特許 5933334 レジストパターン形成方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5933334

(24)【登録日】2016年5月13日

(45)【発行日】2016年6月8日

(54)【発明の名称】レジストパターン形成方法

(51)【国際特許分類】

   G03F 7/038 20060101AFI20160526BHJP

   G03F 7/004 20060101ALI20160526BHJP

   G03F 7/32 20060101ALI20160526BHJP

   G03F 7/039 20060101ALI20160526BHJP

【ＦＩ】

   G03F7/038 601

   G03F7/004 503B

   G03F7/32

   G03F7/039 601

【請求項の数】4

【全頁数】74

(21)【出願番号】特願2012-112721(P2012-112721)

(22)【出願日】2012年5月16日

(65)【公開番号】特開2013-238787(P2013-238787A)

(43)【公開日】2013年11月28日

【審査請求日】2015年2月25日

(73)【特許権者】

【識別番号】000220239

【氏名又は名称】東京応化工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100106909

【弁理士】

【氏名又は名称】棚井 澄雄

(74)【代理人】

【識別番号】100064908

【弁理士】

【氏名又は名称】志賀 正武

(74)【代理人】

【識別番号】100094400

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 三義

(74)【代理人】

【識別番号】100126882

【弁理士】

【氏名又は名称】五十嵐 光永

(72)【発明者】

【氏名】塩野 大寿

(72)【発明者】

【氏名】土屋 純一

(72)【発明者】

【氏名】石塚 啓太

【審査官】 石附 直弥

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２００８／０１５８７６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１３−０６８７７７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０３Ｆ７／００４−７／１８

Ｃ０８Ｃ１９／００−１９／４４

Ｃ０８Ｆ６／００−２４６／００

Ｃ０８Ｆ３０１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

塩基の存在下で求核剤の付加と脱離を生じる極性変換基で保護されたアルコール性水酸基を有し、該極性変換基の脱離により極性が増大する樹脂成分（Ｘ）、露光により塩基を発生する塩基発生剤成分（Ｙ）、及び求核剤（Ｎ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜を露光する工程と、
前記レジスト膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いて現像してネガ型のレジストパターンを形成する工程と、
を含むレジストパターン形成方法。

【請求項2】

前記極性変換基が下記一般式（Ｉ）で表される、請求項１に記載のレジストパターン形成方法。

【化1】

［式中、Ｒ^１はフッ素原子を有する有機基である。］

【請求項3】

前記求核剤（Ｎ）が、１級の多価アルコールである、請求項１または２に記載のレジストパターン形成方法。

【請求項4】

前記塩基発生剤成分（Ｙ）が、カルバメート基を含む塩基発生剤成分を含有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のレジストパターン形成方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物に関する。

【背景技術】

【0002】

基板の上に微細なパターンを形成し、これをマスクとしてエッチングを行うことによって該パターンの下層を加工する技術（パターン形成技術）は、半導体素子や液晶表示素子の製造において広く採用されている。微細パターンは、通常、有機材料からなり、例えばリソグラフィー法やナノインプリント法等の技術によって形成される。たとえばリソグラフィー法においては、基板等の支持体の上に、樹脂等の基材成分を含むレジスト材料を用いてレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対し、光、電子線等の放射線にて選択的露光を行い、現像処理を施すことにより、前記レジスト膜に所定形状のレジストパターンを形成する工程が行われる。そして、上記レジストパターンをマスクとして、基板をエッチングにより加工する工程を経て半導体素子等が製造される。
前記レジスト材料はポジ型とネガ型とに分けられ、露光した部分の現像液に対する溶解性が増大するレジスト材料をポジ型、露光した部分の現像液に対する溶解性が低下するレジスト材料をネガ型という。
前記現像液としては、通常、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液等のアルカリ水溶液（アルカリ現像液）が用いられている。また、芳香族系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アミド系溶剤、アルコール系溶剤等の有機溶剤を現像液として用いることも行われている（たとえば特許文献１、２参照）。

【0003】

近年、リソグラフィー技術の進歩により急速にパターンの微細化が進んでいる。
微細化の手法としては、一般に、露光光源の短波長化（高エネルギー化）が行われている。具体的には、従来は、ｇ線、ｉ線に代表される紫外線が用いられていたが、現在では、ＫｒＦエキシマレーザーや、ＡｒＦエキシマレーザーを用いた半導体素子の量産が開始されている。また、これらエキシマレーザーより短波長（高エネルギー）のＥＢ（電子線）、ＥＵＶ（極紫外線）やＸ線などについても検討が行われている。
露光光源の短波長化に伴い、レジスト材料には、露光光源に対する感度、微細な寸法のパターンを再現できる解像性等のリソグラフィー特性の向上が求められる。このような要求を満たすレジスト材料として化学増幅型レジストが知られている。
化学増幅型レジストとしては、一般的に、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、露光により酸を発生する酸発生剤成分とを含有する組成物が用いられている。たとえば現像液がアルカリ現像液（アルカリ現像プロセス）の場合、基材成分として、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大するものが用いられている。
従来、化学増幅型レジスト組成物の基材成分としては主に樹脂（ベース樹脂）が用いられている。現在、ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー等において使用される化学増幅型レジスト組成物のベース樹脂としては、１９３ｎｍ付近における透明性に優れることから、（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する樹脂（アクリル系樹脂）が主流である。
ここで、「（メタ）アクリル酸」とは、α位に水素原子が結合したアクリル酸と、α位にメチル基が結合したメタクリル酸の一方あるいは両方を意味する。「（メタ）アクリル酸エステル」とは、α位に水素原子が結合したアクリル酸エステルと、α位にメチル基が結合したメタクリル酸エステルの一方あるいは両方を意味する。「（メタ）アクリレート」とは、α位に水素原子が結合したアクリレートと、α位にメチル基が結合したメタクリレートの一方あるいは両方を意味する。
ベース樹脂は、一般的に、リソグラフィー特性等の向上のために、複数の構成単位を含有している。たとえば、酸発生剤から発生した酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる酸分解性基を有する構成単位とともに、ラクトン構造を有する構成単位、水酸基等の極性基を有する構成単位等が用いられている（たとえば特許文献３参照）。ベース樹脂がアクリル系樹脂である場合、前記酸分解性基としては、一般的に、（メタ）アクリル酸等におけるカルボキシ基を第三級アルキル基、アセタール基等の酸解離性基で保護したものが用いられている。

【0004】

アルカリ現像液とポジ型の化学増幅型レジスト組成物、つまり露光によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する化学増幅型レジスト組成物とを組み合わせたポジ型現像プロセスでは、レジスト膜の露光部がアルカリ現像液により溶解、除去されてレジストパターンが形成される。このポジ型現像プロセスは、アルカリ現像液とネガ型の化学増幅型レジスト組成物とを組み合わせたネガ型現像プロセスに比べて、フォトマスクの構造を単純にできる、像形成のために充分なコントラストが得やすい、形成されるパターンの特性が優れる等の利点がある。そのため、現在、微細なレジストパターンの形成には、アルカリ現像液とポジ型の化学増幅型レジスト組成物とを組み合わせたポジ型現像プロセスが主に用いられる傾向がある。
しかし、アルカリ現像液とポジ型の化学増幅型レジスト組成物とを組み合わせたポジ型現像プロセスでは、トレンチパターン（孤立スペースパターン）やホールパターンを形成する場合、ラインパターンやドットパターンを形成する場合に比べて、弱い光入射強度下でのパターン形成を強いられ、露光部および未露光部にそれぞれ入射する光の強度のコントラストも小さい。そのため、解像力等のパターン形成能に制限が生じやすく、高解像のレジストパターンを形成することが難しい傾向がある。
そのため、トレンチパターンやホールパターンの形成には、ネガ型現像プロセスが有利と考えられている。ネガ型現像プロセスとしては、アルカリ現像液と露光によりアルカリ現像液に対する溶解性が低下する化学増幅型レジスト組成物とを組み合わせる方法と、有機溶剤を含有する現像液（以下、有機系現像液ということがある。）と露光により有機系現像液に対する溶解性が低下する化学増幅型レジスト組成物とを組み合わせる方法とがある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平０６−１９４８４７号公報

【特許文献2】特開２００９−０２５７２３号公報

【特許文献3】特開２００３−２４１３８５号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、従来のネガ型現像プロセスは、未だ改善すべき問題がある。例えば、欠陥の問題が考えられる。従来の化学増幅型レジスト組成物における酸発生剤成分としては、オニウム塩系のものが汎用されているが、オニウム塩系の酸発生剤はイオン性であり極性が高い。そのため有機系現像液に対する溶解性が低く、現像時の析出リスクが懸念される。
今後、リソグラフィー技術のさらなる進歩、応用分野の拡大等が予想されるなか、ネガ型現像プロセスについても、新規な機構によるものが求められる。

【0007】

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、有機溶剤を含有する現像液を用いてネガ型のレジストパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供することを目的とする。また、本発明は、該レジストパターン形成方法用として有用な新規な高分子化合物及び該高分子化合物の製造用として有用な新規な化合物を提供することを他の目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明者らは、鋭意検討の結果、露光により塩基を発生する塩基発生剤成分と、求核剤と、それらの作用で極性が増大する樹脂成分を組み合わせることで、露光部と未露光部との間で有機系現像液に対する溶解コントラストを発現させ、ネガ型パターンを形成できることを見出した。また、かかる知見に基づき更に検討を重ねた結果、塩基の存在下で求核剤の付加と脱離を生じる極性変換基で保護されたアルコール性水酸基を有し、該極性変換基の脱離により極性が増大する樹脂成分（高分子化合物）が、上記用途における樹脂成分として有用であることを見出し、本発明を完成させた。

【0009】

本発明の第一の態様は、塩基の存在下で求核剤の付加と脱離を生じる極性変換基で保護されたアルコール性水酸基を有し、該極性変換基の脱離により極性が増大する樹脂成分（Ｘ）、露光により塩基を発生する塩基発生剤成分（Ｙ）、及び求核剤（Ｎ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜を露光する工程と、
前記レジスト膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いて現像してネガ型のレジストパターンを形成する工程と、
を含むレジストパターン形成方法である。

【発明の効果】

【0012】

本発明によれば、有機溶剤を含有する現像液を用いてネガ型のレジストパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供できる。また、該レジストパターン形成方法用として有用な新規な高分子化合物及び該高分子化合物の製造用として有用な新規な化合物を提供できる。

【発明を実施するための形態】

【0013】

本明細書および本特許請求の範囲において、「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
「脂肪族」とは、芳香族に対する相対的な概念であって、芳香族性を持たない基、化合物等を意味するものと定義する。
「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状および環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
「アルキレン基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状および環状の２価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
「ハロゲン化アルキル基」は、アルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であり、「ハロゲン化アルキレン基」は、アルキレン基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基であり、該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
「ヒドロキシアルキル基」は、アルキル基の水素原子の一部または全部が水酸基で置換された基である。
「構成単位」とは、樹脂（高分子化合物、重合体、共重合体）を構成するモノマー単位（単量体単位）を意味する。

【0014】

≪レジストパターン形成方法≫
本発明のレジストパターン形成方法は、塩基の存在下で求核剤の付加と脱離を生じる極性変換基で保護されたアルコール性水酸基を有し、該極性変換基の脱離により極性が増大する樹脂成分（Ｘ）（以下「（Ｘ）成分」）、露光により塩基を発生する塩基発生剤成分（Ｙ）（以下「（Ｙ）成分」）、及び求核剤（Ｎ）（以下「（Ｎ）成分」）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程（以下「レジスト膜形成工程」）と、
前記レジスト膜を露光する工程（以下「露光工程」）と、
前記レジスト膜を、有機溶剤を含有する現像液（以下「有機系現像液」）を用いて現像してネガ型のレジストパターン（以下「ネガ型パターン」）を形成する工程（以下「現像工程」）と、
を含む。

【0015】

本発明に用いるレジスト組成物を露光（放射線を照射）すると、（Ｙ）成分から塩基が発生する。（Ｘ）成分は、塩基の存在下で求核剤の付加と脱離を生じる極性変換基で保護されたアルコール性水酸基を有しており、塩基が発生することにより、極性変換基に対する（Ｎ）成分の付加と、（Ｎ）成分が付加した極性変換基の脱離が進行する。極性変換基の脱離によりアルコール性水酸基が生じて（Ｘ）成分の極性が増大する。
例えば、（Ｘ）成分が、極性変換基として、後述する基（Ｉ）（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１［Ｒ^１はフッ素原子を有する有機基である。］）を有する場合、以下に示すように、塩基の存在下で、基（Ｉ）中のカルボニル基の炭素原子への求核剤の付加と、該炭素原子に結合していた酸素原子（アルコール性水酸基の酸素原子）との間の結合の開裂による基（Ｉ）の脱離が生じる。これにより（Ｘ）成分中のアルコール性水酸基の量が増えるとともに、基（Ｉ）と求核剤との付加生成物（Ｎｕ’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１）が生じる。アルコール性水酸基の量が増えることで（Ｘ）成分の極性が増大する。下記の反応式中、Ｎｕは求核剤であり、Ｎｕ’は、Ｎｕに由来する１価の基である。
また、Ｒ^１にフッ素原子を含有させることにより、求核剤との反応性を高め、極性変換反応を効率的に行うことができ、レジストの高感度化が期待できる。

【0016】

【化3】

【0017】

上記のように（Ｘ）成分の極性が増大することにより、有機系現像液に対する溶解性が低下する。そのため、該レジスト組成物を用いて形成されたレジスト膜に対して選択的露光を行うと、露光部は、（Ｘ）成分の極性の増大により有機系現像液に対する溶解性が低下する一方で、未露光部は、有機系現像液に対する溶解性が変化しないため、露光部と未露光部との間に有機系現像液に対する溶解性の差（溶解コントラスト）が生じる。そのため、該レジスト膜を有機系現像液で現像すると、未露光部が選択的に溶解、除去されてネガ型パターンが形成される。

【0018】

なお、極性変換基が、塩基の存在下で求核剤が付加しないものである場合、極性変換基が脱離しても極性が増大しないことがある。また、本発明に比べて、使用可能な求核剤が限定される。
例えば、上述した基（Ｉ）で保護されたアルコール性水酸基（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１）を有する（Ｘ）成分の代わりに、−Ｏ−とカルボニル基の位置が逆転した基（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１）を有する樹脂成分を用いた場合、求核剤は、前記と同様、カルボニル基の炭素原子に付加するが、該炭素原子に結合していた酸素原子（アルコール性水酸基の酸素原子）との間の結合の開裂によりアルコール（Ｒ^１ＯＨ）が生じるとともに、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎｕ’が形成される。極性が増大するためには、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎｕ’が、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１よりも高極性となるように求核剤Ｎｕを選択する必要がある。また、Ｎｕ’がそのまま樹脂成分中に残留するため、求核剤が２以上の反応部位（例えば水酸基）を有する場合、Ｎｕ’中に残っている反応部位がさらに他の−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１と反応して、架橋を形成することがある。
一例として、樹脂成分が下記一般式（ｘ’）で表される構成単位（以下、構成単位（ｘ’））を有するものであり、求核剤がエチレングリコールである場合を挙げる。式（ｘ’）中のＲ^１は前記と同じであり、Ｒ、Ａ、ｖ、Ｘ^０はそれぞれ後述する一般式（ｘ１）中のＲ、Ａ、ｖ、Ｘ^０と同じである。露光により塩基が発生すると、エチレングリコールの酸素原子が、構成単位（ｘ’）のカルボニル基の炭素原子に付加し、Ｒ^１Ｏ−が脱離してアルコール（Ｒ^１ＯＨ）が生じる。このとき、エチレングリコールの一端のみが反応した場合は、樹脂成分が、下記の（ｘ’−ａ）に示す構造の構成単位を有する樹脂となって極性が増大するが、エチレングリコールの両末端がそれぞれ異なる構成単位（ｘ’）と反応した場合、下記の（ｘ’−ｂ）に示す構造の構成単位（架橋構造の構成単位）を有する樹脂となる。
このように架橋を形成する場合、分子量は増大するが、極性は必ずしも増大しない。分子量の増大は、極性の増大と同様に、有機系現像液に対する溶解性を低下させるが、極性の増大のみが生じる方が、高解像性、低ＬＥＲ（ラインエッジラフネス）、低ＬＷＲ（ラインワイズラフネス）等の点で有利である。

