１及びＲ^２としては、少なくとも一方が炭素数１〜１２のアルキル基若しくは炭素数１〜１２のアリール基であるか、互いに結合して炭素数２〜２０のヘテロシクロアルキル基若しくはヘテロアリール基を形成するものであることが好ましい。ヘテロシクロアルキル基としては、ピペリジノ基、モルホリノ基等が挙げられ、ヘテロアリール基としては、イミダゾリル基、ピラゾリル基等が挙げられる。

【0121】

上記式（１）中、Ｒ^３は、単結合又は有機基を示す。

【0122】

Ｒ^３における有機基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基等から１個の水素原子を除いた基が挙げられる。この有機基は、該有機基中に置換基を含んでいてもよい。置換基としては、Ｒ^１及びＲ^２において例示したものが挙げられる。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状のいずれでもよい。

【0123】

以上の中でも、Ｒ^３としては、単結合、又は炭素数１〜１２のアルキル基若しくは炭素数１〜１２のアリール基から１個の水素原子を除いた基であることが好ましい。

【0124】

上記式（１）中、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、又は有機基を示す。

【0125】

Ｒ^４及びＲ^５における有機基としては、Ｒ^１及びＲ^２において例示したものが挙げられる。この有機基は、Ｒ^１及びＲ^２の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

【0126】

以上の中でも、Ｒ^４及びＲ^５としては、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数４〜１３のシクロアルキル基、炭素数４〜１３のシクロアルケニル基、炭素数７〜１６のアリールオキシアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、シアノ基を有する炭素数２〜１１のアルキル基、水酸基を有する炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１１のアミド基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のアシル基、炭素数２〜１１のエステル基（−ＣＯＯＲ、−ＯＣＯＲ：Ｒは炭化水素基を示す）、炭素数６〜２０のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換した炭素数６〜２０のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基であることが好ましい。より好ましくは、Ｒ^４及びＲ^５の両方が水素原子であるか、又はＲ^４がメチル基であり、Ｒ^５が水素原子である。

【0127】

上記式（１）中、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、又は有機基を示す。
Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９における有機基としては、Ｒ^１及びＲ^２において例示したものが挙げられる。この有機基は、Ｒ^１及びＲ^２の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

【0128】

なお、上記式（１）中、Ｒ^６及びＲ^７が水酸基となることはない。

【0129】

Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、それらの２つ以上が結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。環状構造としては、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロアリール基等が挙げられ、縮合環であってもよい。例えば、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９は、それらの２つ以上が結合して、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成してもよい。

【0130】

以上の中でも、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９としては、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数４〜１３のシクロアルキル基、炭素数４〜１３のシクロアルケニル基、炭素数７〜１６のアリールオキシアルキル基、炭素数７〜２０のアラルキル基、シアノ基を有する炭素数２〜１１のアルキル基、水酸基を有する炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数２〜１１のアミド基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のアシル基、炭素数２〜１１のエステル基、炭素数６〜２０のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換した炭素数６〜２０のアリール基、電子供与性基及び／又は電子吸引性基が置換したベンジル基、シアノ基、メチルチオ基、ニトロ基であることが好ましい。

【0131】

また、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９としては、それらの２つ以上が結合して、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９が結合しているベンゼン環の原子を共有してナフタレン、アントラセン、フェナントレン、インデン等の縮合環を形成している場合も、吸収波長が長波長化する点から好ましい。

【0132】

より好ましくは、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９の全てが水素原子であるか、又はＲ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^９のいずれか１つがニトロ基であり、残り３つが水素原子である。

【0133】

上記式（１）中、Ｒ^１０は、水素原子又は有機基を示す。

【0134】

Ｒ^１０における有機基としては、Ｒ^１及びＲ^２において例示したものが挙げられる。この有機基は、Ｒ^１及びＲ^２の場合と同様に、該有機基中にヘテロ原子等の炭化水素基以外の結合や置換基を含んでいてもよい。また、この有機基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。

【0135】

上記式（１）で表される化合物は、ベンゼン環のパラ位に−ＯＲ^１０基を有するため、溶媒への溶解性が良好である。

【0136】

以上の中でも、Ｒ^１０としては、水素原子、又は炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。

【0137】

上記式（１）で表される化合物のうち、特に好ましい具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。

【0138】

【化17】

【0139】

【化18】

【0140】

【化19】

【0141】

【化20】

【0142】

上記式（１）で表される化合物の合成方法は特に限定されないが、後述する実施例に記載される方法に従って合成することが可能である。

【0143】

感光性樹脂組成物における、上記式（１）で表される化合物の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。上記式（１）で表される化合物の含有量は、典型的には、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と光重合性モノマー（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、０．０１〜２．５質量部が好ましく、０．０１〜０．５質量部がより好ましい。感光性樹脂組成物における、上記式（１）で表される化合物の含有量をかかる範囲とする場合、すそ引きの抑制された良好な断面形状のバンクを形成しやすい。

