特許 5932867 基板をコーティングするための装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5932867

(24)【登録日】2016年5月13日

(45)【発行日】2016年6月8日

(54)【発明の名称】基板をコーティングするための装置

(51)【国際特許分類】

   C23C 14/24 20060101AFI20160526BHJP

   H01M 4/134 20100101ALI20160526BHJP

   H01M 4/1395 20100101ALI20160526BHJP

【ＦＩ】

   C23C14/24 A

   H01M4/134

   H01M4/1395

【請求項の数】14

【全頁数】10

(21)【出願番号】特願2014-62914(P2014-62914)

(22)【出願日】2014年3月26日

(62)【分割の表示】特願2011-510916(P2011-510916)の分割

【原出願日】2009年4月8日

(65)【公開番号】特開2014-169501(P2014-169501A)

(43)【公開日】2014年9月18日

【審査請求日】2014年3月26日

(31)【優先権主張番号】08009926.0

(32)【優先日】2008年5月30日

(33)【優先権主張国】EP

(31)【優先権主張番号】12/130,118

(32)【優先日】2008年5月30日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】390040660

【氏名又は名称】アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

【氏名又は名称原語表記】ＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ

(74)【代理人】

【識別番号】100101502

【弁理士】

【氏名又は名称】安齋 嘉章

(72)【発明者】

【氏名】バンゲルト シュテファン

(72)【発明者】

【氏名】ディエゲス‐カンポ ホセ マニュエル

(72)【発明者】

【氏名】コーニグ ミヒャエル

(72)【発明者】

【氏名】クリシュナ ネティ エム

(72)【発明者】

【氏名】クワック ビュング スング レオ

【審査官】 伊藤 光貴

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００５−２８１８０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００７−５００７９４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−２７４３７０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−１７９７６４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００５／０２１７５８４（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 米国特許出願公開第２００４／０２５５８５７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２００７−２２７０８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−０８８３２２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ２３Ｃ １４／００−１４／５８

Ｈ０１Ｍ ４／１３４

Ｈ０１Ｍ ４／１３９５

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

入口（５）を介して蒸発器るつぼ（７）と接続可能な蒸気分配器（３）による基板（４）のコーティングのための装置であって、
少なくとも１つの第１のバルブ（１３）が前記蒸発器るつぼ（７）と前記入口（５）の間に配置され、真空バルブ（１１）によって排気又は通気することができるるつぼチャンバ（１２）内に前記蒸発器るつぼ（７）が位置し、
前記るつぼチャンバ（１２）に接続された第２のバルブ（２７）が更に提供され、
前記蒸発器るつぼ（７）と前記入口（５）の間に提供される前記第１のバルブ（１３）は、前記入口（５）に接続され、
前記第１のバルブ（１３）及び前記第２のバルブ（２７）は、互いに接続されるように使用され、
前記第２のバルブ（２７）は前記蒸発器るつぼ（７）及び前記るつぼチャンバ（１２）と共に移動可能である装置。

【請求項2】

前記第１のバルブ及び前記第２のバルブは、互いに真空気密に接続されるように使用される請求項１記載の装置。

【請求項3】

前記蒸発器るつぼ（７）は前記入口（５）へ向かって及び前記入口（５）から離れる方向に移動可能である請求項１又は２記載の装置。

【請求項4】

前記蒸発器るつぼ（７）は、前記入口（５）を介して前記蒸発器るつぼ（７）を前記蒸気分配器（３）に接続するための前記第１及び第２のバルブ（１３、２７）を介して前記入口（５）へ向かって及び前記入口（５）から離れる方向に移動可能である請求項１〜３のいずれか１項記載の装置。

【請求項5】

前記入口（５）は、前記るつぼ（７）の上部（１８）内へ係合可能な接続フィッティング（１４）を含む請求項４記載の装置。

【請求項6】

前記第２のバルブ（２７）は前記蒸発器るつぼ（７）及び前記るつぼチャンバ（１２）と共に移動可能であり、前記移動はレール（３０）に沿って起こる請求項１〜５のいずれか１項記載の装置。