【0019】

【化4】

【0020】

以下、各工程についてより詳細に説明する。
［レジスト膜形成工程］
本工程では、（Ｘ）成分、（Ｙ）成分、及び（Ｎ）成分を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する。
本工程に用いるレジスト組成物については後で詳細に説明する。
レジスト膜の形成は、特定のレジスト組成物を用いる以外は、公知の方法により実施できる。例えば、支持体上に、前記レジスト組成物をスピンナーなどで塗布し、ベーク（ポストアプライベーク（ＰＡＢ））処理を、たとえば８０〜１５０℃の温度条件にて４０〜１２０秒間、好ましくは６０〜９０秒間施すことにより、レジスト膜を形成できる。
支持体としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、電子部品用の基板や、これに所定の配線パターンが形成されたもの等を例示することができる。より具体的には、シリコンウェーハ、銅、クロム、鉄、アルミニウム等の金属製の基板や、ガラス基板等が挙げられる。配線パターンの材料としては、例えば銅、アルミニウム、ニッケル、金等が使用可能である。
また、支持体としては、上述のような基板上に、無機系および／または有機系の膜が設けられたものであってもよい。無機系の膜としては、無機反射防止膜（無機ＢＡＲＣ）が挙げられる。有機系の膜としては、有機反射防止膜（有機ＢＡＲＣ）や多層レジスト法における下層有機膜等の有機膜が挙げられる。
ここで、多層レジスト法とは、基板上に、少なくとも一層の有機膜（下層有機膜）と、少なくとも一層のレジスト膜（上層レジスト膜）とを設け、上層レジスト膜に形成したレジストパターンをマスクとして下層有機膜のパターニングを行う方法であり、高アスペクト比のパターンを形成できるとされている。すなわち、多層レジスト法によれば、下層有機膜により所要の厚みを確保できるため、レジスト膜を薄膜化でき、高アスペクト比の微細パターン形成が可能となる。
多層レジスト法には、基本的に、上層レジスト膜と、下層有機膜との二層構造とする方法（２層レジスト法）と、上層レジスト膜と下層有機膜との間に一層以上の中間層（金属薄膜等）を設けた三層以上の多層構造とする方法（３層レジスト法）とに分けられる。

【0021】

［露光工程］
次に、形成されたレジスト膜に対し、例えばＡｒＦ露光装置、電子線描画装置、ＥＵＶ露光装置等の露光装置を用いて、所定のパターンが形成されたマスク（マスクパターン）を介した露光、またはマスクパターンを介さない電子線の直接照射による描画等による選択的露光を行う。
露光に用いる波長は、特に限定されず、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ（極紫外線）、ＶＵＶ（真空紫外線）、ＥＢ（電子線）、Ｘ線、軟Ｘ線等の放射線を用いて行うことができる。後述するような本発明で用いることができるレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＢまたはＥＵＶ用としての有用性が高く、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＢまたはＥＵＶ用として特に有用である。

【0022】

レジスト膜の露光方法は、空気や窒素等の不活性ガス中で行う通常の露光（ドライ露光）であってもよく、液浸露光（Ｌｉｑｕｉｄ Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）であってもよい。
液浸露光は、予めレジスト膜と露光装置の最下位置のレンズ間を、空気の屈折率よりも大きい屈折率を有する溶媒（液浸媒体）で満たし、その状態で露光（浸漬露光）を行う露光方法である。
液浸媒体としては、空気の屈折率よりも大きく、かつ露光されるレジスト膜の有する屈折率よりも小さい屈折率を有する溶媒が好ましい。かかる溶媒の屈折率としては、前記範囲内であれば特に制限されない。
空気の屈折率よりも大きく、かつ前記レジスト膜の屈折率よりも小さい屈折率を有する溶媒としては、例えば、水、フッ素系不活性液体、シリコン系溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。
フッ素系不活性液体の具体例としては、Ｃ_３ＨＣｌ_２Ｆ_５、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、Ｃ_４Ｆ_９ＯＣ_２Ｈ_５、Ｃ_５Ｈ_３Ｆ_７等のフッ素系化合物を主成分とする液体等が挙げられ、沸点が７０〜１８０℃のものが好ましく、８０〜１６０℃のものがより好ましい。フッ素系不活性液体が上記範囲の沸点を有するものであると、露光終了後に、液浸に用いた媒体の除去を、簡便な方法で行えることから好ましい。
フッ素系不活性液体としては、特に、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子で置換されたパーフロオロアルキル化合物が好ましい。パーフロオロアルキル化合物としては、具体的には、パーフルオロアルキルエーテル化合物やパーフルオロアルキルアミン化合物を挙げることができる。
さらに、具体的には、前記パーフルオロアルキルエーテル化合物としては、パーフルオロ（２−ブチル−テトラヒドロフラン）（沸点１０２℃）を挙げることができ、前記パーフルオロアルキルアミン化合物としては、パーフルオロトリブチルアミン（沸点１７４℃）を挙げることができる。
液浸媒体としては、コスト、安全性、環境問題、汎用性等の観点から、水が好ましく用いられる。

【0023】

露光の後、露光による（Ｙ）成分からの塩基の発生と、それに伴って生じる反応（（Ｘ）成分の極性変換基に対する（Ｎ）成分の付加と該極性変換基の脱離）を充分に進めるために、ベーク（ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ））処理を行うことが好ましい。
ＰＥＢ処理は、たとえば８０〜１５０℃の温度条件にて、４０〜１２０秒間、好ましくは６０〜９０秒間行うことが好ましい。

【0024】

［現像工程］
次に、露光後のレジスト膜を、有機系現像液を用いて現像処理を行う。これにより、レジスト膜の未露光部が溶解、除去されてネガ型パターンが形成される。
有機系現像液を用いた現像処理は、公知の現像方法によって実施できる。該方法としては例えば、現像液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止する方法（パドル法）、支持体表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している支持体上に一定速度で現像液塗出ノズルをスキャンしながら現像液を塗出しつづける方法（ダイナミックディスペンス法）等が挙げられる。
現像処理後、好ましくは、有機溶剤を含有するリンス液を用いてリンス処理し、乾燥を行う。リンス処理を行うことにより、良好なパターン形成ができる。
リンス液を用いたリンス処理（洗浄処理）は、公知のリンス方法によって実施できる。該方法としては例えば、一定速度で回転している支持体上にリンス液を塗出しつづける方法（回転塗布法）、リンス液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面にリンス液を噴霧する方法（スプレー法）等が挙げられる。
現像処理又はリンス処理の後に、パターン上に付着している有機系現像液またはリンス液を超臨界流体により除去する処理を行ってもよい。
また、場合によっては、現像処理、リンス処理又は超臨界流体による処理の後、残存する有機溶剤を除去するために、ベーク（ポストベーク）処理を行ってもよい。
このようにして、レジスト膜の未露光部が溶解、除去されたネガ型パターンを得ることができる。

【0025】

（有機系現像液）
現像に用いる有機系現像液が含有する有機溶剤としては、（Ｘ）成分（露光前、つまり（Ｎ）成分と反応する前の（Ｘ）成分）を溶解し得るものであればよく、公知の有機溶剤のなかから適宜選択できる。具体的には、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ニトリル系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤等の極性溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。
ケトン系溶剤は、構造中にＣ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃを含む有機溶剤である。
エステル系溶剤は、構造中にＣ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｃを含む有機溶剤である。
アルコール系溶剤は、構造中にアルコール性水酸基を含む有機溶剤であり、「アルコール性水酸基」は、脂肪族炭化水素基の炭素原子に結合した水酸基を意味する。
ニトリル系溶剤は、構造中にニトリル基を含む有機溶剤である。
アミド系溶剤は構造中にアミド基を含む有機溶剤である。
エーテル系溶剤は構造中にＣ−Ｏ−Ｃを含む有機溶剤である。
有機溶剤の中には、構造中に上記各溶剤を特徴づける官能基を複数種含む有機溶剤も存在するが、その場合は、当該有機溶剤が有する官能基を含むいずれの溶剤種にも該当するものとする。たとえば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルは、上記分類中の、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤いずれにも該当するものとする。
炭化水素系溶剤は、ハロゲン化されていてもよい炭化水素からなり、ハロゲン原子以外の置換基を有さない炭化水素溶剤である。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。

【0026】

ケトン系溶剤としては、たとえば、１−オクタノン、２−オクタノン、１−ノナノン、２−ノナノン、アセトン、４−ヘプタノン、１−ヘキサノン、２−ヘキサノン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、フェニルアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセトニルアセトン、イオノン、ジアセトニルアルコール、アセチルカービノール、アセトフェノン、メチルナフチルケトン、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、メチルアミルケトン（２−ヘプタノンともいう。）等が挙げられる。これらの中でも、メチルアミルケトンが最も好ましい。

【0027】

エステル系溶剤としては、たとえば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、２−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテート、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート、プロピル−３−メトキシプロピオネート等が挙げられる。
エステル系溶剤としては、後述する一般式（１）又は（２）で表される溶剤が好ましく、一般式（１）で表される溶剤がより好ましく、酢酸アルキルがさらにより好ましく、酢酸ブチルが最も好ましい。

【0028】

アルコール系溶剤としては、たとえば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−ヘプチルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−デカノール、３−メトキシ−１−ブタノール等の１価アルコール；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等のグリコール系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、メトキシメチルブタノール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等の、水酸基を含むグリコールエーテル系溶剤；等が挙げられる。これらのなかでも、１価アルコールが好ましく、イソプロピルアルコールが最も好ましい。

【0029】

ニトリル系溶剤としては、たとえば、アセトニトリル、プロピオ二トリル、バレロニトリル、ブチロ二トリル等が挙げられる。
アミド系溶剤としては、たとえば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等が挙げられる。

【0030】

エーテル系溶剤としては、たとえば、上記水酸基を含むグリコールエーテル系溶剤；プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の、水酸基を含まないグリコールエーテル系溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、パーフルオロ−２−ブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。
これらのなかでも、水酸基を含むグリコールエーテル系溶剤、水酸基を含まないグリコールエーテル系溶剤等のグリコールエーテル系溶剤が好ましい。

【0031】

炭化水素系溶剤としては、たとえば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、２，２，４−トリメチルペンタン、２，２，３−トリメチルヘキサン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶剤；トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、１−メチルプロピルベンゼン、２−メチルプロピルベンゼン、ジメチルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、エチルジメチルベンゼン、ジプロピルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤；が挙げられる。これらの中でも、脂肪族炭化水素系溶剤が好ましく、フッ素置換されていないものがより好ましい。

【0032】

有機系現像液は、上記のなかでも、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、ニトリル系溶剤、下記一般式（１）又は（２）で表される溶剤、及び炭化水素系溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。なかでもケトン系溶剤、ニトリル系溶剤、及び下記一般式（１）で表される溶剤からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。
Ｒ^００−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^０１ …（１）
Ｒ^０２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^０４−Ｏ−Ｒ^０３ …（２）
［式（１）中、Ｒ^００は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基またはハロゲン原子であり、Ｒ^０１は水素原子、アルキル基、シアノ基またはハロゲン原子であり、Ｒ^００およびＲ^０１は互いに結合して環を形成してもよい。式（２）中、Ｒ^０２は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基またはハロゲン原子であり、Ｒ^０３は水素原子、アルキル基、シアノ基またはハロゲン原子であり、Ｒ^０３は互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ^０４は、アルキレン基である。］

【0033】

式（１）中、Ｒ^００におけるアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよく、直鎖状または分岐鎖状が好ましく、その炭素数は１〜５が好ましい。該アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としてはたとえば水酸基、カルボキシ基、シアノ基等が挙げられる。
アルコキシ基、アルコキシカルボニル基におけるアルキル基として前記アルキル基と同様のものが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
Ｒ^００は、水素原子またはアルキル基が好ましい。
式（１）中、Ｒ^０１におけるアルキル基、ハロゲン原子としてはそれぞれ、Ｒ^００におけるアルキル基、ハロゲン原子と同様のものが挙げられる。
Ｒ^０１は、水素原子またはアルキル基が好ましい。
式（１）で表される溶剤の具体例としては、たとえば酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、炭酸エチル、炭酸プロピル、炭酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、ピルビン酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル等を挙げることができる。
式（１）で表される溶剤としては、上記の中でも、Ｒ^００およびＲ^０１が無置換のアルキル基であるものが好ましく、酢酸アルキルがより好ましく、酢酸ブチルが特に好ましい。

【0034】

式（２）中、Ｒ^０２およびＲ^０３は、それぞれ前記Ｒ^００およびＲ^０１と同様である。
Ｒ^０４におけるアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよく、直鎖状または分岐鎖状が好ましく、その炭素数は１〜５が好ましい。該アルキレン基は置換基を有していてもよい。置換基としてはたとえば水酸基、カルボキシ基、シアノ基等が挙げられる。また、該アルキレン基の炭素数が２以上である場合、該アルキレン基の炭素原子間に酸素原子（−Ｏ−）が介在してもよい。
式（２）で表される溶剤の具体例としては、たとえばエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−メトキシプロピオネート、エチル−３−エトキシプロピオネート、プロピル−３−メトキシプロピオネート、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、２−メトキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、４−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルアセテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキシブチルアセテート、４−プロポキシブチルアセテート、２−メトキシペンチルアセテート、３−メトキシペンチルアセテート、４−メトキシペンチルアセテート、２−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−３−メトキシペンチルアセテート、３−メチル−４−メトキシペンチルアセテート、４−メチル−４−メトキシペンチルアセテート等が挙げられる。

【0035】

これらの有機溶剤は、いずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、上記以外の他の有機溶剤や水と混合して用いてもよい。該他の有機溶剤としては、混合時に分離することなく均一な溶液となるものであれば特に限定されず、公知の有機溶剤のなかから適宜選択できる。
有機系現像液に用いる有機溶剤としては、現像に用いる溶剤のコスト削減の観点から、ハロゲン原子を含まない有機溶剤を用いることが好ましい。有機系現像液の総重量に占めるハロゲン原子を含まない有機溶剤の含有量は、６０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましく、１００質量％であってもよい。
有機系現像液に用いる有機溶剤の沸点は、５０℃以上２５０℃未満が望ましい。
有機系現像液に用いる有機溶剤の発火点は、２００℃以上が望ましい。

【0036】

有機系現像液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。該添加剤としてはたとえば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、特に限定されないが、たとえばイオン性や非イオン性のフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤等を用いることができる。
使用できる市販の界面活性剤として、例えば、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、（新秋田化成（株）製）、フロラードＦＣ４３０、４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１８９、Ｒ０８（ＤＩＣ（株）製）、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（旭硝子（株）製）、トロイゾルＳ−３６６（トロイケミカル（株）製）等のフッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーＫＰ−３４１（信越化学工業（株）製）もシリコン系界面活性剤として用いることができる。
また、界面活性剤としては、上記に示すような公知のものの他に、テロメリゼーション法（テロマー法ともいわれる）もしくはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法ともいわれる）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から誘導されたフルオロ脂肪族基を有する重合体を用いた界面活性剤を用いることが出来る。フルオロ脂肪族化合物は、特開２００２−９０９９１号公報に記載された方法によって合成することが出来る。
フルオロ脂肪族基を有する重合体としては、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと（ポリ（オキシアルキレン））アクリレート及び／又は（ポリ（オキシアルキレン））メタクリレートとの共重合体が好ましく、不規則に分布しているものでも、ブロック共重合していてもよい。また、ポリ（オキシアルキレン）基としては、ポリ（オキシエチレン）基、ポリ（オキシプロピレン）基、ポリ（オキシブチレン）基などが挙げられ、また、ポリ（オキシエチレンとオキシプロピレンとオキシエチレンとのブロック連結体）やポリ（オキシエチレンとオキシプロピレンとのブロック連結体）基など同じ鎖長内に異なる鎖長のアルキレンを有するようなユニットでもよい。さらに、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと（ポリ（オキシアルキレン））アクリレート（又はメタクリレート）との共重合体は２元共重合体ばかりでなく、異なる２種以上のフルオロ脂肪族基を有するモノマーや、異なる２種以上の（ポリ（オキシアルキレン））アクリレート（又はメタクリレート）などを同時に共重合した３元系以上の共重合体でもよい。
例えば、市販の界面活性剤として、メガファックＦ１７８、Ｆ−４７０、Ｆ−４７３、Ｆ−４７５、Ｆ−４７６、Ｆ−４７２（ＤＩＣ（株）製）を挙げることができる。さらに、Ｃ_６Ｆ_１３基を有するアクリレート（又はメタクリレート）と（ポリ（オキシアルキレン））アクリレート（又はメタクリレート）との共重合体、Ｃ_６Ｆ_１３基を有するアクリレート（又はメタクリレート）と（ポリ（オキシエチレン））アクリレート（又はメタクリレート）と（ポリ（オキシプロピレン））アクリレート（又はメタクリレート）との共重合体、Ｃ_８Ｆ_１７基を有するアクリレート（又はメタクリレート）と（ポリ（オキシアルキレン））アクリレート（又はメタクリレート）との共重合体、Ｃ_８Ｆ_１７基を有するアクリレート（又はメタクリレート）と（ポリ（オキシエチレン））アクリレート（又はメタクリレート）と（ポリ（オキシプロピレン））アクリレート（又はメタクリレート）との共重合体、などを挙げることができる。
界面活性剤としては、非イオン性の界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤がより好ましい。
界面活性剤を配合する場合、その配合量は、有機系現像液の全量に対して、通常０．００１〜５質量％であり、０．００５〜２質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましい。