【0144】

＜（Ｆ）着色剤＞
本発明に係る感光性樹脂組成物は、さらに（Ｆ）着色剤を含んでもよい。本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される（Ｆ）着色剤としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ社発行）において、ピグメント（Ｐｉｇｍｅｎｔ）に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを用いるのが好ましい。

【0145】

好適に使用できる黄色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。）、３、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、２０、２４、３１、５３、５５、６０、６１、６５、７１、７３，７４、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、９９、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１６、１１７、１１９、１２０、１２５、１２６、１２７、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６６、１６７、１６８、１７５、１８０、及び１８５が挙げられる。

【0146】

好適に使用できる橙色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。）、５、１３、１４、１６、１７、２４、３４、３６、３８、４０、４３、４６、４９、５１、５５、５９、６１、６３、６４、７１、及び７３が挙げられる。

【0147】

好適に使用できる紫色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。）、１９、２３、２９、３０、３２、３６、３７、３８、３９、４０、及び５０が挙げられる。

【0148】

好適に使用できる赤色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。）２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２１、２２、２３、３０、３１、３２、３７、３８、４０、４１、４２、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５３：１、５７、５７：１、５７：２、５８：２、５８：４、６０：１、６３：１、６３：２、６４：１、８１：１、８３、８８、９０：１、９７、１０１、１０２、１０４、１０５、１０６、１０８、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４９、１５０、１５１、１５５、１６６、１６８、１７０、１７１、１７２、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８０、１８５、１８７、１８８、１９０、１９２、１９３、１９４、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２４２、２４３、２４５、２５４、２５５、２６４、及び２６５が挙げられる。

【0149】

好適に使用できる青色顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１（以下、「Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。）、２、１５、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、６４、及び６６が挙げられる。

【0150】

好適に使用できる、上記の他の色相の顔料の例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３７等の緑色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２８等の茶色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック１、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等の黒色顔料が挙げられる。

【0151】

感光性樹脂組成物により形成されたバンクを備える基板を用いて、後述する方法により種々の光学素子が形成される。例えば、光学素子がカラーフィルタである場合等、光学素子の種類によっては、感光性樹脂組成物は（Ｆ）着色剤として遮光剤を含むのが好ましい。感光性樹脂組成物が（Ｆ）着色剤として遮光剤を含む場合、遮光剤としては黒色顔料が好ましい。黒色顔料としては、カーボンブラック、ペリレンブラック、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。これらの中でも、高い遮光性を有するカーボンブラックを用いることが好ましい。

【0152】

カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができるが、遮光性に優れるチャンネルブラックを用いることが好ましい。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。

【0153】

また、カーボンブラックの色調を調整するために、補助顔料として上記の有機顔料を適宜添加してもよい。

【0154】

上記の（Ｆ）着色剤を感光性樹脂組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、（Ｆ）着色剤として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。

【0155】

（Ｆ）着色剤である無機顔料と有機顔料とはそれぞれ単独又は２種以上併用してもよいが、これらを併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量１００質量部に対して、有機顔料を１０〜８０質量部の範囲で用いることが好ましく、２０〜４０質量部の範囲で用いることがより好ましい。

【0156】

感光性樹脂組成物における（Ｆ）着色剤の使用量は、本発明の目的を阻害しない範囲で適宜選択でき、典型的には、感光性樹脂組成物の固形分の合計１００質量部に対して、５〜７０質量部が好ましく、２５〜６０質量部がより好ましい。感光性樹脂組成物における（Ｆ）着色剤の含有量を上記の範囲とすることにより、所望の形状のバンクを形成しやすい。

【0157】

特に、感光性樹脂組成物に（Ｆ）着色剤として遮光剤を含有させる場合には、感光性樹脂組成物により形成される被膜１μｍ当たりのＯＤ値が０．５以上となるように感光性樹脂組成物における遮光剤の量を調整するのが好ましい。