【請求項7】

前記第２のバルブは、スペーサリング（２５）上に配置されている請求項１〜６のいずれか１項記載の装置。

【請求項8】

前記第２のバルブ（２７）が閉じるとき、前記スペーサリング（２５）上に前記るつぼ（７）を固定する施錠機構が提供される請求項７記載の装置。

【請求項9】

前記基板（４）は真空チャンバ内に位置し、前記蒸発器るつぼは前記真空チャンバの外側に位置する請求項１〜８のいずれか１項記載の装置。

【請求項10】

第１のバルブ（１３）に接続された入口（５）に接続された蒸気分配器（３）を含む真空チャンバと、第２のバルブ（２７）に接続されたるつぼチャンバ（１２）を含む装置によってコーティングされた基板を製造するための方法であって、
前記るつぼチャンバ（１２）内につるぼ（７）を提供する工程と、
前記第１のバルブ（１３）と前記第２のバルブ（２７）を互いに接続する工程と、
前記第１のバルブ（１３）と前記第２のバルブ（２７）を開く工程と、
前記入口（５）を介して前記蒸気分配器（３）を前記るつぼ（７）に接続する工程と、
前記第１のバルブ（１３）と前記第２のバルブ（２７）を閉じる工程と、
前記第２のバルブ（２７）を前記蒸発器るつぼ（７）及び前記るつぼチャンバ（１２）と共に移動させる工程を含む方法。

【請求項11】

前記入口（５）を介して前記蒸気分配器（３）を前記るつぼ（７）に接続する工程は、前記るつぼ（７）を前記第１及び第２のバルブ（１３、２７）を介して前記入口（５）へ向かって移動させる工程を含む請求項１０記載の方法。

【請求項12】

前記第１及び第２のバルブ（１３、２７）を介して前記るつぼ（７）を前記入口（５）から離れる方向に移動させる工程を含む請求項１１記載の方法。

【請求項13】

前記第２のバルブ（２７）を前記蒸発器るつぼ（７）及び前記るつぼチャンバ（１２）と共に移動させる工程は、前記るつぼチャンバ（１２）を前記第２のバルブ（２７）及び前記るつぼ（７）と共に前記真空チャンバから離れた位置に移動させる工程を含む請求項１０〜１２のいずれか１項記載の方法。

【請求項14】

前記るつぼはリチウムを含み、前記方法は、
前記真空チャンバ内で前記蒸気分配器（３）を介して基板（４）をリチウムでコーティングする工程を含む請求項１０〜１３のいずれか１項記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【背景技術】

【0001】

本発明は請求項１の前提項に係る基板をコーティングするための装置（アレンジメント
）に関する。

【0002】

硫化カドミウム又は硫化亜鉛カドミウムで基板をコーティングする、又はＯＬＥＤ物質
で基板をコーティングするための装置は既知である（ＵＳ４，４０１，０５２、ＤＥ１０
２ ２４ ９０８ Ａ１、ＥＰ１ ３５７ ２００ Ａ１）。ここで、基板をコーティン
グする材料は蒸発器で蒸発される。

【0003】

しかしながら、これらの装置によって、アルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の群
に属する材料は、全く蒸発しない。なぜなら、これらの金属は非常に反応性が高く、ガラ
ス及び水と化合物を形成するからである。アルカリ金属及びアルカリ土類金属の中でも、
リチウムは単に非常にゆっくり放電する電池及びアキュムレータの製造に対しては適して
いるので、特に興味深い。

【0004】

現代のリチウム電池は１９９１年に初めて市場に登場した。それらにおいては、グラフ
ァイト（Ｌｉ_ｘＣ_６）のアノードと層状酸化物（Ｌｉ_１−ｘＴ^ＭＯ_２）のカソードの間で
Ｌｉ^＋イオンを交換し、Ｔ^Ｍは遷移金属−コバルト、ニッケル、時にはマンガンである。
３．８Ｖの平均電圧では、エネルギー密度は約１８０Ｗｈｋｇ^−１であり、これはかなり
古い鉛蓄電池のおよそ５倍である。

【0005】

Ｌｉ^＋電池の分野における最新の開発は、ナノ材料の使用を含んでいる。さらに、酸素
カソードとリチウムアノードを含むリチウム酸素電池が研究されている（Ｍ．Ａｒｍａｎ
ｄ ａｎｄ Ｊ．−Ｍ．Ｔａｒａｓｃｏｎ： Ｂｕｉｌｄｉｎｇ Ｂｅｔｔｅｒ Ｂａｔ
ｔｅｒｉｅｓ，Ｎａｔｕｒｅ，Ｖｏｌ．４５１，７ Ｆｅｂｒ．２００８，ｐｐ．６５２
−６５７）。