【0037】

（リンス液）
上記現像処理の後、乾燥を行う前に、有機溶剤を含有するリンス液を用いてリンス処理することができる。リンスを行うことにより、良好なパターン形成ができる。
リンス液に用いる有機溶剤としては、たとえば前記有機系現像液に用いる有機溶剤として挙げた有機溶剤のうち、レジストパターンを溶解しにくいものを適宜選択して使用できる。通常、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤およびエーテル系溶剤から選択される少なくとも１種類の溶剤を使用する。これらのなかでも、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤及びアミド系溶剤から選択される少なくとも１種類が好ましく、アルコール系溶剤およびエステル系溶剤から選択される少なくとも１種類がより好ましく、アルコール系溶剤が特に好ましい。
リンス液に用いるアルコール系溶剤は、炭素数６〜８の１価アルコールが好ましく、該１価アルコールは直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。具体的には、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノール、２−ヘキサノール、２−ヘプタノール、２−オクタノール、３−ヘキサノール、３−ヘプタノール、３−オクタノール、４−オクタノール、ベンジルアルコール等が挙げられる。これらのなかでも、１−ヘキサノール、２−ヘプタノール、２−ヘキサノールが好ましく、１−ヘキサノールまたは２−ヘキサノールがより好ましい。
これらの有機溶剤は、いずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。また、上記以外の有機溶剤や水と混合して用いてもよい。ただし現像特性を考慮すると、リンス液中の水の配合量は、リンス液の全量に対し、３０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下さらに好ましく、３質量％以下が特に好ましい。
リンス液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。該添加剤としてはたとえば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、前記と同様のものが挙げられ、非イオン性の界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤がより好ましい。
界面活性剤を配合する場合、その配合量は、リンス液の全量に対して、通常０．００１〜５質量％であり、０．００５〜２質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましい。
リンス液を用いたリンス処理（洗浄処理）は、公知のリンス方法におり実施でき、該方法としてはたとえば一定速度で回転している支持体上にリンス液を塗出しつづける方法（回転塗布法）、リンス液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面にリンス液を噴霧する方法（スプレー法）等が挙げられる。

【0038】

≪レジスト組成物≫
上記本発明のレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物は、上述したとおり、（Ｘ）成分、（Ｙ）成分及び（Ｎ）成分を含有する。
上述したように、かかるレジスト組成物を露光（放射線を照射）すると、（Ｙ）成分から塩基が発生する。（Ｘ）成分は、塩基の存在下で求核剤の付加と脱離を生じる極性変換基で保護されたアルコール性水酸基を有しており、塩基が発生することにより、極性変換基に対する（Ｎ）成分の付加と、（Ｎ）成分が付加した極性変換基の脱離が進行し、アルコール性水酸基が生じ、（Ｘ）成分の極性が増大する。極性が増大することで、有機系現像液に対する溶解性が低下する。したがって、該レジスト組成物を用いて形成されたレジスト膜に対して選択的露光を行うと、露光部は、（Ｘ）成分の極性の増大により有機系現像液に対する溶解性が低下する一方で、未露光部は、有機系現像液に対する溶解性が変化しないため、露光部と未露光部との間に有機系現像液に対する溶解性の差（溶解コントラスト）が生じる。そのため、該レジスト膜を有機系現像液で現像すると、未露光部が選択的に溶解、除去されてネガ型パターンが形成される。

【0039】

＜（Ｘ）成分＞
（Ｘ）成分は、塩基の存在下で求核剤の付加と脱離を生じる極性変換基で保護されたアルコール性水酸基を有し、該極性変換基の脱離により極性が増大する樹脂成分である。
本明細書において、「樹脂成分」とは、膜形成能を有する有機化合物であって重合体であるものを示す。樹脂成分としては、通常、ナノレベルのレジストパターンを形成しやすいことから、分子量が５００以上、好ましくは１０００以上の高分子化合物が用いられる。樹脂成分の場合、「分子量」としてはＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の質量平均分子量を用いるものとする。

【0040】

ここでの塩基としては、後述する（Ｙ）成分から露光により発生する塩基が挙げられ、求核剤としては、後述する（Ｎ）成分の説明で挙げる求核剤と同様のものが挙げられる。
アルコール性水酸基は、芳香環を構成する炭素原子以外の炭素原子に結合した水酸基である。
（Ｘ）成分においては、塩基の存在下で、極性変換基に求核剤が付加するとともに、求核剤が付加した極性変換基が、当該極性変換基で保護されたアルコール性水酸基から脱離して、アルコール性水酸基が生じる。該極性変換基の脱離（アルコール性水酸基の生成）により（Ｘ）成分の極性が増大する。つまり極性変換基は、求核剤が付加し得る低電子密度の原子を有し、かつ当該極性変換基で保護されたアルコール性水酸基が、保護されていないアルコール性水酸基（−ＯＨ）よりも低極性となる基である。
該極性変換基としては、例えば、下記一般式（Ｉ）で表される基（以下、基（Ｉ）という。）が挙げられる。基（Ｉ）においては、上述したように、塩基の存在下で、基（Ｉ）中のカルボニル基の炭素原子への求核剤の付加と、該炭素原子に結合していた酸素原子（アルコール性水酸基の酸素原子）との間の結合の開裂による基（Ｉ）の脱離が生じる。Ｒ^１がフッ素原子を有さない場合、上記反応が充分に進行しないおそれがある。

【0041】

【化5】

［式中、Ｒ^１はフッ素原子を有する有機基である。］

【0042】

式（Ｉ）中、Ｒ^１はフッ素原子を有する有機基である。
「有機基」は、炭素原子を含む基であり、「フッ素原子を有する有機基」は、炭素原子のほかに少なくともフッ素原子を有する。フッ素原子を有する有機基は、炭素原子およびフッ素原子以外の他の原子（たとえば水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、フッ素原子以外のハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）等）を有していてもよい。
Ｒ^１としては、例えば、置換基を有していてもよいフッ素化炭化水素基が挙げられる。
フッ素化炭化水素基は、炭化水素基の水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された基である。
フッ素化炭化水素基のフッ素化率（無置換の炭化水素基の水素原子がフッ素原子により置換された割合）は、２５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。フッ素化率の上限は特に限定されず、１００％であってもよい。
フッ素化炭化水素基が有していてもよい置換基は、炭素原子、水素原子およびフッ素原子以外の原子または該原子を含む原子団を示す。
「置換基を有していてもよい」とは、当該炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよく、当該炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されてもよいことを示す。
置換基を有していてもよいフッ素化炭化水素基は、フッ素化芳香族炭化水素基であってもフッ素化脂肪族炭化水素基であってもよい。

【0043】

｛フッ素化芳香族炭化水素基｝
フッ素化芳香族炭化水素基における芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。芳香族炭化水素基は、芳香環のみから構成されるものであってもよく、芳香環と、該芳香環に結合する脂肪族炭化水素基とから構成されるものであってもよい。
芳香族炭化水素基が有する芳香環は、４ｎ＋２個（ここでのｎは０と自然数を示す）のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の環骨格を構成する原子の数は、５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。
芳香環に結合する脂肪族炭化水素基としては、この後に示す、Ｒ^１における脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。

【0044】

前記芳香族炭化水素基は、水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換される。芳香族炭化水素基が芳香環のみから構成されるものである場合、フッ素原子は、芳香環を構成する炭素原子に結合する。芳香族炭化水素基が、芳香環と、該芳香環に結合する脂肪族炭化水素基とから構成されるものである場合、フッ素原子は、芳香環を構成する炭素原子に結合してもよく、脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子に結合してもよい。
該芳香族炭化水素基は、フッ素原子以外の置換基を有していてもよい。たとえば当該芳香族炭化水素基が有する芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよく、当該芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子の一部がフッ素原子以外の置換基で置換されていてもよい。また、該芳香族炭化水素基が、芳香環に結合した脂肪族炭化水素基を有する場合、該脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部がフッ素原子以外の置換基で置換されていてもよい。
炭素原子の一部を置換してもよい「ヘテロ原子を含む２価の置換基」におけるヘテロ原子は、炭素原子以外の原子を意味し、たとえば酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。ヘテロ原子を含む２価の置換基は、前記ヘテロ原子のみからなるものであってもよく、前記ヘテロ原子以外の基または原子を含む基であってもよい。該ヘテロ原子を含む２価の置換基として具体的には、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−（Ｈがアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい）、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−等が挙げられる。
水素原子の一部を置換してもよい「フッ素原子以外の置換基」としては、求核剤との反応性を損なわず、かつ基（Ｉ）で保護されたアルコール性水酸基（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^１）全体の極性が、保護されていないアルコール性水酸基（−ＯＨ）の極性よりも低くなる範囲内であれば特に限定されないが、たとえば、前記芳香族炭化水素基の芳香環に結合した水素原子を置換してもよい置換基や、芳香環に脂肪族炭化水素基が結合している場合に該脂肪族炭化水素基の水素原子を置換してもよい置換基として、アルキル基、アルコキシ基、フッ素原子以外のハロゲン原子、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であることが最も好ましい。
前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記置換基としてのフッ素原子以外のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。

【0045】

フッ素化芳香族炭化水素基として具体的には、フッ素原子を有する芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（フッ素化アリール基またはフッ素化ヘテロアリール基）；フッ素原子を有し、２以上の芳香環を含む芳香族化合物から水素原子を１つ除いた基；フッ素原子を有する芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（フッ素化アリールアルキル基またはフッ素化ヘテロアリールアルキル基）；等が挙げられる。
フッ素化アリール基における芳香族炭化水素環としては、炭素数が５〜３０であることが好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。芳香族炭化水素環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等が挙げられる。
フッ素化ヘテロアリール基における芳香族複素環としては、前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されたものが挙げられ、該芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。該芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
２以上の芳香環を含む芳香族化合物における芳香環としては、前記芳香族炭化水素環、芳香族複素環等が挙げられ、該芳香族化合物として具体的には、たとえばビフェニル、フルオレン等が挙げられる。
フッ素化アリールアルキル基における芳香族炭化水素環、フッ素化ヘテロアリールアルキル基における芳香族複素環としてはそれぞれ前記と同様のものが挙げられる。フッ素化アリールアルキル基またはフッ素化ヘテロアリールアルキル基におけるアルキル基（前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子を置換するアルキレン基）の炭素数は、１〜４であることが好ましく、１〜２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。アリールアルキル基またはヘテロアリールアルキル基の具体例としては、たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基等が挙げられる。
これらの芳香族炭化水素基の炭素数は５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。ただし、芳香族炭化水素基が、水素原子の一部または全部を置換する置換基として、炭化水素基を含む置換基（アルキル基、アルコキシ基等）を有する場合、芳香族炭化水素基の炭素数には、該置換基における炭素数を含まないものとする。

【0046】

｛フッ素化脂肪族炭化水素基｝
フッ素化脂肪族炭化水素基における脂肪族炭化水素基は、飽和炭化水素基（アルキル基）でも不飽和脂肪族炭化水素基でもよい。また、該脂肪族炭化水素基は、それぞれ、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよく、それらの組み合わせであってもよい。該組み合わせとして、たとえば、環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基、などが挙げられる。環状の脂肪族炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。

【0047】

フッ素化脂肪族炭化水素基は、置換基として少なくともフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基である。すなわち当該脂肪族炭化水素基が有する炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されている。脂肪族炭化水素基が環状の炭化水素基と鎖状の炭化水素基との組み合わせである場合、フッ素原子は、環状の炭化水素基を構成する炭素原子に結合する水素原子を置換してもよく、鎖状の炭化水素基置換基を構成する炭素原子に結合する水素原子を置換してもよい。
フッ素化脂肪族炭化水素基は、当該フッ素化脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよく、当該フッ素化脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部がフッ素原子以外の置換基で置換されてよい。
ヘテロ原子を含む２価の置換基としては、前記と同様のものが挙げられる。フッ素化脂肪族炭化水素基が環状である場合、該ヘテロ原子を含む２価の置換基を環構造中に含んでいてもよい。
フッ素原子以外の置換基としては、例えば、アルコキシ基、フッ素原子以外のハロゲン原子、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、シアノ基、アリール基等が挙げられる。脂肪族炭化水素基が環状である場合、置換基としてアルキル基を有していてもよい。これらの置換基としてのアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基は、それぞれ、前記芳香族炭化水素基の置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。置換基としてのアリール基としては、前記芳香族炭化水素環から水素原子を１つ除いた基が挙げられる。それらの中でも、炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、フェニル基またはナフチル基が好ましい。

【0048】

フッ素化脂肪族炭化水素基としては、フッ素原子を有する直鎖状もしくは分岐鎖状の飽和炭化水素基、フッ素原子を有する直鎖状もしくは分岐鎖状の不飽和炭化水素基、またはフッ素原子を有する環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族環式基）が好ましい。

【0049】

直鎖状の飽和炭化水素基（アルキル基）の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。直鎖状のアルキル基として具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状の飽和炭化水素基（アルキル基）の炭素数は３〜２０が好ましく、３〜１５がより好ましく、３〜１０がさらに好ましい。分岐鎖状のアルキル基として具体的には、例えば、１−メチルエチル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基などが挙げられる。
これらの飽和炭化水素基は、置換基として少なくともフッ素原子を有する。すなわち当該飽和炭化水素基が有する炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されている。
これらの飽和炭化水素基は、水素原子の一部がフッ素原子以外の置換基で置換されてよい。該置換基としては、前記で脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部を置換するフッ素原子以外の置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。

【0050】

不飽和炭化水素基としては、炭素数が２〜１０であることが好ましく、２〜５が好ましく、２〜４が好ましく、３が特に好ましい。直鎖状の１価の不飽和炭化水素基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状の１価の不飽和炭化水素基としては、例えば、１−メチルプロペニル基、２−メチルプロペニル基などが挙げられる。
不飽和炭化水素基としては、上記の中でも、特にプロペニル基が好ましい。
これらの不飽和炭化水素基は、置換基として少なくともフッ素原子を有する。すなわち当該不飽和炭化水素基が有する炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されている。
これらの不飽和炭化水素基は、水素原子の一部がフッ素原子以外の置換基で置換されてよい。該置換基としては、前記で脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部を置換するフッ素原子以外の置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。

【0051】

脂肪族環式基の炭素数は３〜３０が好ましく、４〜３０がより好ましく、５〜２０がさらに好ましく、５〜１５が特に好ましく、５〜１２が最も好ましい。
脂肪族環式基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環式基は、飽和であっても不飽和であってもよく、飽和（環状のアルキル基）であることが好ましい。
単環式の脂肪族環式基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。モノシクロアルカンとしては、炭素数５〜６のモノシクロアルカンが好ましく、例えばシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
多環式の脂肪族環式基としては、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。ポリシクロアルカンとしては、炭素数７〜１２のポリシクロアルカンが好ましく、例えばアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
脂肪族環式基は、置換基として少なくともフッ素原子を有する。すなわち当該脂肪族環式基が有する炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されている。脂肪族環式基が、フッ素原子以外に、炭化水素基を含む置換基（アルキル基、アルコキシ基等）を有する場合、フッ素原子は、脂肪族環式基の環骨格を構成する炭素原子に結合してもよく、置換基に含まれる炭素原子に結合してもよい。
脂肪族環式基は、水素原子の一部がフッ素原子以外の置換基で置換されてよい。該置換基としては、前記で脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部を置換するフッ素原子以外の置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。
脂肪族環式基は、当該脂肪族環式基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記で挙げたものと同様のものが挙げられる。それらのなかでも、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−が好ましい。
炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換された脂肪族環式基の好ましい例としては、たとえば下記式（Ｌ１）〜（Ｌ６）、（Ｓ１）〜（Ｓ４）で表される環式基等が挙げられる。

【0052】

【化6】

［式中、Ｑ”は炭素数１〜５のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｒ^９４’−または−Ｓ−Ｒ^９５’−であり、Ｒ^９４’およびＲ^９５’はそれぞれ独立に炭素数１〜５のアルキレン基であり、ｍは０または１の整数である。］

【0053】

式中、Ｑ”、Ｒ^９４’およびＲ^９５’におけるアルキレン基としては、それぞれ、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基の炭素数は、１〜１２が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３がさらに好ましい。
該アルキレン基として、具体的には、たとえばメチレン基［−ＣＨ_２−］；−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２−等のアルキルメチレン基；エチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２−］；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２−等のアルキルエチレン基；トリメチレン基（ｎ−プロピレン基）［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−等のアルキルトリメチレン基；テトラメチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−等のアルキルテトラメチレン基；ペンタメチレン基［−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−］等が挙げられる。これらの中でも、メチレン基またはアルキルメチレン基が好ましく、メチレン基が特に好ましい。
これらの環式基は、その環構造を構成する炭素原子に結合した水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換される。また、水素原子の一部がフッ素原子以外の置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記と同様のものが挙げられる。

【0054】

置換基を有していてもよいフッ素化炭化水素基のフッ素化率（無置換の炭化水素基の水素原子がフッ素原子により置換された割合）は、２５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。フッ素化率の上限は特に限定されず、１００％であってもよい。