【0158】

（Ｆ）着色剤は、分散剤を用いて適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。

【0159】

＜（Ｇ）光吸収剤＞
感光性樹脂組成物は、（Ｇ）光吸収剤を含有することが好ましい。光吸収剤としては、特に限定されず、露光光を吸収することができるものを用いることができるが、特に、２００〜４５０ｎｍの波長領域の光を吸収するものが好ましい。例えば、ナフタレン化合物、ジナフタレン化合物、アントラセン化合物、フェナントロリン化合物、染料等が挙げられる。

【0160】

具体的には、桂皮酸２−エチルヘキシル、パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル、メトキシケイ皮酸イソプロピル、メトキシケイ皮酸イソアミル等の桂皮酸誘導体；α−ナフトール、β−ナフトール、α−ナフトールメチルエーテル、α−ナフトールエチルエーテル、１，２−ジヒドロキシナフタレン、１，３−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレン、１，８−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン等のナフタレン誘導体；アントラセン、９，１０−ジヒドロキシアントラセン等のアントラセン及びその誘導体；アゾ系染料、ベンゾフェノン系染料、アミノケトン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料等の染料；等が挙げられる。これらの中でも、桂皮酸誘導体、ナフタレン誘導体を用いることが好ましく、桂皮酸誘導体を用いることが特に好ましい。これらの光吸収剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0161】

（Ｇ）光吸収剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分１００質量部に対して０．５〜２０質量部であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、硬化後のバンクの破壊強度を良好に保ちながら、露光量を変化させたときの膜厚変化の割合を大きくすることができる。

【0162】

＜（Ｓ）有機溶剤＞
感光性樹脂組成物は、希釈のための（Ｓ）有機溶剤を含有することが好ましい。有機溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類；２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル部炭酸メチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。

【0163】

これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、乳酸アルキルエステル類、上述した他のエステル類が好ましく、アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、上述した他のエーテル類、上述した他のエステル類がより好ましい。これらの溶剤は、単独又は２種以上組み合わせて用いることができる。

【0164】

（Ｓ）有機溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分濃度が１〜５０質量％となる量が好ましく、５〜３０質量％となる量がより好ましい。

【0165】

＜その他の成分＞
感光性樹脂組成物は、必要に応じて、各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等が挙げられる。

【0166】

＜感光性樹脂組成物の調製方法＞
感光性樹脂組成物は、上記の各成分を撹拌機で混合することにより調製される。なお、調製された感光性樹脂組成物が均一なものとなるよう、メンブランフィルタ等を用いて濾過してもよい。

【0167】

≪バンクの形成方法≫
以上説明した感光性樹脂組成物を用いてバンクを形成する方法は特に限定されず、従来知られる方法を採用することができる。バンクの形成方法としては、例えば、感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、感光性樹脂層を形成する塗布工程と、感光性樹脂層を露光する露光工程と、を含む方法が挙げられる。このようなバンクの形成方法の具体例としては、インクジェット法とフォトリソグラフィー法とが挙げられる。

【0168】

インクジェット法では、（Ｓ）有機溶剤による希釈等により粘度調整された感光性樹脂組成物をインクとして用い、所定のバンクのパターンに沿ってインクジェット法によりインク液滴を基板上に吐出することで感光性樹脂組成物を基板上に塗布して未硬化のバンクのパターンを形成する。そして、未硬化のバンクのパターンを露光して、基板上に硬化したバンクを形成する。未硬化のバンクのパターンの露光は、マスクを用いないことの他は、後述するフォトリソグラフィー法における露光工程と同様に行われる。

【0169】

フォトリソグラフィー法では、感光性樹脂組成物を、基板のバンクが形成される領域全面に塗布して感光性樹脂層を形成する。形成された感光性樹脂層を、所定のバンクのパターンに応じて露光した後、露光された感光性樹脂層を現像して、基板上にバンクが形成される。

【0170】

フォトリソグラフィー法における、感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程では、バンクが形成されるべき基板上に、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー（回転式塗布装置）、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて感光性樹脂組成物を塗布し、必要に応じて、乾燥により溶媒を除去して、感光性樹脂層を形成する。

【0171】

次いで、露光工程では、ネガ型のマスクを介して、感光性樹脂層に紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射し、感光性樹脂層をバンクのパターンに応じて部分的に露光する。露光には、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯等の紫外線を発する光源を用いることができる。露光量は感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば１０〜６００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましい。

【0172】

次いで、現像工程では、バンクのパターンに応じて露光された感光性樹脂層を現像液で現像することにより、を形成する。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、４級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。