【0006】

また、リチウム電池は薄層電池として生産されている（ＷＯ０２／０９９９１０Ａ１、
１頁、１７−２０行）。薄層の成膜はスパッタリングで行われている。イオンのスパッタ
リングの間に、例えばオルト燐酸リチウムが基板上に堆積する。反応性スパッタリングを
介して、Ｌｉ_ｘＰ_ｙＯＮ_ｚの電解質層を成膜できる。

【0007】

また、ＰＥＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、プラズマＣＶＤ）によって基板上にＳｉＯ_２及びリチウムの薄
層を成膜することも知られている（ＵＳ ６ １７７ １４２ Ｂ１）。

【0008】

さらに、Ｌｉ−Ｃｏ−Ｏで基板をコーティングすることが知られており、これは電子ビ
ーム蒸発器が使用されている（ＪＰ２００３−２３４１００）。

【0009】

基板上にリチウム又はリチウム合金の薄層を作るための別の既知の装置においては、る
つぼ中に配置されたリチウムが真空下で蒸発する（ＪＰ２００２−２０６１６０）。

【0010】

最後に、真空又は減圧された状態が形成されて、昇華又は蒸発した膜形成材料が基板上
の膜内に形成される膜形成チャンバを有する膜形成装置内で使用される膜形成源は既知で
ある（ＥＰ１ ５８４ ７０５Ａ）。この膜形成源はさらに、基板の膜形成面に向かって
膜形成材料を放電するための膜形成チャンバ内に配置された放電出口と、膜形成チャンバ
の外側に配置された材料収納部と、膜形成材料を含む材料容器を含んでいる。膜形成源に
は、気密性が高く放電出口を材料収納部に連通させている放電通路も提供されている。

【0011】

本発明は、コーティング材料が化学的に反応性の高いアルカリ金属及びアルカリ土類金
属の群の要素である可能性のある基板をもコーティングするための装置を提供するという
問題を対象とする。

【発明の開示】

【0012】

この問題は請求項１の構成によって解決される。

【0013】

本発明で得られる利点は、特にリスク無しで容易に蒸発器るつぼを補充又は交換できる
ことを含む。これは、例えばリチウムのような非常に反応性の高い材料が蒸発する場合は
特に重要であり、これらは接触してはいけなく、通常の大気、酸素、水にさらしてもいけ
ないからである。

【0014】

従って、本発明は蒸気分配器による基板のコーティングのための装置に関する。この蒸
気分配器は供給システムを介して蒸発器るつぼに接続されている。るつぼと供給システム
の間には、少なくとも１つのバルブが配置されている。蒸発器るつぼは、ガス供給源及び
真空ポンプによって真空バルブを介して排気又は注入可能なチャンバ内に配置されている
。

【図面の簡単な説明】

【0015】

本発明の実施形態の例が図に示されており、以下に更なる詳細を記載する。図面は、以
下について示している。

【0016】

【図1】分離バルブが閉じた状態の蒸気供給システムである。

【図2】分離バルブが開いた状態のＰＩＤコントローラを有する図１による蒸気供給システムである。

【図3】２つの分離バルブを有する蒸気供給システムである。

【図4】分離バルブが閉じており、蒸発器るつぼが横に移動している図３による蒸気供給システムである。

【発明を実施するための最良の形態】

【0017】

図１は真空チャンバ用蒸気供給システム１を示している。真空チャンバの中で、チャン
バ壁２だけは明らかである。ＤＥ１０２ ２４ ９０８Ａ１の図１〜３において、このよ
うな真空チャンバは詳細に示されている。

【0018】

蒸気供給システム１は、垂直に指向される蒸発器チューブ３を含み、その反対側にコー
ティングされる基板４が配置されている。数本の直線的に垂直に配置された蒸発器ノズル
を備えた蒸発器チューブ３は、蒸発器チューブ３に対して直角に向けられた入口チューブ
５に接続される。従って、この蒸発器チューブ３は蒸気分配器として機能する。蒸発器チ
ューブ３に平行に、入口チューブ５に直角に、筒状の蒸発器るつぼ７が提供され、これは
るつぼハウジング８内に位置している。例えばリチウムのような反応性の高い物質が蒸発
するならば、るつぼ７は例えばステンレス鋼、チタン又はモリブデンで作られる。蒸発器
るつぼ７の下方には、ピストン１０を有するシリンダ９が位置している。図１ではその下
位にある蒸発器るつぼ７は、ピストン１０によって上下動可能である。真空バルブ１１は
ピストン１０に対して横方向に提供されており、それを介して、るつぼチャンバ１２は排
気又は例えば保護ガスを注入できる。