【0055】

前記フッ素化炭化水素基としては、特に、飽和のフッ素化炭化水素基（フッ素化アルキル基）が好ましい。該フッ素化アルキル基は、直鎖状または分岐鎖状が好ましく、直鎖状がより好ましい。該フッ素化アルキル基のフッ素化率（無置換のアルキル基の水素原子がフッ素原子により置換された割合）は、２５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。フッ素化率の上限は特に限定されず、１００％であってもよい。
フッ素化アルキル基としては、−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｒ^ｆ［ｎは０〜４の整数であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜８のフッ素化アルキル基である。］で表される基が好ましい。−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｒ^ｆ全体の炭素数は１〜５が好ましい。ｎは１〜３の整数が好ましい。Ｒ^ｆは炭素数が１〜２であることが好ましい。また、ｎが１以上の整数である場合、Ｒ^ｆは、パーフルオロアルキル基であることが好ましい。
フッ素化アルキル基として具体的には、−ＣＦ_３、−ＣＨ_２−ＣＦ_３、−ＣＨ_２−ＣＦ_２−ＣＦ_３、−ＣＨ（ＣＦ_３）_２、−（ＣＨ_２）_２−（ＣＦ_２）_２−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_２−（ＣＦ_２）_３−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_２−（ＣＦ_２）_４−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_２−（ＣＦ_２）_７−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_３−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_３−ＣＦ_２−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_４−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_４−ＣＦ_２−ＣＦ_３、等が挙げられる。

【0056】

基（Ｉ）は、（Ｘ）成分を構成する構成単位中に含まれることが好ましい。
ここで、（Ｘ）成分を構成する構成単位としては、特に限定されるものではないが、エチレン性二重結合を有する化合物から誘導される構成単位であることが好ましい。
「エチレン性二重結合を有する化合物から誘導される構成単位」とは、エチレン性二重結合を有する化合物におけるエチレン性二重結合が開裂して単結合となった構造の構成単位を意味する。
エチレン性二重結合を有する化合物としては、たとえば、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸またはそのエステル、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリルアミドまたはその誘導体、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいビニル芳香族化合物、シクロオレフィンまたはその誘導体、ビニルスルホン酸エステル等が挙げられる。これらの中でも、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸またはそのエステル、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリルアミドまたはその誘導体、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいビニル芳香族化合物が好ましい。

【0057】

「アクリル酸エステル」は、アクリル酸（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯＯＨ）のカルボキシ基末端の水素原子が有機基で置換された化合物である。
アクリル酸エステルは、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該α位の炭素原子に結合した水素原子を置換する置換基（Ｒ^Ａ）は、水素原子以外の原子又は基であり、たとえば炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基等が挙げられる。また、置換基（Ｒ^Ａ）がエステル結合を含む置換基で置換されたイタコン酸ジエステルや、置換基（Ｒ^Ａ）がヒドロキシアルキル基やその水酸基を修飾した基で置換されたαヒドロキシアクリルエステルも含むものとする。なお、アクリル酸エステルのα位の炭素原子とは、特に断りがない限り、アクリル酸のカルボニル基が結合している炭素原子のことである。
本明細書において、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されたアクリル酸、アクリル酸エステルをそれぞれα置換アクリル酸、α置換アクリル酸エステルということがある。また、アクリル酸とα置換アクリル酸とを包括して「（α置換）アクリル酸」、α置換アクリル酸エステルとを包括して「（α置換）アクリル酸エステル」ということがある。

【0058】

（α置換）アクリル酸またはそのエステルのα位の炭素原子に結合しているのは、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”が好ましい。すなわち、置換基（Ｒ^Ａ）としては、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”が好ましい。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。
前記置換基（Ｒ^Ａ）としての炭素数１〜５のアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基などの直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。
前記置換基（Ｒ^Ａ）としての炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基として具体的には、上記の炭素数１〜５のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、特にフッ素原子が好ましい。
前記置換基（Ｒ^Ａ）としてのヒドロキシアルキル基としては、炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基が好ましく、具体的には、上記の炭素数１〜５のアルキル基の水素原子の一部または全部がヒドロキシ基で置換された基が挙げられる。
前記置換基（Ｒ^Ａ）としての−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”において、Ｖ^２１におけるアルキレン基としては、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。該アルキレン基の炭素数は１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１が最も好ましい。
前記置換基（Ｒ^Ａ）としての−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”において、Ｒ”はいずれも水素原子またはアルキル基である。
Ｒ”におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、炭素数は１〜１５が好ましい。
Ｒ”が直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基の場合は、炭素数１〜１０であることが好ましく、炭素数１〜５であることがさらに好ましく、メチル基またはエチル基であることが特に好ましい。
Ｒ”が環状のアルキル基の場合は、炭素数３〜１５であることが好ましく、炭素数４〜１２であることがさらに好ましく、炭素数５〜１０が最も好ましい。具体的には、フッ素原子またはフッ素化アルキル基で置換されていてもよいし、されていなくてもよいモノシクロアルカンや、ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などを例示できる。より具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンや、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。
本発明において、（α置換）アクリル酸またはそのエステルのα位の炭素原子に結合しているのは、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であることが好ましく、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のフッ素化アルキル基であることがより好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。

【0059】

（α置換）アクリル酸エステルが有する有機基としては、特に限定されないが、たとえば前述した基（Ｉ）等の特性基、該特性基を構造中に含む特性基含有基等が挙げられる。該特性基含有基としては、たとえば、前記特性基に２価の連結基が結合した基等が挙げられる。２価の連結基としては、たとえば後述する一般式（ｘ１）中のＸ^０の説明で挙げる２価の連結基と同様のものが挙げられる。

【0060】

「アクリルアミドまたはその誘導体」としては、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリルアミド（以下、（α置換）アクリルアミドということがある。）、（α置換）アクリルアミドのアミノ基（末端の水素原子の一方または両方が置換基で置換された化合物、等が挙げられる。
アクリルアミドまたはその誘導体のα位の炭素原子に結合してもよい置換基としては、前記置換基（Ｒ^Ａ）と同様のものが挙げられる。
（α置換）アクリルアミドのアミノ基末端の水素原子の一方または両方を置換する置換基としては、有機基が好ましい。該有機基としては、特に限定されないが、たとえば前記（α置換）アクリル酸エステルが有する有機基と同様のものが挙げられる。
（α置換）アクリルアミドのアミノ基末端の水素原子の一方または両方が置換基で置換された化合物としては、たとえば前記（α置換）アクリル酸エステル中のα位の炭素原子に結合した−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−を、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^ｂ）−［式中、Ｒ^ｂは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基である。］で置換した化合物が挙げられる。
式中、Ｒ^ｂにおけるアルキル基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。

【0061】

「ビニル芳香族化合物」は、芳香環および該芳香環に結合した１つのビニル基を有する化合物であり、スチレンまたはその誘導体、ビニルナフタレンまたはその誘導体等が挙げられる。
ビニル芳香族化合物のα位の炭素原子（ビニル基の炭素原子のうち、芳香環に結合した炭素原子）に結合してもよい置換基としては、前記置換基（Ｒ^Ａ）と同様のものが挙げられる。
以下、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されビニル芳香族化合物を（α置換）ビニル芳香族化合物ということがある。

【0062】

「スチレンまたはその誘導体」としては、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよく、ベンゼン環に結合した水素原子が、水酸基以外の置換基で置換されていてもよいスチレン（以下、（α置換）スチレンということがある。）、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよく、ベンゼン環に結合した水素原子が、水酸基以外の置換基で置換されていてもよいヒドロキシスチレン（以下、（α置換）ヒドロキシスチレンということがある。）、（α置換）ヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子が有機基で置換された化合物、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよく、ベンゼン環に結合した水素原子が、水酸基およびカルボキシ基以外の置換基で置換されていてもよいビニル安息香酸（以下、（α置換）ビニル安息香酸ということがある。）、（α置換）ビニル安息香酸のカルボキシ基の水素原子が有機基で置換された化合物、等が挙げられる。
ヒドロキシスチレンは、ベンゼン環に、１つのビニル基と、少なくとも１つの水酸基とが結合した化合物である。ベンゼン環に結合する水酸基の数は、１〜３が好ましく、１が特に好ましい。ベンゼン環における水酸基の結合位置は特に限定されない。水酸基の数が１つである場合は、ビニル基の結合位置のパラ４位が好ましい。水酸基の数が２以上の整数である場合は、任意の結合位置を組み合わせることができる。
ビニル安息香酸は、安息香酸のベンゼン環に１つのビニル基が結合した化合物である。ベンゼン環におけるビニル基の結合位置は特に限定されない。
スチレンまたはその誘導体のベンゼン環に結合してもよい、水酸基およびカルボキシ基以外の置換基としては、特に限定されず、たとえば、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が特に好ましい。
（α置換）ヒドロキシスチレンの水酸基の水素原子が有機基で置換された化合物における有機基としては、特に限定されないが、たとえば前記（α置換）アクリル酸エステルが有する有機基として挙げた有機基が挙げられる。
（α置換）ビニル安息香酸のカルボキシ基の水素原子が有機基で置換された化合物における有機基としては、特に限定されないが、たとえば前記（α置換）アクリル酸エステルが有する有機基として挙げた有機基が挙げられる。

【0063】

「ビニルナフタレンまたはその誘導体」としては、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよく、ナフタレン環に結合した水素原子が、水酸基以外の置換基で置換されていてもよいビニルナフタレン（以下、（α置換）ビニルナフタレンということがある。）、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよく、ナフタレン環に結合した水素原子が、水酸基以外の置換基で置換されていてもよいビニル（ヒドロキシナフタレン）（以下、（α置換）ビニル（ヒドロキシナフタレン）ということがある。）、（α置換）ビニル（ヒドロキシナフタレン）の水酸基の水素原子が置換基で置換された化合物、等が挙げられる。
ビニル（ヒドロキシナフタレン）は、ナフタレン環に、１つのビニル基と、少なくとも１つの水酸基とが結合した化合物である。ビニル基は、ナフタレン環の１位に結合していてもよく、２位に結合していてもよい。ナフタレン環に結合する水酸基の数は、１〜３が好ましく、１が特に好ましい。ナフタレン環における水酸基の結合位置は特に限定されない。ナフタレン環の１位または２位にビニル基が結合している場合、ナフタレン環の５〜８位のいずれかが好ましい。特に、水酸基の数が１つである場合は、ナフタレン環の５〜７位のいずれかが好ましく、５または６位が好ましい。水酸基の数が２以上の整数である場合は、任意の結合位置を組み合わせることができる。
ビニルナフタレンまたはその誘導体のナフタレン環に結合してもよい置換基としては、前記（α置換）スチレンのベンゼン環に結合してもよい置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。
（α置換）ビニル（ヒドロキシナフタレン）の水酸基の水素原子が有機基で置換された化合物における有機基としては、特に限定されないが、たとえば前記（α置換）アクリル酸エステルが有する有機基と同様のものが挙げられる。

【0064】

（α置換）アクリル酸またはそのエステルから誘導される構成単位として具体的には、下記一般式（Ｕ−１）で表される構成単位が挙げられる。
（α置換）アクリルアミドまたはその誘導体から誘導される構成単位から誘導される構成単位として具体的には、下記一般式（Ｕ−２）で表される構成単位が挙げられる。
（α置換）ビニル芳香族化合物のうち、（α置換）スチレンまたはその誘導体から誘導される構成単位として具体的には、下記一般式（Ｕ−３）で表される構成単位が挙げられる。また、（α置換）ビニルナフタレンまたはその誘導体から誘導される構成単位として具体的には、下記一般式（Ｕ−４）で表される構成単位が挙げられる。
Ｒにおける炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”はそれぞれ前記置換基（Ｒ^Ａ）として挙げたものと同様である。

【0065】

【化7】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”である。Ｘ^ａ〜Ｘ^ｄはそれぞれ独立に水素原子または有機基である。Ｒ^ｂは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基である。Ｒ^ｃおよびＲ^ｄはそれぞれ独立にハロゲン原子、−ＣＯＯＸ^ｅ（Ｘ^ｅは水素原子または有機基である。）、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基である。ｐｘは０〜３の整数であり、ｑｘは０〜５の整数であり、ｐｘ＋ｑｘは０〜５である。ｑｘが２以上の整数である場合、複数のＲ^ｃはそれぞれ同じであっても異なってもよい。ｘは０〜３の整数であり、ｙは０〜３の整数であり、ｚは０〜４の整数であり、ｘ＋ｙ＋ｚは０〜７である。ｙ＋ｚが２以上の整数である場合、複数のＲ^ｄはそれぞれ同じであっても異なってもよい。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0066】

（Ｘ）成分が、基（Ｉ）を含む構成単位（以下、構成単位（ｘ１）という。）を有する場合、該構成単位（ｘ１）としては、エチレン性二重結合を有する化合物から誘導される構成単位であって基（Ｉ）を含む構成単位が好ましく、下記一般式（ｘ１）で表される構成単位が特に好ましい。

【0067】

【化8】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”であり、Ｒ^１はフッ素原子を有する有機基であり、Ａは−Ｏ−又は−ＮＨであり、ｖは０又は１であり、Ｘ^０は単結合又は２価の連結基であり、Ｖ^０は２価の脂肪族炭化水素基である。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0068】

式（ｘ１）中、Ｒにおけるアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”はそれぞれ前記置換基（Ｒ^Ａ）として挙げたものと同様である。Ｒとしては、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、又は炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基が好ましく、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のフッ素化アルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が特に好ましい。
Ｒ^１は、前記式（Ｉ）中のＲ^１と同様である。
Ａは−Ｏ−又は−ＮＨであり、−Ｏ−であることが好ましい。
ｖは０又は１であり、１であることが好ましい。なお、ｖが０であるとは、式中の−Ｃ（＝Ｏ）−Ａ−が単結合となることを意味する。
Ｘ^０における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が好適なものとして挙げられる。

【0069】

（置換基を有していてもよい２価の炭化水素基）
２価の連結基としての２価の炭化水素基における「置換基を有していてもよい」とは、当該炭化水素基を構成する炭素原子の一部が酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよく、当該炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されてもよいことを示す。
該炭化水素基は、芳香族炭化水素基でもよく、脂肪族炭化水素基でもよい。
脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。該脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
該脂肪族炭化水素基として、より具体的には、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基等が挙げられる。

【0070】

前記直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が１〜１０であることが好ましく、１〜８がより好ましく、１〜５がさらに好ましい。
直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［−ＣＨ_２−］、エチレン基［−（ＣＨ_２）_２−］、トリメチレン基［−（ＣＨ_２）_３−］、テトラメチレン基［−（ＣＨ_２）_４−］、ペンタメチレン基［−（ＣＨ_２）_５−］等が挙げられる。
分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２−等のアルキルメチレン基；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２−ＣＨ_２−等のアルキルエチレン基；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−等のアルキルトリメチレン基；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素数１〜５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
前記直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、水素原子を置換する置換基（水素原子以外の基または原子）を有していてもよく、有していなくてもよい。該置換基としては、フッ素原子、フッ素原子で置換された炭素数１〜５のフッ素化アルキル基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。

【0071】

前記構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含んでもよい環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を２個除いた基）、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては前記と同様のものが挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が３〜２０であることが好ましく、３〜１２であることがより好ましく、５〜１０が特に好ましい。
環状の脂肪族炭化水素基は、多環式であってもよく、単環式であってもよい。単環式の脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては炭素数３〜６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂肪族炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては炭素数７〜１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、水素原子を置換する置換基（水素原子以外の基または原子）を有していてもよいし、有していなくてもよい。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であることが最も好ましい。
前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、その環構造を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。該ヘテロ原子を含む置換基としては、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−が好ましい。

【0072】

２価の炭化水素基としての芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する２価の炭化水素基であり、芳香環のみから構成されるものであってもよく、芳香環と、該芳香環に結合する脂肪族炭化水素基とから構成されるものであってもよい。
芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。たとえば当該芳香族炭化水素基が有する芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよく、当該芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。また、該芳香族炭化水素基が、芳香環に結合した脂肪族炭化水素基を有する場合、該脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されていてもよい。
該脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の置換基としては、それぞれ、前述した脂肪族炭化水素基、この後の説明で挙げるヘテロ原子を含む２価の連結基と同様のものが挙げられる。

【0073】

芳香族炭化水素基が有する芳香環は、４ｎ＋２個（ここでのｎは０と自然数を示す）のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の環骨格を構成する原子の数は、５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環；等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
２価の炭化水素基としての芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を２つ除いた基（アリーレン基またはヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（たとえばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を２つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）；等が挙げられる。前記アリール基またはヘテロアリール基に結合するアルキレン基の炭素数は、１〜４であることが好ましく、１〜２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
これらの芳香族炭化水素基の炭素数は５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。ただし、芳香族炭化水素基が、水素原子の一部または全部が置換基を有する場合、芳香族炭化水素基の炭素数には、該置換基における炭素数を含まないものとする。