【0173】

その後、現像後のバンクにポストベークを施して加熱硬化する。ポストベークは、１５０〜２５０℃で１５〜６０分間が好ましい。

【0174】

バンクの形成に用いる基板は特に限定されず、バンクが形成された基板を用いて製造される光学素子の種類に合わせて適宜選択される。好適な基板の材料としては、ガラスや、各種の樹脂材料が挙げられる。樹脂材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、及びポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート；ポリ（メタ）メタアクリル樹脂；ポリスルホン；ポリイミドが挙げられる。これらの基板の材料の中では、耐熱性に優れることからガラス、及びポリイミドが好ましい。また、製造される光学素子の種類に応じて、バンクが形成される基板の表面には、予めＩＴＯやＺｎＯ等の透明電極層を設けておいてもよい。

【0175】

≪光学素子の製造方法≫
以上説明した方法により製造されたバンクパターンを備える基板を用いて、種々の光学素子が製造される。光学素子を形成する方法は特に限定されないが、好ましくは、上記方法により基板上にバンクのパターンを形成した後に、基板上のバンクにより囲まれた領域内にインクを注入して画素を形成することによって、光学素子が製造される。

【0176】

バンクがすそ引き形状である場合、画素形成用のインクがバンクのすそ部分で弾かれるため、バンクにより囲まれた領域内が画素形成用のインクにより十分に被覆されない場合がある。しかし、上記の感光性樹脂組成物を用いて形成されたバンクは、すそ引きのない良好な形状であるため、バンクにより囲まれた領域内を画素形成用のインクにより十分に被覆することができる。これにより、例えば、有機ＥＬ表示素子におけるハレーションの問題を解消することができる。

【0177】

画素形成用のインクを形成する際に使用される溶媒としては、水、有機溶剤、及びこれらの混合溶剤を用いることができる。有機溶剤は、インクの注入後に形成された皮膜から除去可能であれば特に限定されない。有機溶剤の具体例としては、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、及び酢酸ブチル等が挙げられる。また、インクには、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加することができる。

【0178】

バンクにより囲まれた領域内にインクを注入する方法としては、少量のインクを所定の個所に容易に注入可能であることから、インクジェット法が好ましい。画素の形成に使用されるインクは、製造される光学素子の種類に応じて適宜選択される。インクをインクジェット法により注入する場合、インクの粘度はインクをインクジェットヘッドから良好に吐出できる限り特に限定されないが、４〜２０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜１０ｍＰａ・ｓがより好ましい。インクの粘度は、インク中の固形分含有量の調整、溶媒の変更、粘度調整剤の添加等により調整することができる。

【0179】

光学素子の種類は、バンクを備える光学素子であれば特に限定されない。好適な光学素子としては、カラーフィルタ、有機ＥＬ表示素子、又は有機ＴＦＴアレイが挙げられる。以下、バンクにより囲まれた領域内に所定の成分を含むインクを注入することにより光学素子を製造する方法について、カラーフィルタ、有機ＥＬ表示素子、有機ＴＦＴアレイの順に説明する。

【0180】

＜カラーフィルタの製造方法＞
カラーフィルタの構造は特に限定されず、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列に画素を配置したものであってよい。カラーフィルタは、まず、上記の方法に従って、感光性樹脂組成物を用いて所定のパターンのバンクを形成した後に、バンクにより囲まれた領域内にカラーフィルタ形成用のインクを注入して製造される。

【0181】

カラーフィルタ形成用のインクは、着色剤と、バインダー樹脂と、溶剤とを含む。着色剤は、カラーフィルタ用途に要求される耐光性や耐熱性を有するものであれば特に限定されず、従来からカラーフィルタ用途に使用されている顔料や染料から適宜選択される。バインダー樹脂は、透明であってインクに可溶であれば特に限定されない。バインダー樹脂の好適な例としては、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。

【0182】

上記のインクを、バンクにより囲まれた領域内に注入した後、乾燥、加熱硬化、紫外線硬化等を行って画素を形成することにより、カラーフィルタが形成される。カラーフィルタでは、通常、画素の表面を平坦化したり、バンクやカラーフィルタの形成に用いたインクに含まれる材料の液晶層への溶出を防ぐ目的で、画素の表面の保護膜が形成される。保護膜の好適な材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。

【0183】

＜有機ＥＬ表示素子の製造方法＞
有機ＥＬ表示素子の構造は特に限定されず、ボトムエミッション型及びトップエミッション型のいずれでもよい。製造が容易であることから、ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示素子がより好ましい。以下、ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示素子の製造方法について説明する。