【0019】

しかしながら、るつぼ７だけが反応性の高い物質にさらされるのではないので、蒸気供
給システム全体がこれらの反応性の高い物質に対して不活性な材料で作られなければなら
ないのは明らかである。

【0020】

このるつぼチャンバ１２の中に、るつぼチャンバ１２の安定化に貢献するリニアガイド
３１が位置している。このリニアガイド３１上には、蒸発器るつぼ７に接続された案内要
素３２が配置されている。リニアガイド３１に沿って案内要素３２を移動することによっ
て、蒸発器るつぼ７もリニアガイド３１に沿って、すなわち矢印３３及び３４の向きに移
動する。

【0021】

閉じた状態で図１に示される分離バルブ１３の補助によって、るつぼ７と共にるつぼチ
ャンバ１２は入口チューブ５から分離することができる。この分離バルブ１３はスペーサ
リング２５上に配置される。入口チューブ５は下方へ指向された接続フィッティング１４
を含んでいる。図１には更に、加熱ジャケット１５を見ることができる。接続フィッティ
ング１４は、ピストン１７の末端部１６によって閉じることができる。更に、この接続フ
ィッティング１４は、蒸発器るつぼ７の上部１８が締結可能な帽形部１９を含む。ピスト
ン１７は、ピストン１７を移動可能にしているシリンダと接続している。シリンダ３５は
空圧制御シリンダであることが可能である。

【0022】

更にピストン１０上に配置されている把持装置３６が、るつぼチャンバ１２の内部にあ
ることは明らかである。熱電対４４は、耐真空パワーフィードスルー５０から把持装置３
６の周りをらせん状に巻かれており、るつぼ７の底部に位置する刻み目５１で終わる。
熱電対４４によって、蒸発器るつぼ７の底部の温度を測定可能である。一方をパワーフィ
ードスルー５０に、他方を把持装置３６に固定された熱電対４４のらせん状の巻線によっ
て、下位から高位置までるつぼ７を必要なだけ持ち上げることが可能である。これは図２
で示されている。それに加えて、ピストン１０によって熱電対４４は矢印３３及び３４の
向きにそれぞれ動かすことができる。

【0023】

図１においてグローブボックス４０の壁６も明らかであり、それは蒸発器るつぼ７及び
蒸発器チャンバ１２を取り囲んでいる。これによって、保護ガスのもとで蒸発器るつぼ７
を交換したり、又は材料でそれを満たすことが可能となる。例えば、保護ガスとしてアル
ゴンを用いることが可能である。図１はグローブボックス４０を単に部分的及び図式的に
示している。

【0024】

図１はさらに、蒸発器るつぼ７内の圧力を測定するための圧力計ヘッド３８を示してい
る。蒸発器るつぼ７内の圧力が目標値に到達すると、図１に示されていない制御器によっ
て分離バルブ１３は開けられるか又は閉じられる。

【0025】

図１にセグメントとしてのみ示されている冷却手段ポート３７も明らかである。この冷
却手段ポート３７は、例えばＨ_２Ｏのような冷却手段用の、図１には図示されない供給ユ
ニットに接続されている。もしも必要であるならば、ハウジング４１をこの冷却手段で冷
却する。図１に図示されない要素、例えばゴム製の配管を介して冷却手段ポート３７は、
供給ユニットに接続することができる。もしも冷却手段がＨ_２Ｏであるならば、供給ユニ
ットは従来の水接続が可能である。

【0026】

図２は図１と同じ装置を示している。しかしながら、蒸発器るつぼ７がピストン１０に
よって持ち上げられ、厳密に言えば蒸発器るつぼ７の最上部１８が接続フィッティング１
４の最下部１９に挿入されるだけの距離を持ち上げられる。接続フィッティング１４の下
部が帽形形状を満たしている一方、蒸発器るつぼ７の上部１８はここで球面に形成されて
いる。ここで分離バルブ１３が開けられる。