【0074】

前記芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基（たとえば前記芳香族炭化水素基の芳香環に結合した水素原子を置換してもよい置換基や、芳香環に脂肪族炭化水素基が結合している場合に該脂肪族炭化水素基の水素原子を置換してもよい置換基）としては、たとえば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であることが最も好ましい。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。

【0075】

（ヘテロ原子を含む２価の連結基）
２価の連結基としての「ヘテロ原子を含む２価の連結基」におけるヘテロ原子とは、炭素原子および水素原子以外の原子であり、たとえば酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む２価の連結基として、具体的には、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＨ−Ｃ（＝ＮＨ）−、＝Ｎ−等の非炭化水素系連結基、これらの非炭化水素系連結基の少なくとも１種と２価の炭化水素基との組み合わせ等が挙げられる。該２価の炭化水素基としては、上述した置換基を有していてもよい２価の炭化水素基と同様のものが挙げられ、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましい。
上記のうち、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−中の−ＮＨ−、−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝ＮＨ）−中のＨは、それぞれ、アルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。該置換基の炭素数としては１〜１０であることが好ましく、炭素数１〜８であることがさらに好ましく、炭素数１〜５であることが特に好ましい。

【0076】

Ｘ^０としては、上記の中でも、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、置換基を有していてもよい環状の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、又はヘテロ原子を含む２価の連結基が好ましい。
Ｘ^０が直鎖状または分岐鎖状アルキレン基である場合、該アルキレン基は、炭素数１〜１０であることが好ましく、炭素数１〜６であることがさらに好ましく、炭素数１〜４であることが特に好ましく、炭素数１〜３であることが最も好ましい。具体的には、前記２価の連結基としての「置換基を有していてもよい２価の炭化水素基」の説明中、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基として挙げた直鎖状のアルキレン基、分岐鎖状のアルキレン基と同様のものが挙げられる。
Ｘ^０が置換基を有していてもよい環状の脂肪族炭化水素基である場合、該環状の脂肪族炭化水素基としては、前記２価の連結基としての「置換基を有していてもよい２価の炭化水素基」の説明中、「構造中に環を含む脂肪族炭化水素基」として挙げた環状の脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
該環状の脂肪族炭化水素基としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、ノルボルナン、イソボルナン、アダマンタン、トリシクロデカンまたはテトラシクロドデカンから水素原子が二個以上除かれた基が特に好ましい。また、これらの環状の脂肪族炭化水素基の環構造を構成する炭素原子の一部が−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−又は−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−で置換された基も好ましい。このような基としては、例えば、前記式（Ｉ）中のＲ^１における有機基の説明で挙げた式（Ｌ１）〜（Ｌ６）、（Ｓ１）〜（Ｓ４）で表される環式基からさらに水素原子を１つ除いた基等が挙げられる。
Ｘ^０が置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である場合、該芳香族炭化水素基としては、前記２価の連結基としての「置換基を有していてもよい２価の炭化水素基」の説明で挙げた芳香族炭化水素基と同様のものが挙げられる。なかでもフッ素原子で置換されていてもよいフェニレン基又はナフチレン基が好ましい。

【0077】

Ｘ^０がヘテロ原子を含む２価の連結基である場合、該連結基として好ましいものとして、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−（Ｈはアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい。）、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−、一般式−Ｙ^２１−Ｏ−Ｙ^２２−、−［Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_ｍ’−Ｙ^２２−または−Ｙ^２１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ^２２−で表される基［式中、Ｙ^２１およびＹ^２２はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい２価の炭化水素基であり、Ｏは酸素原子であり、ｍ’は０〜３の整数である。］等が挙げられる。
Ｘ^０が−ＮＨ−の場合、そのＨはアルキル基、アシル等の置換基で置換されていてもよい。該置換基（アルキル基、アシル基等）は、炭素数が１〜１０であることが好ましく、１〜８であることがさらに好ましく、１〜５であることが特に好ましい。
式−Ｙ^２１−Ｏ−Ｙ^２２−、−［Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_ｍ’−Ｙ^２２−または−Ｙ^２１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ^２２−中、Ｙ^２１およびＹ^２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基である。該２価の炭化水素基としては、前記２価の連結基としての説明で挙げた「置換基を有していてもよい２価の炭化水素基」と同様のものが挙げられる。
Ｙ^２１としては、直鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、直鎖状のアルキレン基がより好ましく、炭素数１〜５の直鎖状のアルキレン基がさらに好ましく、メチレン基またはエチレン基が特に好ましい。
Ｙ^２２としては、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましく、メチレン基、エチレン基またはアルキルメチレン基がより好ましい。該アルキルメチレン基におけるアルキル基は、炭素数１〜５の直鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３の直鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。
式−［Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_ｍ’−Ｙ^２２−で表される基において、ｍ’は０〜３の整数であり、０〜２の整数であることが好ましく、０または１がより好ましく、１が特に好ましい。つまり、式−［Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_ｍ’−Ｙ^２２−で表される基としては、式−Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｙ^２２−で表される基が特に好ましい。なかでも、式−（ＣＨ_２）_ａ’−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｂ’−で表される基が好ましい。該式中、ａ’は、１〜１０の整数であり、１〜８の整数が好ましく、１〜５の整数がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が最も好ましい。ｂ’は、１〜１０の整数であり、１〜８の整数が好ましく、１〜５の整数がより好ましく、１または２がさらに好ましく、１が最も好ましい。
Ｘ^０におけるヘテロ原子を含む２価の連結基としては、少なくとも１種と非炭化水素基と２価の炭化水素基との組み合わせからなる有機基が好ましい。なかでも、ヘテロ原子として酸素原子を有する直鎖状の基、例えばエーテル結合またはエステル結合を含む基、が好ましく、前記式−Ｙ^２１−Ｏ−Ｙ^２２−、−［Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_ｍ’−Ｙ^２２−または−Ｙ^２１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ^２２−で表される基がより好ましく、前記式−［Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_ｍ’−Ｙ^２２−または−Ｙ^２１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ^２２−で表される基好ましい。

【0078】

式（ｘ１）中、Ｖ^０における２価の脂肪族炭化水素基としては、前記Ｘ^０における２価の炭化水素基の説明で挙げた脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Ｖ^０としては、特に、炭素数１〜１０のアルキレン基が好ましい。
該アルキレン基は、直鎖状でも分岐鎖状でも構造中に環を含むものでもよく、直鎖状のアルキレン基が特に好ましい。
直鎖状のアルキレン基、分岐鎖状のアルキレン基の具体例はそれぞれ前記と同様のものが挙げられる。これら直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基は、水素原子を置換する置換基（水素原子以外の基または原子）を有していてもよく、有していなくてもよい。該置換基としては、フッ素原子、フッ素原子で置換された炭素数１〜５のフッ素化アルキル基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
構造中に環を含むアルキレン基の具体例としては、前記モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基、前記ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基等が挙げられる。これらの基は、水素原子を置換する置換基（水素原子以外の基または原子）を有していてもよいし、有していなくてもよい。該置換基としては、前記環状の脂肪族炭化水素基が有していてもよい、水素原子を置換する置換基として挙げたものと同様のものが挙げられ、例えばアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。

【0079】

構成単位（ｘ１）としてより具体的には、下記一般式（ｘ１−１）で表される構成単位、下記一般式（ｘ１−２）で表される構成単位等が挙げられる。

【0080】

【化9】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”であり、Ｖ^１は２価の炭化水素基であり、Ｖ^２は炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^２は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基である。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0081】

式（ｘ１−１）中、Ｒ、Ｒ^２はそれぞれ前記と同様である。
Ｖ^１における２価の炭化水素基としては、前記式（ｘ１）中のＸ^０における２価の炭化水素基と同様のものが挙げられる。
Ｖ^１としては、上記の中でも、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、置換基を有していてもよい環状の脂肪族炭化水素基、または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基が好ましく、環状の脂肪族炭化水素基がより好ましい。
環状の脂肪族炭化水素基としては、水素原子を置換する置換基を有していてもよいモノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基、水素原子を置換する置換基を有していてもよいポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基等が挙げられる。モノシクロアルカン、これらが有していてもよい水素原子を置換する置換基としてはそれぞれ前記と同様のものが挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基としては、水素原子を置換する置換基を有していてもよいポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、水素原子を置換する置換基を有していてもよいアダマンタンから２個の水素原子を除いた基が最も好ましい。
Ｒ^２における炭素数１〜５のフッ素化アルキル基としては、前記Ｒ^１の説明で挙げた飽和のフッ素化炭化水素基（フッ素化アルキル基）と同様のものが挙げられる。該フッ素化アルキル基は、直鎖状または分岐鎖状が好ましく、直鎖状がより好ましい。該フッ素化アルキル基のフッ素化率（無置換のアルキル基の水素原子がフッ素原子により置換された割合）は、２５％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。フッ素化率の上限は特に限定されず、１００％であってもよい。
Ｒ^２としては、−（ＣＨ_２）_ｎ１−Ｒ^ｆ１［ｎ１は０〜４の整数であり、Ｒ^ｆ１は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基である。ただし−（ＣＨ_２）_ｎ１−Ｒ^ｆ１全体の炭素数は１〜５である。］で表される基が好ましい。ｎ１は１〜３の整数が好ましい。Ｒ^ｆ１は炭素数が１〜２であることが好ましい。また、ｎが１以上の整数である場合、Ｒ^ｆ１は、パーフルオロアルキル基であることが好ましい。
−（ＣＨ_２）_ｎ１−Ｒ^ｆ１で表される基として具体的には、−ＣＦ_３、−ＣＨ_２−ＣＦ_３、−ＣＨ_２−ＣＦ_２−ＣＦ_３、−ＣＨ（ＣＦ_３）_２、−（ＣＨ_２）_２−（ＣＦ_２）_２−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_３−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_３−ＣＦ_２−ＣＦ_３、−（ＣＨ_２）_４−ＣＦ_３、等が挙げられる。
式（ｘ１−２）中、Ｒ、Ｒ^２、Ｖ^２はそれぞれ前記と同様である。

【0082】

構成単位（ｘ１）としては、上記の中でも、式（ｘ１−１）で表される構成単位が好ましく、下記一般式（ｘ１−１−１）で表される構成単位が特に好ましい。

【0083】

【化10】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”であり、Ｒ^２は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基であり、ｘ１は１〜６の整数であり、ｘ２は０または１であり、ｘ３は１〜３の整数であり、ｙ１は０〜３の整数であり、Ｒ^３は置換基である。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0084】

式（ｘ１−１−１）中、Ｒ、Ｒ^２はそれぞれ前記と同じである。
ｘ１としては、１〜６が好ましく、１〜２が特に好ましい。
ｘ２としては、０が好ましい。
ｘ３としては、１〜２が好ましく、１がより好ましい。またｘ３の［］内の基はアダマンチル基の３位に結合していることが好ましい。
ｙ１としては、０〜３が好ましく、０が特に好ましい。
Ｒ^３における置換基としては、前記環状の脂肪族炭化水素基が有していてもよい、水素原子を置換する置換基として挙げたものと同様のものが挙げられ、例えばアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。

【0085】

構成単位（ｘ１）は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
（Ｘ）成分中、構成単位（ｘ１）の割合は、（Ｘ）成分を構成する全構成単位の合計に対し、１０モル％以上が好ましく、２０モル％以上がより好ましく、３０モル％以上がさらに好ましい。構成単位（ｘ１）の割合を１０モル％以上とすることにより、レジストパターンの形成において露光した際に、充分な極性又は分子量の増大が起こり、良好なパターン形成を行うことができる。
構成単位（ｘ１）の割合の上限は特に限定されず、１００モル％であってもよい。任意に他の構成単位を含有させる場合は、該他の構成単位とのバランスを考慮して適宜設定できる。（Ｘ）成分が、構成単位（ｘ１）とその他の構成単位とを含む共重合体の場合、構成単位（ｘ１）の割合は、（Ｘ）成分を構成する全構成単位の合計に対し、１０〜９０モル％が好ましく、２０〜８０モル％がより好ましく、３０〜７０モル％がさらに好ましい。

【0086】

（Ｘ）成分は、本発明の効果を損なわない範囲で、前記構成単位（ｘ１）以外の構成単位を有していてもよい。かかる構成単位としては、構成単位（ｘ１）と共重合体を形成し得るものであれば特に限定されず、例えばＡｒＦエキシマレーザー用、ＫｒＦエキシマレーザー用（好ましくはＡｒＦエキシマレーザー用）等のレジスト組成物の基材成分として用いられている樹脂成分（ベース樹脂等）に用いられる構成単位として従来から知られている多数のものが使用可能である。
このような構成単位としては、例えば、
−ＳＯ_２−含有環式基またはラクトン含有環式基を含む構成単位（ｘ２）、
極性基を含む構成単位（ｘ３）、
等が挙げられる。

【0087】

［構成単位（ｘ２）］
構成単位（ｘ２）の−ＳＯ_２−含有環式基またはラクトン環式基は、（Ｘ）成分をレジスト膜の形成に用いた場合に、レジスト膜の基板への密着性を高めうえで有効なものである。また、構成単位（ｘ２）の割合を調整することで、有機系現像液に対する溶解速度を調整できる。例えば（Ｘ）成分中の構成単位（ｘ２）の割合が高いほど、露光後の（Ｘ）成分の極性が高まり、有機系現像液に対する溶解性が低下する。
なお、前記構成単位（ｘ１）がその構造中に−ＳＯ_２−含有環式基またはラクトン含有環式基を含むものである場合、該構成単位は構成単位（ｘ２）にも該当するが、このような構成単位は構成単位（ｘ１）に該当し、構成単位（ｘ２）には該当しないものとする。

【0088】

ここで、「−ＳＯ_２−含有環式基」とは、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環を含有する環式基を示し、具体的には、−ＳＯ_２−における硫黄原子（Ｓ）が環式基の環骨格の一部を形成する環式基である。その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環をひとつ目の環として数え、該環のみの場合は単環式基、さらに他の環構造を有する場合は、その構造に関わらず多環式基と称する。−ＳＯ_２−含有環式基は、単環式であってもよく、多環式であってもよい。
−ＳＯ_２−含有環式基は、特に、その環骨格中に−Ｏ−ＳＯ_２−を含む環式基、すなわち−Ｏ−ＳＯ_２−中の−Ｏ−Ｓ−が環骨格の一部を形成するサルトン（ｓｕｌｔｏｎｅ）環を含有する環式基であることが好ましい。
−ＳＯ_２−含有環式基は、炭素数が３〜３０であることが好ましく、４〜２０であることがより好ましく、４〜１５であることがさらに好ましく、４〜１２であることが特に好ましい。ただし、該炭素数は環骨格を構成する炭素原子の数であり、置換基における炭素数を含まないものとする。
−ＳＯ_２−含有環式基は、−ＳＯ_２−含有脂肪族環式基であってもよく、−ＳＯ_２−含有芳香族環式基であってもよい。好ましくは−ＳＯ_２−含有脂肪族環式基である。
−ＳＯ_２−含有脂肪族環式基としては、その環骨格を構成する炭素原子の一部が−ＳＯ_２−または−Ｏ−ＳＯ_２−で置換された脂肪族炭化水素環から水素原子を少なくとも１つ除いた基が挙げられる。より具体的には、その環骨格を構成する−ＣＨ_２−が−ＳＯ_２−で置換された脂肪族炭化水素環から水素原子を少なくとも１つ除いた基、その環を構成する−ＣＨ_２−ＣＨ_２−が−Ｏ−ＳＯ_２−で置換された脂肪族炭化水素環から水素原子を少なくとも１つ除いた基等が挙げられる。
該脂環式炭化水素環は、炭素数が３〜２０であることが好ましく、３〜１２であることがより好ましい。
該脂環式炭化水素環は、多環式であってもよく、単環式であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、炭素数３〜６のモノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該モノシクロアルカンとしてはシクロペンタン、シクロヘキサン等が例示できる。多環式の脂環式炭化水素環としては、炭素数７〜１２のポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとして具体的には、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。

【0089】

−ＳＯ_２−含有環式基は、置換基を有していてもよい。該置換基としては、たとえばアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、酸素原子（＝Ｏ）、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基、シアノ基等が挙げられる。Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。
該置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。該アルキル基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基またはエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
該置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。該アルコキシ基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、前記置換基としてのアルキル基として挙げたアルキル基に酸素原子（−Ｏ−）に結合した基が挙げられる。
該置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
該置換基のハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
該置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記置換基としてのアルキル基として挙げたアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン化アルキル基としてはフッ素化アルキル基が好ましく、特にパーフルオロアルキル基が好ましい。
前記−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”におけるＲ”は、前記置換基（Ｒ^Ａ）として挙げた−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”におけるＲ”と同様である。
該置換基としてのヒドロキシアルキル基としては、炭素数が１〜６であるものが好ましく、具体的には、前記置換基としてのアルキル基として挙げたアルキル基の水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換された基が挙げられる。
−ＳＯ_２−含有環式基として、より具体的には、下記一般式（３−１）〜（３−４）で表される基が挙げられる。