【0184】

有機ＥＬ表示素子がボトムエミッション型である場合、通常、有機ＥＬ表示素子の製造に用いられる基板として、表面に透明電極層が形成された基板を用いる。有機ＥＬ素子において、透明電極層は陽極として働く。透明電極層の材料の具体例としては、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺＯ）等が挙げられる。

【0185】

このような透明電極層を備える基板の透明電極層上に、上記の方法に従って、感光性樹脂組成物を用いて所定のパターンのバンクを形成する。そして、バンクにより囲まれた領域内に所定の材料を含むインクを注入し、発光性の有機層を形成する。

【0186】

発光性の有機層の層構造は特に限定されないが、通常２層以上の多層構造であり。発光性の有機層が多層構造である場合、その層構造は特に限定されず、有機ＥＬ表示素子について従来知られる発光性の有機層の組み合わせから適宜選択される。発光性の有機層として好ましいものとしては、正孔輸送層と発光層と電子輸送層とを、透明電極層側からこの順で備える発光性の有機層が挙げられる。また、この好適な発光性の有機層において、透明電極層と正孔輸送層との間に正孔注入層を設けてもよい。

【0187】

発光性の有機層に含まれる、上記の種々の機能層は、正孔輸送性材料、電子輸送性材料、発光性材料等の材料を溶媒中に、溶解又は分散させて調製されたインクを、バンクにより囲まれた領域内に注入することにより形成される。

【0188】

正孔輸送層に含まれる正孔輸送性材料は、従来から有機ＥＬ表示素子において正孔輸送性材料として使用されている材料から適宜選択される。正孔輸送層に含まれる正孔輸送性材料の具体例としては、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシラン、ポリチオフェン、ポリピロール、及びポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の高分子材料が挙げられる。

【0189】

電子輸送層に含まれる電子輸送性材料は、従来から有機ＥＬ表示素子において電子輸送性材料として使用されている材料から適宜選択される。電子輸送層に含まれる電子輸送性材料の具体例としては、キノリン、ペリレン、フェナントロリン、ビススチリル、ピラジン、トリアゾール、オキサゾール、フラーレン、オキサジアゾール、フルオレノン、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム、アントラセン、ナフタレン、フェナントレン、ピレン、アントラセン、ペリレン、ブタジエン、クマリン、アクリジン、スチルベン、１，１０−フェナントロリン、又はこれらの誘導体が挙げられる。

【0190】

発光層に含まれる発光性材料は、従来から有機ＥＬ表示素子において発光性材料として使用されている材料から適宜選択される。発光層に含まれる発光性材料の具体例としては、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィリン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系等の発光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解させたものが挙げられる。また、デンドリマー材料、ポリフェニレンビニレン系やポリアルキルフルオレン系、ポリパラフェニレン系等の高分子発光材料を用いることも可能である。これらの発光材料は、有機ＥＬ表示素子である各画素の発光色に応じて適宜選択される。

【0191】

発光性の有機層中に正孔注入層を設ける場合、正孔注入層には導電性の高分子材料が含まれる。正孔注入層に含まれる導電性の高分子材料の具体例としては、ポリアニリン、オリゴアニリン、及びポリジオキシチオフェン（例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ））等が挙げられる。

【0192】

このように形成された発光性の有機層について、電子輸送層の発光層と接する面と反対の面に電子注入層を設けてもよい。電子注入層の材料は特に限定されず、従来から有機ＥＬ表示素子において電子注入層の材料として使用されている材料から適宜選択される。電子注入層の好適な材料としては、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、インジウム（Ｉｎ）、及びマグネシウム（Ｍｇ）等の金属、並びに、これらの金属の酸化物、複合酸化物、フッ化物等が挙げられる。

【0193】

次いで、発光性の有機層の表面に陰極が形成される。陰極の材料は特に限定されないが、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、銀（Ａｇ）、及びナトリウム（Ｎａ）等の金属の合金が好ましい。このような合金の中では、薄膜での導電性に優れることからマグネシウムと銀との合金が好ましい。

【0194】

有機ＥＬ素子は、通常、陰極側の表面を封止層により封止されている。封止層の材料は特に限定されないが、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）等が挙げられる。