【0027】

蒸発器るつぼ７を取り囲むるつぼ加熱システムが２０に示される。このるつぼ加熱シス
テム２０はＰＩＤコントローラ２１に接続されており、次いでレート取得器２２に接続さ
れている。このレート取得器２２は、例えば振動水晶又は発光分光器のような測定装置２
３を備えることが可能である。この測定装置２３は蒸発器チューブ３から基板４に達する
材料の蒸発速度を取得する。このため蒸発器チューブ３には、基板４上のコーティングレ
ートに比例する速度信号を生成する特殊ノズル２４が提供される。このノズル２４を通し
て、蒸気が測定装置２３に流れる。このように、るつぼ加熱システム２０はコーティング
レートの関数として調整可能である。ＰＩＤコントローラ２１に公称値を設定することも
できる。ＰＩＤコントローラの代わりに、別のコントローラを提供することもできる。Ｐ
ＩＤコントローラはＰＤコントローラとＩコントローラの並列回路を含むコントローラの
一般的な基本形を含んでおり、それは外乱の早期検知、調整逸脱の迅速な修正と削除とい
った特性を兼ね備えている。もしも調整されたプロセスがデッドタイムを含んでいるなら
ば、そのＤ成分のためＰＩＤコントローラを利用することはできない。

【0028】

垂直に直線的な配置された穴を通して蒸発器チューブ３を出る蒸気は、矢印２６によっ
て象徴的に示されている。穴は、高い蒸発速度と均一なコーティングが達成されるように
レイアウトされている。例えば、それらは１ｍｍ〜４ｍｍの直径と、５ｍｍ〜３０ｍｍの
距離を有している。基板４のマージン領域内における層の厚みの減少を補正するために、
穴又はノズル穴をここに互いにより近接して、例えば互いに半分の距離で配置することが
可能である。また、円筒穴の代わりに、細長い穴又は他の形状の開口も考えられる。

【0029】

図３は図１と同じ装置を示しているが、２つの分離バルブ１３と２７は両方とも閉じて
いる。保護ガスのもと、２つの分離バルブ１３と２７によって、蒸発器るつぼ７をより良
好に交換することができる。上側の分離バルブ１３はコーティングチャンバ２８を大気圧
２９から分離し、一方、下側の分離バルブ２７は保護ガスで充満させることが可能なるつ
ぼチャンバ８を大気圧２９から分離する。この分離バルブ２７はスペーサリング２５上に
配置される。

【0030】

分離バルブ２７のハウジングは耐真空性を持つように作られなければならないが、バル
ブのゲートはガスに対する耐拡散性を持つことが必要とされるだけである。るつぼ７を大
気圧へ戻した後は周囲の空気に対して圧力差が存在しないので、バルブ２７のゲートはい
かなる真空力も吸収する必要がない。

【0031】

図３の表示の中で、蒸発器るつぼ７はその下位に位置している。真空バルブ１１を介し
て、るつぼチャンバ１２は、別々に排気したり又は例えば保護ガスを注入したりできる。
真空バルブ１１のガス供給源及び真空ポンプへの接続は示されていない。真空ポンプのみ
ならずガス供給源は、例えばＴ型部品、及びバルブ１１に通じるフレキシブルな波形の配
管をもつ適切に配置されたバルブを介して任意に接続することが可能である。るつぼチャ
ンバ１２から蒸発器るつぼ７を取り除くために、チャンバは大気へ戻される。蒸発器るつ
ぼ７はグローブボックス４０内にそれぞれ補充されるか又は交換されることが可能である
。ここでは、グローブボックス４０は例えばアルゴンのような保護ガスのもとにある。

【0032】

図４に示された中で、蒸発器るつぼ７はレール３０に沿って蒸発チャンバから離れた位
置にもたらされる。これは矢印３９の向きに蒸発器チャンバ１２を移動させることによっ
て起きる。この位置で蒸発器るつぼ７が交換又は補充されることが望ましい。ここで上側
の分離バルブ１３は、蒸発器チャンバが真空下にあり続けるように閉じられている。これ
によって、真空は破られない。

【0033】

るつぼ７の交換又はそれの補充は、バルブ２７が開いた状態でのみ可能であることが理
解される。したがって、蒸発器るつぼ７は保護ガスで満たされたグローブボックス４０に
よって取り囲まれなければならない。