【0090】

【化11】

［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ｚは０〜２の整数であり、Ｒ^２７はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0091】

前記一般式（３−１）〜（３−４）中、Ａ’は、酸素原子（−Ｏ−）もしくは硫黄原子（−Ｓ−）を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子である。
Ａ’における炭素数１〜５のアルキレン基としては、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基等が挙げられる。
該アルキレン基が酸素原子または硫黄原子を含む場合、その具体例としては、前記アルキレン基の末端または炭素原子間に−Ｏ−または−Ｓ−が介在する基が挙げられ、たとえば−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−ＣＨ_２−等が挙げられる。
Ａ’としては、炭素数１〜５のアルキレン基または−Ｏ−が好ましく、炭素数１〜５のアルキレン基がより好ましく、メチレン基が最も好ましい。
ｚは０〜２のいずれであってもよく、０が最も好ましい。
ｚが２である場合、複数のＲ^２７はそれぞれ同じであってもよく、異なっていてもよい。
Ｒ^２７におけるアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基としては、それぞれ、前記で−ＳＯ_２−含有環式基が有していてもよい置換基として挙げたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基と同様のものが挙げられる。
以下に、前記一般式（３−１）〜（３−４）で表される具体的な環式基を例示する。なお、式中の「Ａｃ」はアセチル基を示す。

【0092】

【化12】

【0093】

【化13】

【0094】

【化14】

【0095】

−ＳＯ_２−含有環式基としては、上記の中でも、前記一般式（３−１）で表される基が好ましく、前記化学式（３−１−１）、（３−１−１８）、（３−３−１）および（３−４−１）のいずれかで表される基からなる群から選択される少なくとも一種を用いることがより好ましく、前記化学式（３−１−１）で表される基が最も好ましい。

【0096】

「ラクトン含有環式基」とは、その環骨格中に−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−を含む環（ラクトン環）を含有する環式基を示す。ラクトン環をひとつ目の環として数え、ラクトン環のみの場合は単環式基、さらに他の環構造を有する場合は、その構造に関わらず多環式基と称する。ラクトン含有環式基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよい。
構成単位（ｘ２）におけるラクトン環式基としては、特に限定されることなく任意のものが使用可能である。具体的には、ラクトン含有単環式基としては、４〜６員環ラクトンから水素原子を１つ除いた基、たとえばβ−プロピオノラクトンから水素原子を１つ除いた基、γ−ブチロラクトンから水素原子１つを除いた基、δ−バレロラクトンから水素原子を１つ除いた基等が挙げられる。また、ラクトン含有多環式基としては、ラクトン環を有するビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカンから水素原子一つを除いた基が挙げられる。

【0097】

構成単位（ｘ２）としては、−ＳＯ_２−含有環式基またはラクトン含有環式基を有するものであれば他の部分の構造は特に限定されないが、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって−ＳＯ_２−含有環式基を含む構成単位（ｘ２^Ｓ）、及びα位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であってラクトン含有環式基を含む構成単位（ｘ２^Ｌ）からなる群より選択される少なくとも１種の構成単位が好ましい。

【0098】

・構成単位（ｘ２^Ｓ）：
構成単位（ｘ２^Ｓ）の例として、より具体的には、下記一般式（ｘ２−０）で表される構成単位が挙げられる。

【0099】

【化15】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”であり、Ｒ^２８は−ＳＯ_２−含有環式基であり、Ｒ^２９は単結合または２価の連結基である。］

【0100】

式（ｘ２−０）中、Ｒは前記と同様である。
Ｒ^２８は、前記で挙げた−ＳＯ_２−含有環式基と同様である。
Ｒ^２９は、単結合、２価の連結基のいずれであってもよい。本発明の効果に優れることから、２価の連結基であることが好ましい。
Ｒ^２９における２価の連結基としては、特に限定されず、たとえば、前記式（ｘ１）中のＸ^０における２価の連結基と同様のものが挙げられる。それらの中でも、アルキレン基、またはエステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）を含むものが好ましい。
該アルキレン基は、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。具体的には、前記Ｘ^０における脂肪族炭化水素基として挙げた直鎖状のアルキレン基、分岐鎖状のアルキレン基と同様のものが挙げられる。
エステル結合を含む２価の連結基としては、特に、一般式：−Ｒ^３０−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−［式中、Ｒ^３０は２価の連結基である。］で表される基が好ましい。すなわち、構成単位（ｘ２^Ｓ）は、下記一般式（ｘ２−０−１）で表される構成単位であることが好ましい。

【0101】

【化16】

［式中、ＲおよびＲ^２８はそれぞれ前記と同様であり、Ｒ^３０は２価の連結基である。］

【0102】

Ｒ^３０としては、特に限定されず、たとえば、前記式（ｘ１）中のＸ^０における２価の連結基と同様のものが挙げられる。
Ｒ^３０の２価の連結基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基、またはヘテロ原子を含む２価の連結基が好ましく、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、またはヘテロ原子として酸素原子を含む２価の連結基が好ましい。
直鎖状のアルキレン基としては、メチレン基またはエチレン基が好ましく、メチレン基が特に好ましい。
分岐鎖状のアルキレン基としては、アルキルメチレン基またはアルキルエチレン基が好ましく、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−または−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−が特に好ましい。
酸素原子を含む２価の連結基としては、エーテル結合またはエステル結合を含む２価の連結基が好ましく、前述した、−Ｙ^２１−Ｏ−Ｙ^２２−、−［Ｙ^２１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ］_ｍ’−Ｙ^２２−または−Ｙ^２１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ^２２−がより好ましい。Ｙ^２１およびＹ^２２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい２価の炭化水素基であり、ｍ’は０〜３の整数である。なかでも、−Ｙ^２１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ^２２−が好ましく、−（ＣＨ_２）_ｃ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−（ＣＨ_２）_ｄ−で表される基が特に好ましい。ｃは１〜５の整数であり、１または２が好ましい。ｄは１〜５の整数であり、１または２が好ましい。

【0103】

構成単位（ｘ２^Ｓ）としては、特に、下記一般式（ｘ２−０−１１）または（ｘ２−０−１２）で表される構成単位が好ましく、式（ｘ２−０−１２）で表される構成単位がより好ましい。

【0104】

【化17】

［式中、Ｒ、Ａ’、Ｒ^２７、ｚおよびＲ^３０はそれぞれ前記と同じである。］

【0105】

式（ｘ２−０−１１）中、Ａ’はメチレン基、酸素原子（−Ｏ−）または硫黄原子（−Ｓ−）であることが好ましい。
Ｒ^３０としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、または酸素原子を含む２価の連結基が好ましい。Ｒ^３０における直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、酸素原子を含む２価の連結基としては、それぞれ、前記で挙げた直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、酸素原子を含む２価の連結基と同様のものが挙げられる。
式（ｘ２−０−１２）で表される構成単位としては、特に、下記一般式（ｘ２−０−１２ａ）または（ｘ２−０−１２ｂ）で表される構成単位が好ましい。

【0106】

【化18】

［式中、ＲおよびＡ’はそれぞれ前記と同じであり、ｃ〜ｅはそれぞれ独立に１〜３の整数である。］

【0107】

・構成単位（ｘ２^Ｌ）：
構成単位（ｘ２^Ｌ）の例としては、たとえば前記一般式（ｘ２−０）中のＲ^２８をラクトン含有環式基で置換したものが挙げられ、より具体的には、下記一般式（ｘ２−１）〜（ｘ２−５）で表される構成単位が挙げられる。

【0108】

【化19】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”であり；Ｒ’はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり；Ｒ^２９は単結合または２価の連結基であり、ｓ”は０〜２の整数であり；Ａ”は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり；ｍは０または１である。］

【0109】

一般式（ｘ２−１）〜（ｘ２−５）におけるＲは、前記同様である。
Ｒ’におけるアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基としては、それぞれ、前記で−ＳＯ_２−含有環式基が有していてもよい置換基として挙げたアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基と同様のものが挙げられる。
Ｒ’は、工業上入手が容易であること等を考慮すると、水素原子が好ましい。
Ａ”としては、前記一般式（３−１）中のＡ’と同様のものが挙げられる。Ａ”は、炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子（−Ｏ−）または硫黄原子（−Ｓ−）であることが好ましく、炭素数１〜５のアルキレン基または−Ｏ−がより好ましい。炭素数１〜５のアルキレン基としては、メチレン基またはジメチルメチレン基がより好ましく、メチレン基が最も好ましい。
Ｒ^２９は、前記一般式（ｘ２−０）中のＲ^２９と同様である。
式（ｘ２−１）中、ｓ”は１〜２であることが好ましい。
以下に、前記一般式（ｘ２−１）〜（ｘ２−５）で表される構成単位の具体例を例示する。以下の各式中、Ｒ^αは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。

【0110】

【化20】

【0111】

【化21】

【0112】

【化22】

【0113】

【化23】

【0114】

【化24】

【0115】

構成単位（ｘ２^Ｌ）としては、前記一般式（ｘ２−１）〜（ｘ２−５）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、一般式（ｘ２−１）〜（ｘ２−３）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種がより好ましく、前記一般式（ｘ２−１）または（ｘ２−３）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種が特に好ましい。
なかでも、前記式（ｘ２−１−１）、（ｘ２−１−２）、（ｘ２−２−１）、（ｘ２−２−７）、（ｘ２−２−１２）、（ｘ２−２−１４）、（ｘ２−３−１）、（ｘ２−３−５）で表される構成単位からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。

【0116】

また、構成単位（ｘ２^Ｌ）としては、下記式（ｘ２−６）〜（ｘ２−７）で表される構成単位も好ましい。

【0117】

【化25】

［式中、Ｒ、Ｒ^２９は前記と同様である。］

【0118】

（Ｘ）成分が有する構成単位（ｘ２）は１種でも２種以上でもよい。たとえば構成単位（ｘ２）として、構成単位（ｘ２^Ｓ）のみを用いてもよく、構成単位（ｘ２^Ｌ）のみを用いてもよく、それらを併用してもよい。また、構成単位（ｘ２^Ｓ）または構成単位（ｘ２^Ｌ）として、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（Ｘ）成分中、構成単位（ｘ２）の割合は、当該（Ｘ）成分を構成する全構成単位の合計に対し、０〜８０モル％であることが好ましく、１〜７０モル％であることがより好ましく、１０〜６５モル％であることがさらに好ましく、１０〜４０モル％が特に好ましい。下限値以上とすることにより構成単位（ｘ２）を含有させることによる効果が充分に得られ、上限値以下とすることにより他の構成単位とのバランスをとりやすくなる。

【0119】

［構成単位（ｘ３）］
（Ｘ）成分は、構成単位（ｘ１）に加えて、または構成単位（ｘ１）および（ｘ２）に加えて、極性基を含む構成単位（ｘ３）を有してもよい。構成単位（ｘ３）の割合を調整することで、有機系現像液に対する溶解速度を調整できる。例えば（Ｘ）成分中の構成単位（ｘ３）の割合が高いほど、露光後の（Ｘ）成分の極性が高まり、有機系現像液に対する溶解性が低下する。
極性基としては、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２、−ＣＯＮＨ_２、等が挙げられる。−ＣＯＯＨを含むものとしては、（α置換）アクリル酸の構成単位も含む。
構成単位（ｘ３）は、水素原子の一部が極性基で置換された炭化水素基を含む構成単位であることが好ましい。当該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であっても芳香族炭化水素基であってもよい。なかでも、当該炭化水素基は、脂肪族炭化水素基あることがより好ましい。
当該炭化水素基における脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状の炭化水素基（好ましくはアルキレン基）や、脂肪族環式基（単環式基、多環式基）が挙げられる。
該脂肪族環式基（単環式基、多環式基）としては、例えばＡｒＦエキシマレーザー用レジスト組成物用の樹脂において、多数提案されているものの中から適宜選択して用いることができる。該脂肪族環式基の炭素数は３〜３０であることが好ましく、５〜３０であることがより好ましく、５〜２０がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１２が最も好ましい。具体的には、たとえば、モノシクロアルカンから２個以上の水素原子を除いた基；ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカンなどのポリシクロアルカンから２個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。より具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンから２個以上の水素原子を除いた基；アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンなどのポリシクロアルカンから２個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。該脂肪族環式基は、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。置換基としては、炭素数１〜５のアルキル基、フッ素原子、炭素数１〜５のフッ素化アルキル基等が挙げられる。

【0120】

当該炭化水素基における芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素数は５〜３０であることが好ましく、５〜２０がより好ましく、６〜１５がさらに好ましく、６〜１２が特に好ましい。ただし、該炭素数には、置換基における炭素数を含まないものとする。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環；等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
２価の炭化水素基としての芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を２つ除いた基（アリーレン基またはヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（たとえばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を２つ除いた基；前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基等のアリールアルキル基やヘテロアリールアルキル基）における芳香環から水素原子をさらに１つ除いた基；等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子を置換するアルキレン基の炭素数は、１〜４であることが好ましく、１〜２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
該芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。たとえば当該芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、たとえば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、酸素原子（＝Ｏ）等が挙げられる。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であることが最も好ましい。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部又は全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。

【0121】

構成単位（ｘ３）としては、下記一般式（ｘ３−１）で表される構成単位が好ましい。

【0122】

【化26】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”である。Ｌ^０は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^ｎ−（Ｒ^ｎは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である）又は単結合である。Ｒ^０は−ＣＯＯＨ、または置換基として−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を有する炭化水素基であり、任意の位置に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0123】

式（ｘ３−１）中、Ｒは前記と同様である。
式（ｘ３−１）中、Ｌ^０は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^ｎ−（Ｒ^ｎは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である）又は単結合である。Ｒ^ｎのアルキル基としては、Ｒのアルキル基と同様のものが挙げられる。
式（ｘ３−１）中、Ｒ^０は、置換基として−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を有する炭化水素基であり、任意の位置に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。
「置換基を有する炭化水素基」とは、炭化水素基に結合した水素原子の少なくとも一部が置換基で置換されていることを意味する。
Ｒ^０における炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
Ｒ^０における脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐鎖状の炭化水素基（好ましくはアルキレン基）や、脂肪族環式基（単環式基、多環式基）が好適に挙げられ、これらの説明は上記と同様である。
Ｒ^０における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基であり、この説明は上記と同様である。
ただし、Ｒ^０は、任意の位置に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。この「任意の位置に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい」とは、炭化水素基、又は置換基を有する炭化水素基をそれぞれ構成する炭素原子（置換基部分の炭素原子を含む。）の一部が、酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよいこと、又は炭化水素基に結合した水素原子が酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよいこと、を意味する。
以下に、一例として任意の位置に酸素原子（Ｏ）を有するＲ^０について例示する。

【0124】

【化27】

［式中、Ｗ^００は炭化水素基であり、Ｒ^ｍは炭素数１〜５のアルキレン基である。］

【0125】

前記式中、Ｗ^００は炭化水素基であり、前記式（ｘ３−１）中のＲ^０と同様のものが挙げられる。Ｗ^００は、好ましくは脂肪族炭化水素基であり、より好ましくは脂肪族環式基（単環式基、多環式基）である。
Ｒ^ｍは、直鎖状、分岐鎖状であることが好ましく、炭素数１〜３のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基、エチレン基であることがより好ましい。

【0126】

構成単位（ｘ３）のなかで好適なものとして、より具体的には、（α置換）アクリル酸から誘導される構成単位、下記一般式（ｘ３−１１）〜（ｘ３−１３）のいずれかで表される構成単位等が挙げられる。
（α置換）アクリル酸から誘導される構成単位としては、前記式（ｘ３−１）中のＬ^０が単結合であり、Ｒ^０が−ＣＯＯＨである構成単位が挙げられる。

【0127】

【化28】

［式中、Ｒは前記と同様である。Ｗ^０１は置換基として−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を有する芳香族炭化水素基である。Ｐ^０２及びＰ^０３はそれぞれ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^ｎ−（Ｒ^ｎは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である）である。Ｗ^０２は置換基として−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を有する環状の炭化水素基であり、任意の位置に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。Ｗ^０３は置換基として−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を有する直鎖状の炭化水素基である。］

【0128】

［一般式（ｘ３−１１）で表される構成単位］
前記式（ｘ３−１１）中、Ｒは、前記式（ｘ３−１）中のＲの説明と同様である。
Ｗ^０１における芳香族炭化水素基は、前記式（ｘ３−１）中のＲ^０における芳香族炭化水素基の説明と同様である。
Ｗ^０１における芳香族炭化水素基は、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種以外の置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基等が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
以下に、一般式（ｘ３−１１）で表される構成単位の好適な具体例を示す。以下の各式中、Ｒ^αは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。