【0195】

＜有機ＴＦＴアレイの製造方法＞
有機ＴＦＴアレイの構造は特に限定されないが、ボトムコンタクト型の有機ＴＦＴアレイが好ましい。有機ＴＦＴアレイがボトムコンタクト型である場合、バンク形成用の基板として、所定のパターンで形成された、ゲート電極と、ゲート電極を被覆するゲート絶縁膜とを表面に備える基板を用いることもできる。有機ＴＦＴアレイは、まず、上記の方法に従って、感光性樹脂組成物を用いて所定のパターンのバンクを形成した後に、バンクにより囲まれた領域内に有機ＴＦＴアレイ形成用のインクを注入して製造される。

【0196】

ゲート電極とゲート絶縁層とを備えない基板を用いてボトムコンタクト型の有機ＴＦＴアレイを形成する場合、まず、バンクにより囲まれた領域内に、金属ナノ粒子等の無機導電性材料や、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物等の有機導電性材料を含むインクを注入して、ゲート電極を形成する。所定の形状のゲート電極を形成しやすいことから、インクの注入方法としてはインクジェット法が好ましい。ゲート電極を形成した後、ゲート絶縁膜の材料を含むインクをバンクにより囲まれた領域内に注入し、ゲート絶縁膜を形成する。ゲート絶縁膜の好適な材料としては、ポリイミド樹脂等が挙げられる。

【0197】

次いで、上記の方法により、バンクにより囲まれた領域内にゲート電極とゲート絶縁膜とが形成された基板、又は、ゲート電極と、ゲート電極を被覆するゲート絶縁膜とを表面に備える基板上にバンクが形成された基板について、ゲート絶縁膜状にソース電極とドレイン電極とを形成する。ソース電極とドレイン電極とは、ゲート電極の形成に用いるインクと同様のインクを、ソース電極及びドレイン電極の形状に合わせて、バンクにより囲まれた領域内に注入することにより形成される。ソース電極とドレイン電極とを形成する際のインクの注入方法は、所定の形状の電極を形成しやすいことから、インクジェット法が好ましい。

【0198】

ソース電極とドレイン電極とを形成した後、バンクにより囲まれた領域内に有機半導体材料を含有するインクを、ソース電極とドレイン電極との間にインクが充填されるように注入して、有機半導体層を形成する。

【0199】

以上説明した方法により製造される光学素子を用いて、公知の方法に従って種々の表示装置が製造される。

【実施例】

【0200】

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【0201】

＜実施例１〜８、比較例１〜６＞
下記表１に示す各成分を混合し、固形分含有量が２４質量％となるように溶剤に溶解して感光性樹脂組成物を調製した。アルカリ可溶性樹脂として、後述する樹脂（Ａ−１）を用いた。また、光重合性モノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を用いた。

【0202】

実施例、及び比較例において、（Ｃ）成分である光重合開始剤として、下式の化合物を用いた。

【0203】

【化21】

【0204】

実施例、及び比較例において、（Ｄ）成分であるフッ素系樹脂としては、下記の単位を下記の比率で含むフッ素系樹脂を用いた。なお、下式において、各単位の右下の数字は、フッ素系樹脂における、各単位の含有量（質量％）を表す。

【0205】

【化22】

【0206】

実施例、及び比較例において、（Ｇ）成分である光吸収剤としては、１，５−ジヒドロキシナフタレンを用いた。

【0207】

実施例、及び比較例において、（Ｓ）成分である溶剤としては、３−メトキシブチルアセテート（ＭＡ）２０質量％と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＭ）３０質量％と、シクロヘキサノン（ＡＮ）５０質量％とからなる混合溶剤を用いた。

【0208】

実施例では（Ｅ）成分である式（１）で表される化合物として下記の化合物１〜６を用いた。また比較例では、（Ｅ）成分に相当する成分として、下記の比較化合物１〜５を用いた。表１では、化合物１〜６、及び比較化合物１〜５を添加剤化合物として記す。

【0209】

【化23】

【0210】

【化24】

【0211】

【表1】

【0212】

実施例で用いた、化合物１〜６は以下の方法に従って合成した。

【0213】

［化合物１の合成法］
３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸クロリド５．９０ｇ（３０ｍｍｏｌ）を５０ｍｌの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン４．５９ｍｌ（当量比１．１）、イミダゾール２．２５ｍｌ（当量比１．１）を加え、室温にて１時間撹拌した。水５０ｍｌ、飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液５０ｍｌ、及び１Ｎ塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物１（３．４１ｇ，１５ｍｍｏｌ）を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は５０％であった。