【0034】

図４に示されるように、蒸発器るつぼ７はその下位に位置している。真空バルブ１１を
介して、真空チャンバとは独立して、るつぼチャンバ１２は排気又は注入が可能である。
るつぼチャンバ１２と共に蒸発器るつぼ７は、グローブボックス４０の中に導入される
。ここで、蒸発器るつぼ７は、取り除かれて新しい蒸発器るつぼに取り替えられるか、又
は補充される。

【0035】

蒸発材料でるつぼ７を満たした後、分離バルブ２７は閉じられ、るつぼチャンバ１２は
排気される。次に、るつぼチャンバ１２と蒸発器るつぼ７は、レール３０に沿って矢印４
２の向きに移動することによって、それらの後方位置に移動して戻る。分離バルブ１３と
２７が互いに耐真空性を保って接続され、るつぼチャンバ１２が排気された後に、分離バ
ルブ１３、２７を開けることができる。その後、蒸発器るつぼ７は、矢印３３の向きに移
動することによって上方位置にもたらされる。

【0036】

図示されない更なる実施形態の例によると、グローブボックス４０はコーティング設備
から離れて間隔を置いて配置することが可能である。この場合、保護ガスのもとにあるる
つぼ７は、スペーサリング２５及び図示されない適当な施錠機構と共に、図４に示される
引き出し位置内で閉じられたバルブ２７によって、るつぼチャンバ１２から取り除かれ、
つまりレール３０から持ち上げられる。この施錠機構はスペーサリング２５上に、又はス
ペーサリング２５上に固定されたフランジの上にるつぼ７を固定する。このように、離れ
て位置するグローブボックス４０に閉じた状態のるつぼ７を搬送することができる。ここ
で、るつぼ７は任意に掃除して、再び補充し、バルブ２７で閉じることができる。

【0037】

上述のプロセスは、ガラス基板のコーティングのために利用可能である。しかしながら
、それらを利用して、直径２００ｍｍ又は３００ｍｍのシリコンウェハをコーティングす
ることもでき、基板キャリアは１枚又は数枚のウェハを備えることができる。しかしなが
ら、基板キャリアは図４に図示されていない。キャリア上に配置される全ての基板を均一
にコーティングするためのコーティング可能な基板の必要高さｈは、蒸発器チューブ３の
長さを介して適合させることができる。

【0038】

更に、人工材料又は金属でできたフレキシブルな基板も、例えば、ＥＰ１ ５８９ １
３０ Ａ１の図３に示されるように、設備内に利用可能である。この既知の設備において
、蒸気分配器チューブと蒸気出口ノズルのみが、敷板に水平に及び平行に配置される必要
がある。

【0039】

ＥＰ１ ３５７ ２００Ａ１に記載されているように、１つのるつぼの代わりに数個の
るつぼが提供され、相互接続されていてもよいことが理解される。

【0040】

ここに記載された実施形態によって達成された結果と実質的に同じ結果を達成するため
に、多様な変形形態及び代替形態が本発明とその利用及びその構成においてなされてもよ
いことを当業者は容易に認めることができる。従って、本発明を開示された例示的な形態
に制限することは意図していない。特許請求の範囲に表現されているように、多くの変形
形態、修正形態、及び代替構造が、開示された本発明の範囲及び精神に含まれる。

【符号の説明】

【0041】

１ 蒸気供給システム
２ 壁
３ 蒸発器チューブ
４ 基板
５ 入口チューブ
６ 壁
７ 蒸発器るつぼ
８ るつぼハウジング
９ シリンダ
１０ ピストン
１１ 真空バルブ
１２ るつぼチャンバ
１３ 分離バルブ
１４ 接続フィッティング
１５ 加熱ジャケット
１６ 端部
１７ ピストン
１８ 部位
１９ 部位
２０ るつぼ加熱システム
２１ ＰＩＤコントローラ
２２ レート取得器
２３ 測定装置
２４ ノズル
２５ スペーサリング
２６ 矢印
２７ 分離バルブ
２８ コーティングチャンバ
２９ 大気圧
３０ レール
３１ リニアガイド
３２ 案内要素
３３ 矢印
３４ 矢印
３５ シリンダ
３６ 把持装置
３７ 冷却手段ポート
３８ 圧力計ヘッド
３９ 矢印
４０ グローブボックス
４１ ハウジング
４２ 矢印
４４ 熱電対
５０ フィードスルー
５１ 刻み目

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】