【0129】

【化29】

【0130】

［一般式（ｘ３−１２）で表される構成単位］
前記式（ｘ３−１２）中、Ｒは、前記式（ｘ３−１）中のＲの説明と同様である。
Ｐ^０２は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^ｎ−（Ｒ^ｎは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である）であり、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であることが好ましい。Ｒ^ｎのアルキル基としては、Ｒのアルキル基と同様である。
Ｗ^０２における環状の炭化水素基は、前記式（ｘ３−１）中のＲ^０についての説明の中で例示した脂肪族環式基（単環式基、多環式基）、芳香族炭化水素基とそれぞれ同様のものが挙げられる。
Ｗ^０２は、任意の位置に酸素原子又は硫黄原子を有していてもよく、この説明は前記式（ｘ３−１）中のＲ^０の説明と同様である。
以下に、一般式（ｘ３−１２）で表される構成単位の好適な具体例を示す。以下の各式中、Ｒ^αは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。

【0131】

【化30】

【0132】

［一般式（ｘ３−１３）で表される構成単位］
前記式（ｘ３−１３）中、Ｒは、前記式（ｘ３−１）中のＲの説明と同様である。
Ｐ^０３は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ^ｎ−（Ｒ^ｎは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である）であり、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であることが好ましい。Ｒ^ｎのアルキル基としては、Ｒのアルキル基と同様である。
Ｗ^０３における直鎖状の炭化水素基は、炭素数１〜１０であることが好ましく、炭素数１〜５であることがより好ましく、炭素数１〜３であることがさらに好ましい。
Ｗ^０３における直鎖状の炭化水素基は、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２以外の置換基（ａ）をさらに有していてもよい。
この置換基（ａ）としては、炭素数１〜５のアルキル基、脂肪族環式基（単環式基、多環式基）、フッ素原子、炭素数１〜５のフッ素化アルキル基等が挙げられる。置換基（ａ）における脂肪族環式基（単環式基、多環式基）の炭素数は３〜３０であることが好ましく、５〜３０であることがより好ましく、５〜２０がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１２が最も好ましい。具体的には、たとえば、モノシクロアルカンから２個以上の水素原子を除いた基；ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。より具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンから２個以上の水素原子を除いた基；アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。
また、Ｗ^０３における直鎖状の炭化水素基は、一例として下記一般式（ｘ３−１３−ａ）で表される構成単位のように、複数の置換基（ａ）を有してもよく、複数の置換基（ａ）同士が相互に結合して環が形成されてもよい。

【0133】

【化31】

［式中、Ｒは前記と同様である。Ｒ^ａ１及びＲ^ａ２はそれぞれ独立に炭素数１〜５のアルキル基、脂肪族環式基（単環式基、多環式基）、フッ素原子、又は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基である。但し、Ｒ^ａ１とＲ^ａ２とが相互に結合して環を形成してもよい。ｑ^０は１〜４の整数である。］

【0134】

前記式（ｘ３−１３−ａ）中、Ｒは、前記式（ｘ３−１）中のＲの説明と同様である。
Ｒ^ａ１及びＲ^ａ２における脂肪族環式基（単環式基、多環式基）は、前記置換基（ａ）における脂肪族環式基（単環式基、多環式基）と同様である。
また、Ｒ^ａ１とＲ^ａ２とは、相互に結合して環を形成してもよい。この場合、Ｒ^ａ１と、Ｒ^ａ２と、Ｒ^ａ１とＲ^ａ２とが共に結合した炭素原子とにより環式基が形成される。該環式基としては、単環式基であってもよく、多環式基であってもよく、具体的には、前記置換基（ａ）における脂肪族環式基（単環式基、多環式基）についての説明の中で例示したモノシクロアルカン又はポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が挙げられる。
ｑ^０は１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。

【0135】

以下に、一般式（ｘ３−１３）で表される構成単位の好適な具体例を示す。以下の各式中、Ｒ^αは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。

【0136】

【化32】

【0137】

（Ｘ）成分が有する構成単位（ｘ３）は１種であっても２種以上であってもよい。
（Ｘ）成分中、構成単位（ｘ３）の割合は、当該（Ｘ）成分を構成する全構成単位に対して０〜８５モル％であることが好ましく、０〜８０モル％がより好ましく、１〜３０モル％がさらに好ましい。構成単位（ｘ３）の割合を下限値以上とすることにより、構成単位（ｘ３）を含有させることによる効果（解像性、リソグラフィー特性、パターン形状の向上効果）が充分に得られ、上限値以下とすることにより、他の構成単位とのバランスをとりやすくなる。

【0138】

（Ｘ）成分の質量平均分子量（Ｍｗ）（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算基準）は、特に限定されるものではなく、１０００〜５００００が好ましく、１５００〜３００００がより好ましく、２０００〜２５０００が最も好ましい。この範囲の上限値以下であると、レジストとして用いるのに充分なレジスト溶剤への溶解性があり、この範囲の下限値以上であると、耐ドライエッチング性やレジストパターン断面形状が良好である。
分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、特に限定されず、１．０〜５．０が好ましく、１．０〜３．０がより好ましく、１．０〜２．５が最も好ましい。なお、Ｍｎは数平均分子量を示す。

【0139】

（Ｘ）成分は、各構成単位を誘導するモノマーを、例えばアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）のようなラジカル重合開始剤を用いた公知のラジカル重合等によって重合させることによって得ることができる。
また、（Ｘ）成分には、上記重合の際に、たとえばＨＳ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｃ（ＣＦ_３）_２−ＯＨのような連鎖移動剤を併用して用いることにより、末端に−Ｃ（ＣＦ_３）_２−ＯＨ基を導入してもよい。このように、アルキル基の水素原子の一部がフッ素原子で置換されたヒドロキシアルキル基が導入された共重合体は、現像欠陥の低減やＬＥＲ（ラインエッジラフネス：ライン側壁の不均一な凹凸）の低減に有効である。
各構成単位を誘導するモノマーは、公知の方法を利用して合成したものを用いることができる。また、市販されているモノマーであれば市販のものを用いてもよい。

【0140】

レジスト組成物において、（Ｘ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
レジスト組成物中、（Ｘ）成分の含有量は、形成しようとするレジスト膜厚等に応じて調整すればよい。

【0141】

＜（Ｙ）成分＞
（Ｙ）成分は、露光（放射線の照射）により塩基を発生する塩基発生剤成分である。
（Ｙ）成分としては、露光により分解して塩基を発生し得るものであればよく、光塩基発生剤として公知の化合物のなかから適宜選択して用いることができる。
（Ｙ）成分としては、例えば、カルバメート基（ウレタン結合）を含む化合物、アシルオキシイミノ基を含む化合物、イオン系の化合物（アニオン−カチオン複合体）、カルバモイルオキシイミノ基を含む化合物等が挙げられる。これらの中での、カルバメート基（ウレタン結合）を含む化合物、アシルオキシイミノ基を含む化合物、イオン系の化合物（アニオン−カチオン複合体）が好ましい。
また、分子内に環構造を有しているものが好ましく、当該環構造としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、キサントン、チオキサントン、アントラキノン、フルオレン等の環骨格を有するものが挙げられる。

【0142】

（Ｙ）成分としては、光分解性の点から、下記一般式（Ｙ１）で表される化合物（以下「（Ｙ１）成分」という）が特に好ましい。（Ｙ１）成分は、上記のうち、カルバメート基（ウレタン結合）を含む化合物に該当する。
この（Ｙ１）成分に対して放射線を照射すると、少なくとも、該式（Ｙ１）中の窒素原子と、該窒素原子に隣接するカルボニル基の炭素原子との間の結合が切断されてアミンまたはアンモニアと、二酸化炭素とが生成する。分解の後、−Ｎ（Ｒ^０１）（Ｒ^０２）を有する生成物の沸点が高いことが好ましい。また、−Ｎ（Ｒ^０１）（Ｒ^０２）を有する生成物の分子量が大きいこと、又は嵩高い骨格を有することが、ＰＥＢ時の拡散制御の点で好ましい。

【0143】

【化33】

［式中、Ｒ^０１およびＲ^０２はそれぞれ独立にヘテロ原子を含んでいてもよい１価の炭化水素基または水素原子であり、Ｒ^０１およびＲ^０２が相互に結合して隣接する窒素原子とともに環式基を形成してもよく；Ｒ^０３は１価の光官能基である。］

【0144】

式（Ｙ１）中、Ｒ^０１、Ｒ^０２における炭化水素基が有していてもよいヘテロ原子は、炭素原子および水素原子以外の原子であり、たとえば酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
ヘテロ原子を含んでいてもよい１価の炭化水素基は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基でもよく、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基でもよく、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基であることが好ましい。
「置換基を有していてもよい」とは、当該芳香族炭化水素基又は脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部が酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよく、当該芳香族炭化水素基又は脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されてもよいことを示す。

【0145】

Ｒ^０１、Ｒ^０２における置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基において、芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基であり、芳香環のみから構成されるものであってもよく、芳香環と、該芳香環に結合する脂肪族炭化水素基とから構成されるものであってもよい。
芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。たとえば当該芳香族炭化水素基が有する芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよく、当該芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。また、該芳香族炭化水素基が、芳香環に結合した脂肪族炭化水素基を有する場合、該脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されていてもよい。
該脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の置換基としては、それぞれ、この後に示す、Ｒ^０１、Ｒ^０２における脂肪族炭化水素基の説明で挙げる脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の置換基と同様のものが挙げられる。

【0146】

芳香族炭化水素基が有する芳香環は、４ｎ＋２個（ここでのｎは０と自然数を示す）のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の環骨格を構成する原子の数は、５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環；等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（たとえばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基等のアリールアルキル基や、ヘテロアリールアルキル基）；等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子を置換するアルキレン基の炭素数は、１〜４であることが好ましく、１〜２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
これらの芳香族炭化水素基の炭素数は５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。ただし、芳香族炭化水素基が、水素原子の一部または全部が置換基を有する場合、芳香族炭化水素基の炭素数には、該置換基における炭素数を含まないものとする。

【0147】

Ｒ^０１、Ｒ^０２における芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基（たとえば前記芳香族炭化水素基の芳香環に結合した水素原子を置換してもよい置換基や、芳香環に脂肪族炭化水素基が結合している場合に該脂肪族炭化水素基の水素原子を置換してもよい置換基）としては、たとえば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ_２、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ”_２、−Ｒ^９’−Ｎ（Ｒ^１０’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^５’、含窒素複素環式基等が挙げられる。

【0148】

該置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましい。該アルキル基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基またはエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
該置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。該アルコキシ基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、前記置換基としてのアルキル基として挙げたアルキル基に酸素原子（−Ｏ−）に結合した基が挙げられる。
該置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
該置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記置換基としてのアルキル基として挙げたアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン化アルキル基としてはフッ素化アルキル基が好ましく、特にパーフルオロアルキル基が好ましい。
該置換基としてのヒドロキシアルキル基としては、炭素数が１〜６であるものが好ましく、具体的には、前記置換基としてのアルキル基として挙げたアルキル基の水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換された基が挙げられる。
該置換基としての−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、−ＮＲ”_２におけるＲ”は、いずれも、水素原子またはアルキル基である。
前記−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、−ＮＲ”_２におけるＲ”は、前記置換基（Ｒ^Ａ）として挙げた−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”におけるＲ”と同様である。
−ＮＲ”_２における２つのＲ”は、同じであっても異なっていてもよい。

【0149】

前記−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ_２におけるＲは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基である。
Ｒにおけるアルキル基、ハロゲン化アルキル基としては、それぞれ、前記α置換アクリル酸またはそのエステルのα位の炭素原子に結合する置換基として挙げたアルキル基、ハロゲン化アルキル基と同様のものが挙げられる。
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ_２としては、Ｒが水素原子又はメチル基であるもの、すなわち（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。（メタ）アクリロイルオキシ基は、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を示す。

【0150】

前記−Ｒ^９’−Ｎ（Ｒ^１０’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^５’中、Ｒ^９’はヘテロ原子を含んでいてもよい２価の炭化水素基であり、Ｒ^１０’はヘテロ原子を含んでいてもよい１価の炭化水素基または水素原子であり、Ｒ^５’は脂肪族環または芳香族環を有する１価の有機基である。
Ｒ^９’における炭化水素基としては、たとえば、式（Ｙ１）中のＲ^０１における炭化水素基から水素原子を１個除いた基が挙げられる。
Ｒ^１０’、Ｒ^５’はそれぞれ、式（Ｙ１）中のＲ^０２、Ｒ^０３と同様のものが挙げられる。
−Ｒ^９’−Ｎ（Ｒ^１０’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^５’中、Ｒ^１０’は、Ｒ^９’に結合して環を形成していてもよい。
式（Ｙ１）中のＲ^０１およびＲ^０２のうち、たとえばＲ^０１が置換基として−Ｒ^９’−Ｎ（Ｒ^１０’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^５’を有する場合、該式中のＲ^１０’が、式（Ｙ１）中のＲ^０２に結合して環を形成していてもよい。
式（Ｙ１）中のＲ^０１およびＲ^０２のうち、Ｒ^０１が置換基として−Ｒ^９’−Ｎ（Ｒ^１０’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^５’を有する場合の（Ｙ１）成分としては、次の一般式：Ｒ^５’−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ^１０’）−Ｒ^４−Ｎ（Ｒ^０２）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^０３［式中、Ｒ^０２〜Ｒ^０３、Ｒ^１０’、Ｒ^５’はそれぞれ前記と同じであり、Ｒ^４は２価の脂肪族炭化水素基である。］で表される化合物が好ましい。
Ｒ^４の２価の脂肪族炭化水素基としては、たとえばこの後に示す、Ｒ^０１、Ｒ^０２における脂肪族炭化水素基から水素原子を１個除いた基が挙げられる。

【0151】

前記置換基としての含窒素複素環式基は、環骨格に窒素原子を含む含窒素複素環式化合物から１つ以上の水素原子を除いた基である。含窒素複素環式化合物は、その環骨格に、炭素原子および窒素原子以外のヘテロ原子（たとえば酸素原子、硫黄原子等）を有していてもよい。
含窒素複素環式化合物は、芳香族であってもよく、脂肪族であってもよい。また、脂肪族である場合、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。また、含窒素複素環式化合物は、単環式であってもよく、多環式であってもよい。
含窒素複素環式化合物の炭素数は、３〜３０であることが好ましく、５〜３０であることがより好ましく、５〜２０がさらに好ましい。
単環式の含窒素複素環式化合物の具体例としては、ピロール、ピリジン、イミダゾール、ピラゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、テトラゾール、ピペリジン、ピペラジン、ピロリジン、モルホリン等が挙げられる。
多環式の含窒素複素環式化合物の具体例としては、キノリン、イソキノリン、インドール、ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン、インダゾール、ベンゾイミダゾール（ベンズイミダゾール）、ベンゾトリアゾール、カルバゾール、アクリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、ヘキサメチレンテトラミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等が挙げられる。
該含窒素複素環式基は、置換基を有していてもよい。該置換基としては、たとえば、前記芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子を置換する置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。

【0152】

式（Ｙ１）中、Ｒ^０１、Ｒ^０２における置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基において、脂肪族炭化水素基は、飽和（アルキル基）であってもよく、不飽和であってもよい。通常は飽和であることが好ましい。また、該脂肪族炭化水素基は、それぞれ、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよく、それらの組み合わせであってもよい。該組み合わせとして、たとえば、環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基、などが挙げられる。
直鎖状または分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数が１〜２０であることが好ましく、１〜１５であることがより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。
直鎖状のアルキル基として具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状のアルキル基として具体的には、例えば、１−メチルエチル基（ｉｓｏ−プロピル基）、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基などが挙げられる。
環状のアルキル基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよい。その炭素数は３〜３０であることが好ましく、５〜３０であることがより好ましく、５〜２０がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１２が最も好ましい。具体的には、たとえば、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基；ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカンなどのポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基などが挙げられる。より具体的には、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基として、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基として、アダマンチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。

【0153】

該脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。たとえば当該脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部が、ヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されていてもよい。
ヘテロ原子を含む２価の置換基において、ヘテロ原子としては、前記芳香族複素環におけるヘテロ原子として挙げたものと同様のものが挙げられる。具体的には、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む２価の置換基としては、たとえば、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^０４−（Ｒ^０４はアルキル基、アシル基等の置換基である。）、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、＝Ｎ−等の、ヘテロ原子を含む２価の非炭化水素基が挙げられる。また、これらの「ヘテロ原子を含む２価の非炭化水素基」と２価の脂肪族炭化水素基との組み合わせ等が挙げられる。２価の脂肪族炭化水素基としては、上述した脂肪族炭化水素基から水素原子を１個除いた基が挙げられ、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基が好ましい。
後者の例における脂肪族炭化水素基の置換基としては、たとえば、前記芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子を置換する置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。