【0214】

［化合物２の合成法］
２−メチル−３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸クロリド６．３２ｇ（３０ｍｍｏｌ）を５０ｍｌの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン４．５９ｍｌ（当量比１．１）、イミダゾール２．２５ｍｌ（当量比１．１）を加え、室温にて１時間撹拌した。水５０ｍｌ、飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液５０ｍｌ、及び１Ｎ塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物２（３．６２ｇ，１５ｍｍｏｌ）を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は５０％であった。

【0215】

［化合物３の合成法］
３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸クロリド５．９０ｇ（３０ｍｍｏｌ）を５０ｍｌの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン４．５９ｍｌ（当量比１．１）、ジエチルアミン２．４１ｍｌ（当量比１．１）を加え、室温にて１時間撹拌した。水５０ｍｌ、飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液５０ｍｌ、及び１Ｎ塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物３（４．６５ｇ，２０ｍｍｏｌ）を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は６７％であった。

【0216】

［化合物４の合成法］
３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸クロリド５．９０ｇ（３０ｍｍｏｌ）を５０ｍｌの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン４．５９ｍｌ（当量比１．１）、ジイソプロピルアミン２．３５ｍｌ（当量比１．１）を加え、室温にて１時間撹拌した。水５０ｍｌ、飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液５０ｍｌ、及び１Ｎ塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物４（４．７０ｇ，１８ｍｍｏｌ）を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は６０％であった。

【0217】

［化合物５の合成法］
３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸クロリド５．９０ｇ（３０ｍｍｏｌ）を５０ｍｌの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン４．５９ｍｌ（当量比１．１）、アニリン３．０７ｍｌ（当量比１．１）を加え、室温にて１時間撹拌した。水５０ｍｌ、飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液５０ｍｌ、及び１Ｎ塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物５（６．３１ｇ，２５ｍｍｏｌ）を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は８３％であった。

【0218】

［化合物６の合成法］
３−（４−メトキシフェニル）アクリル酸クロリド５．９０ｇ（３０ｍｍｏｌ）を５０ｍｌの乾燥したエーテルに溶解し、トリエチルアミン４．５９ｍｌ（当量比１．１）、モルホリン２．２５ｍｌ（当量比１．１）を加え、室温にて１時間撹拌した。水５０ｍｌ、飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液５０ｍｌ、及び１Ｎ塩酸で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。ヘキサン−酢酸エチルを展開溶媒とし、シリカゲルを支持担体としてカラムクロマトグラフィにより精製を行い、対応する化合物６（３．４１ｇ，１５ｍｍｏｌ）を得た。アクリル酸クロリド基準の収率は５０％であった。

【0219】

また、上記樹脂（Ａ−１）の合成法は下記の通りである。
まず、５００ｍｌ四つ口フラスコ中に、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂（エポキシ当量２３５）２３５ｇ、テトラメチルアンモニウムクロライド１１０ｍｇ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール１００ｍｇ、及びアクリル酸７２．０ｇを仕込み、これに２５ｍｌ／分の速度で空気を吹き込みながら９０〜１００℃で加熱溶解した。次に、溶液が白濁した状態のまま徐々に昇温し、１２０℃に加熱して完全溶解させた。この際、溶液は次第に透明粘稠になったが、そのまま撹拌を継続した。この間、酸価を測定し、１．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満になるまで加熱撹拌を続けた。酸価が目標値に達するまで１２時間を要した。そして室温まで冷却し、無色透明で固体状の下記式（ａ−４）で表されるビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレートを得た。

【0220】

【化25】

【0221】

次いで、このようにして得られた上記のビスフェノールフルオレン型エポキシアクリレート３０７．０ｇに３−メトキシブチルアセテート６００ｇを加えて溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物８０．５ｇ及び臭化テトラエチルアンモニウム１ｇを混合し、徐々に昇温して１１０〜１１５℃で４時間反応させた。酸無水物基の消失を確認した後、１，２，３，６−テトラヒドロ無水フタル酸３８．０ｇを混合し、９０℃で６時間反応させ、樹脂（Ａ−１）を得た。酸無水物基の消失はＩＲスペクトルにより確認した。なお、この樹脂（Ａ−１）は、上記式（ａ−１）で表される樹脂に相当する。

【0222】

上記の成分を含む、実施例１〜８、及び比較例１〜６の感光性樹脂組成物について、以下の方法に従って、接触角、パターン形状（テーパー角、すそ形状）、及び画素弾きについて評価した。

【0223】

［接触角］
感光性樹脂組成物をガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）にスピン塗布し、９０℃にて１２０秒間加熱することにより、ガラス基板の表面に厚さ１．０μｍの塗布膜を形成させた。その後、ミラープロジェクションアライナー（製品名：ＴＭＥ−１５０ＲＴＯ、株式会社トプコン製）を使用し、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光させた。露光後の膜の表面にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）５０μＬを滴下し、ＤＲＯＰ ＭＡＳＴＥＲ−７００を用いて接触角を測定した。また、露光後の膜の表面に滴下する溶媒としてメトキシベンゼンを用い、溶媒としてＰＧＭＥＡを用いる場合と同様に接触角を測定した。接触角の測定結果を表２に示す。

【0224】

［パターン形状評価］
感光性樹脂組成物をガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）にスピン塗布し、９０℃にて１２０秒間加熱することにより、ガラス基板の表面に厚さ１．０μｍの塗布膜を形成させた。その後、ミラープロジェクションアライナー（製品名：ＴＭＥ−１５０ＲＴＯ、株式会社トプコン製）を使用し、ネガ型マスク（幅１０μｍのラインアンドスペースパターン）を介して、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光させた。露光後の膜を、２６℃の０．０４質量％ＫＯＨ水溶液で５０秒間現像後、２３０℃にて３０分間焼成処理を行い、走査電子顕微鏡にてパターンと基板との間の接合角度（テーパー角）を測定した。測定されたテーパー角を表２に示す。また、走査電子顕微鏡により、パターンの断面形状を観察し、パターンのすそ形状について以下の基順に基づき評価した。すそ形状の評価結果を表２に示す。
◎：すそ引きが観察されない。
○：わずかにすそ引きが観察される。
×：顕著なすそ引きが観察される。

【0225】

［画素弾き評価］
感光性樹脂組成物をガラス基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ）にスピン塗布し、９０℃にて１２０秒間加熱することにより、ガラス基板の表面に厚さ１．０μｍの塗布膜を形成させた。その後、ミラープロジェクションアライナー（製品名：ＴＭＥ−１５０ＲＴＯ、株式会社トプコン製）を使用し、ネガ型マスク（幅１０μｍ、２００μｍ四方のマトリックスパターン）を介して、露光量１００ｍＪ／ｃｍ^２で露光させた。露光後の膜を、２６℃の０．０４質量％ＫＯＨ水溶液で５０秒間現像後、２３０℃にて３０分間焼成処理を行い、マトリックスパターンを形成した。
マトリックスパターンが形成されたガラス基板上にメトキシベンゼンを滴下した後に、マトリックス内部を走査電子顕微鏡により観察した。次いで、走査電子顕微鏡画像から、マトリックス内部のメトキシベンゼンが塗布されていない部分（弾き部）の面積（μｍ^２）を測定した。弾き部の面積（μｍ^２）のマトリックス内部面積（２００×２００μｍ^２）に対する比率（％）を算出し、この比率（％）に基づき、画素弾きの程度を評価した。画素弾きの評価基準は以下の通りである。画素弾きの評価結果を表２に示す。
◎：弾き部の面積のマトリックス内部面積に対する比率が０％以上５％未満である。
○：弾き部の面積のマトリックス内部面積に対する比率が５％以上２０％未満である。
×：弾き部の面積のマトリックス内部面積に対する比率が２０％以上である。

【0226】

【表2】

【0227】

実施例１〜８によれば、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性モノマーと、光重合開始剤と、フッ素系樹脂とを含み、且つ、前述の式（１）で表される化合物を含む感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成する場合、すそ引きの発生が抑制され、これにともない、パターンと基板との間の接合角度であるテーパー角が３０°以上となることが分かる。また、表２によれば、実施例１〜８の感光性樹脂組成物を用いてバンクを形成する場合、すそ引きが抑制されるため、バンクに囲まれた画素内でインクが弾かれる画素弾きの発生が抑制されることが分かる。

【0228】

他方、式（１）で表される化合物を含まないか、式（１）とは異なる構造の化合物を含む、比較例１〜６の感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成する場合、著しいすそ引きが生じ、パターンと基板との間の接合角度であるテーパー角が３０°未満の鋭角となることが分かる。また、表２によれば、比較例１〜６の感光性樹脂組成物を用いてバンクを形成する場合、著しいすそ引きにより、バンクに囲まれた画素内でインクが弾かれる画素弾きが発生しやすいことが分かる。