【0154】

前記一般式（Ｙ１）中、Ｒ^０１およびＲ^０２が相互に結合して隣接する窒素原子とともに環式基を形成してもよい。
該環式基は、芳香族環式基であってもよく、脂肪族環式基であってもよい。脂肪族環式基である場合、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。通常、飽和であることが好ましい。
該環式基は、その環骨格に、Ｒ^０１およびＲ^０２が結合した窒素原子以外の窒素原子を有していてもよい。また、環骨格に、炭素原子および窒素原子以外のヘテロ原子（たとえば酸素原子、硫黄原子等）を有していてもよい。
該環式基は、単環式であってもよく、多環式であってもよい。
単環式である場合、該環式基の骨格を構成する原子の数は、４〜７が好ましく、５〜６がより好ましい。すなわち、該環式基は、４〜７員環が好ましく、５〜６員環がより好ましい。単環式の環式基の具体例としては、ピペリジン、ピロリジン、モルホリン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、ピペラジン等の、環構造中に−ＮＨ−を有する複素単環式化合物の該−ＮＨ−から水素原子を除いた基が挙げられる。
多環式である場合、該環式基は、二環式、三環式または四環式であることが好ましく、また、該環式基の骨格を構成する原子の数は、７〜１２が好ましく、７〜１０がより好ましい。多環式の含窒素複素環式基の具体例としては、インドール、イソインドール、カルバゾール、ベンゾイミダゾール、インダゾール、ベンゾトリアゾール等の、環構造中に−ＮＨ−を有する複素多環式化合物の該−ＮＨ−から水素原子を除いた基が挙げられる。
該環式基は、置換基を有していてもよい。該置換基としては、たとえば、前記芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子を置換する置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。
Ｒ^０１およびＲ^０２が相互に結合して隣接する窒素原子とともに形成する環式基としては、特に、下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。

【0155】

【化34】

［式中、Ｒ^０５およびＲ^０６はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基であり；Ｒ^０７は、炭素原子が酸素原子または窒素原子で置換されていてもよく、水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数１〜３の直鎖状のアルキレン基である。］

【0156】

式（ＩＩ）中、Ｒ^０５、Ｒ^０６におけるアルキル基としては、前記Ｒ^０１、Ｒ^０２における脂肪族炭化水素基の説明で挙げたアルキル基と同様のものが挙げられ、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
Ｒ^０７において、炭素原子が酸素原子または窒素原子で置換されていてもよいアルキレン基としては、たとえば、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−ＣＨ_２−ＮＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＮＨ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＮＨ−ＣＨ_２−等が挙げられる。
該アルキレン基の水素原子を置換する置換基としては、前記芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子を置換する置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。該置換基で置換される水素原子は、炭素原子に結合した水素原子であってもよく、窒素原子に結合した水素原子であってもよい。

【0157】

式（Ｙ１）中、Ｒ^０３は１価の光官能基である。
ここでいう「光官能基」とは、レジストパターン形成時に露光工程で行う露光の露光エネルギーを吸収する基のことをいう。
当該光官能基としては、環含有基が好ましく、炭化水素環であってもよく複素環であってもよく、好ましくは上記Ｒ^０１およびＲ^０２について説明した環構造を有する基、その他芳香族環を有する基が挙げられる。環含有基の環骨格として具体的には、ベンゼン、ビフェニル、インデン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、キサントン、チオキサントン、アントラキノン等が好ましいものとして挙げられる。
また、これらの環骨格は置換基を有していてもよく、置換基としては、塩基発生効率の点から、ニトロ基が特に好ましい。

【0158】

（Ｙ１）成分としては、特に、下記一般式（Ｙ１−１１）又は（Ｙ１−１２）で表される化合物からなる群から選ばれるものが好ましい。

【0159】

【化35】

［式中、Ｒ^４ａ〜Ｒ^４ｂはそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン、ビフェニル、インデン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、キサントン、チオキサントンおよびアントラキノンから選ばれる環骨格であり、Ｒ^１ａ及びＲ^２ａはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、Ｒ^１１ａは炭素数１〜５のアルキル基、水酸基又は（メタ）アクリロイルオキシ基であり、ｍ”は０又は１であり、ｎ”は０〜３の整数であり、ｐ”は０〜３の整数である。］

【0160】

式（Ｙ１−１１）、（Ｙ１−１２）中、Ｒ^４ａ〜Ｒ^４ｂは、置換基としてニトロ基を有することが塩基発生効率の点で好ましく、オルト位に置換されていることが特に好ましい。
Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａとしては、それぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、アリール基であることが好ましく、なかでも炭素数５〜１０のシクロアルキル基であることが、発生する塩基の拡散長制御の点でより好ましい。Ｒ^１ａ、Ｒ^２ａにおけるアリール基としては、フェニル基であることが好ましい。
ｍ”は１が好ましい。ｎ”は０〜２が好ましい。ｐ”は０または１が好ましい。

【0161】

以下に、（Ｙ１）成分の具体例を示す。

【0162】

【化36】

【0163】

【化37】

【0164】

上記（Ｙ１）成分以外に、（Ｙ）成分のなかで好適なものとして、下記一般式（Ｃ２）で表される化合物（以下「（Ｙ２）成分」という）も挙げられる。
（Ｙ２）成分は、露光工程での露光により露光エネルギーを吸収した後、（−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−）部分がシス体へと異性化し、さらに加熱によって環化し、塩基（ＮＨＲ^０１Ｒ^０２）を生成する。

【0165】

【化38】

［式（Ｙ２）中、Ｒ^０１及びＲ^０２は、上記式（Ｙ１）中のＲ^０１及びＲ^０２と同様であり、Ｒ^３’はオルト位に水酸基を有する芳香族環式基である。］

【0166】

前記式（Ｙ２）中、Ｒ^０１及びＲ^０２は、相互に結合して隣接する窒素原子とともに前記式（ＩＩ）で表される環式基を形成していることが好ましい。または、Ｒ^０１及びＲ^０２は、前記式（Ｙ１−１２）におけるＲ^１ａ及びＲ^２ａと同様、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましい。
Ｒ^３’における芳香族環式基は、上記式（Ｙ１）におけるＲ^０３で例示した芳香族環を有する基と同様のものが挙げられ、その環骨格としてはベンゼン、ビフェニル、インデン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレンが好ましく、ベンゼン環がより好ましい。
Ｒ^３’の芳香族環式基は、オルト位の水酸基以外にも置換基を有していてもよく、該置換基としてはハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、スルフィド基、シリル基、シラノール基、ニトロ基、ニトロソ基、スルフィノ基、スルホ基、スルホナト基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスホノ基、ホスホナト基、アミノ基、アンモニオ基、その他アルキル基等の１価の有機基が挙げられる。

【0167】

以下に、（Ｙ２）成分の具体例を示す。

【0168】

【化39】

【0169】

上記（Ｙ１）成分及び（Ｙ２）成分以外に、（Ｙ）成分のなかで好適なものとして、下記一般式（Ｙ３）で表される化合物（以下「（Ｙ３）成分」という）も挙げられる。
（Ｙ３）成分は、露光工程での露光により露光エネルギーを吸収した後、脱炭酸し、その後、水と反応してアミン（塩基）を生じるものである。

【0170】

【化40】

［式中、Ｒ^ａおよびＲ^ｄは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の炭化水素基または水素原子であり（ただし、Ｒ^ａおよびＲ^ｄがともに置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の炭化水素基である場合は、互いに結合して環を形成するものとし）；Ｒ^ｂは置換基を有していてもよいアリール基または脂肪族環式基である。］

【0171】

前記式（Ｙ３）中、Ｒ^ａは、置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の炭化水素基または水素原子である。
Ｒ^ａの置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の炭化水素基における「置換基を有していてもよい」とは、当該炭化水素基を構成する炭素原子の一部が酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよく、当該炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されてもよいことを示す。
該炭化水素基は、芳香族炭化水素基でもよく、脂肪族炭化水素基でもよい。

【0172】

芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基であり、芳香環のみから構成されるものであってもよく、芳香環と、該芳香環に結合する脂肪族炭化水素基とから構成されるものであってもよい。
芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。たとえば当該芳香族炭化水素基が有する芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されていてもよく、当該芳香族炭化水素基が有する芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。また、該芳香族炭化水素基が、芳香環に結合した脂肪族炭化水素基を有する場合、該脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む２価の置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部が置換基で置換されていてもよい。
該脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の置換基としては、それぞれ、この後に示す、Ｒ^ａにおける脂肪族炭化水素基の説明で挙げる脂肪族炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の置換基と同様のものが挙げられる。

【0173】

芳香族炭化水素基が有する芳香環は、４ｎ＋２個（ここでのｎは０と自然数を示す）のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の環骨格を構成する原子の数は、５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環；等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（たとえばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（たとえば、ベンジル基、フェネチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基等のアリールアルキル基や、ヘテロアリールアルキル基）；等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子を置換するアルキレン基の炭素数は、１〜４であることが好ましく、１〜２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
これらの芳香族炭化水素基の炭素数は５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましく、５〜１５がさらに好ましく、６〜１５が特に好ましく、６〜１０が最も好ましい。ただし、芳香族炭化水素基が、水素原子の一部または全部が置換基を有する場合、芳香族炭化水素基の炭素数には、該置換基における炭素数を含まないものとする。

【0174】

Ｒ^ａにおける芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基（たとえば前記芳香族炭化水素基の芳香環に結合した水素原子を置換してもよい置換基や、芳香環に脂肪族炭化水素基が結合している場合に該脂肪族炭化水素基の水素原子を置換してもよい置換基）としては、たとえば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）等が挙げられる。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であることが最も好ましい。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記芳香族炭化水素基の置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。

【0175】

Ｒ^ａにおける脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよい。
Ｒ^ａにおいて、脂肪族炭化水素基は、当該脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部がヘテロ原子を含む置換基で置換されていてもよい。該ヘテロ原子としては、炭素原子および水素原子以外の原子であれば特に限定されず、たとえばハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む置換基は、前記ヘテロ原子のみからなるものであってもよく、前記ヘテロ原子以外の基または原子を含む基であってもよい。
炭素原子の一部を置換する置換基として、具体的には、たとえば−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−（Ｈがアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい）、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−等が挙げられる。脂肪族炭化水素基が環状である場合、これらの置換基を環構造中に含んでいてもよい。
水素原子の一部または全部を置換する置換基として、具体的には、たとえばアルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、シアノ基等が挙げられる。
前記アルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記ハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。

【0176】

脂肪族炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状の飽和炭化水素基、直鎖状もしくは分岐鎖状の１価の不飽和炭化水素基、または環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族環式基）が好ましい。
直鎖状の飽和炭化水素基（アルキル基）としては、炭素数が１〜２０であることが好ましく、１〜１５であることがより好ましく、１〜１０が最も好ましい。具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基等が挙げられる。
分岐鎖状の飽和炭化水素基（アルキル基）としては、炭素数が３〜２０であることが好ましく、３〜１５であることがより好ましく、３〜１０が最も好ましい。具体的には、例えば、１−メチルエチル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基などが挙げられる。

【0177】

不飽和炭化水素基としては、炭素数が２〜１０であることが好ましく、２〜５が好ましく、２〜４が好ましく、３が特に好ましい。直鎖状の１価の不飽和炭化水素基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブチニル基などが挙げられる。分岐鎖状の１価の不飽和炭化水素基としては、例えば、１−メチルプロペニル基、２−メチルプロペニル基などが挙げられる。
不飽和炭化水素基としては、上記の中でも、特にプロペニル基が好ましい。

【0178】

環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族環式基）は置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の脂肪族環式基である。
Ｒ^ａにおいて、脂肪族環式基は、当該脂肪族環式基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族環式基を構成する水素原子の一部または全部がヘテロ原子を含む置換基で置換されていてもよい。該ヘテロ原子としては、炭素原子および水素原子以外の原子であれば特に限定されず、たとえばハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む置換基は、前記ヘテロ原子のみからなるものであってもよく、前記ヘテロ原子以外の基または原子を含む基であってもよい。
炭素原子の一部を置換する置換基として具体的には、たとえば−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−（Ｈがアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい）、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−等が挙げられる。これらの置換基は、環構造中に含まれていてもよい。
水素原子の一部または全部を置換する置換基として具体的には、たとえばアルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、酸素原子（＝Ｏ）、シアノ基等が挙げられる。
前記アルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記ハロゲン化アルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。

【0179】

脂肪族環式基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよい。その炭素数は３〜３０であり、５〜３０であることが好ましく、５〜２０がより好ましく、６〜１５がさらに好ましく、６〜１２が特に好ましい。
具体的には、たとえば、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。より具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。
脂肪族環式基が、その環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含まない場合は、脂肪族環式基としては、多環式基が好ましく、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましく、アダマンタンから１個以上の水素原子を除いた基が最も好ましい。
脂肪族環式基が、その環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含むものである場合、該ヘテロ原子を含む置換基としては、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−が好ましい。かかる脂肪族環式基の具体例としては、たとえば前記一般式（Ｉ）中のＲ^１の説明で挙げた式（Ｌ１）〜（Ｌ６）、（Ｓ１）〜（Ｓ４）で表される環式基等が挙げられる。

【0180】

Ｒ^ａにおける置換基を有していてもよい脂肪族環式基としては、置換基を有していてもよい多環式の脂肪族環式基が好ましい。該多環式の脂肪族環式基としては、前記ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基、前記（Ｌ２）〜（Ｌ６）、（Ｓ３）〜（Ｓ４）で表される基等が好ましい。

【0181】

前記式（Ｙ３）中のＲ^ａが置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の炭化水素基である場合、隣接する炭素原子と環を形成していてもよい。形成される環としては、単環でも多環でもよい。炭素数は（結合した炭素原子を含めて）５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましい。
具体的には、（結合した炭素原子も環の一部と見なして）上述したＲ^ａにおける環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族環式基）のうち、炭素数５〜３０の脂肪族環式基が挙げられる。

【0182】

前記式（Ｙ３）中のＲ^ａは、水素原子または置換基を有していてもよい環式基であることが好ましい。該環式基は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基であってもよく、置換基を有していてもよい脂肪族環式基であってもよい。
置換基を有していてもよい脂肪族環式基としては、置換基を有していてもよい多環式の脂肪族環式基が好ましい。該多環式の脂肪族環式基としては、前記ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基、前記（Ｌ２）〜（Ｌ６）、（Ｓ３）〜（Ｓ４）で表される基等が好ましい。
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基としては、置換基を有していてもよいナフチル基、または置換基を有していてもよいフェニル基がより好ましい。

【0183】

前記式（Ｙ３）中のＲ^ｂにおけるアリール基としては、前記式（Ｙ３）中のＲ^ａにおける芳香族炭化水素基として挙げたものから、アリールアルキル基を除いたものが挙げられる。Ｒ^ｂにおけるアリール基として、より好ましくはフェニル基である。
前記式（Ｙ３）中のＲ^ｂにおける、脂肪族環式基としては、前記式（Ｙ３）中のＲ^ａにおける、脂肪族環式基と同様である。Ｒ^ｂにおける脂肪族環式基として、好ましくは脂肪族多環式基であり、より好ましくはポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基であり、特に好ましくはアダマンタンから１個以上の水素原子を除いた基である。
Ｒ^ｂのアリール基又は脂肪族環式基が有していてもよい置換基としては、前記式（Ｙ３）中のＲ^ａの説明で挙げた置換基と同様のものが挙げられる。

【0184】

前記式（Ｙ３）中のＲ^ｄとしては、前記式（Ｙ３）におけるＲ^ａと同様のものが挙げられる。
前記式（Ｙ３）中のＲ^ｄは、置換基を有していてもよい環式基であることが好ましい。該環式基は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基であってもよく、置換基を有していてもよい脂肪族環式基であってもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基であることが好ましい。
置換基を有していてもよい脂肪族環式基としては、置換基を有していてもよい多環式の脂肪族環式基が好ましい。該多環式の脂肪族環式基としては、前記ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基、前記（Ｌ２）〜（Ｌ６）、（Ｓ３）〜（Ｓ４）で表される基等が好ましい。
前記式（Ｙ３）中のＲ^ｄは、置換基を有していてもよいナフチル基または置換基を有していてもよいフェニル基がより好ましく、置換基を有していてもよいフェニル基が最も好ましい。

【0185】

前記式（Ｙ３）中のＲ^ａおよびＲ^ｄがともに置換基を有していてもよい炭素数１〜３０の炭化水素基である場合は、互いに結合して環を形成する。形成される環としては、単環でも多環でもよい。炭素数は、前記式（Ｙ３）中でＲ^ａおよびＲ^ｄが結合した炭素原子も含めて、５〜３０が好ましく、５〜２０がより好ましい。
具体的には、前記式（Ｙ３）中でＲ^ａおよびＲ^ｄが結合した炭素原子も当該形成された環の一部であると見なして、上述したＲ^ａにおける環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族環式基）のうち、炭素数５〜３０の脂肪族環式基が挙げられる。

【0186】

以下に、（Ｙ３）成分の具体例を示す。

【0187】

【化41】

【0188】

【化42】

【0189】

上記（Ｙ１）〜（Ｙ３）成分以外に、（Ｙ）成分のなかで好適なものとして、以下に示す一般式（Ｙ４−１）又は（Ｙ４−２）で表される化合物（Ｙ４）も挙げられる。化合物（Ｙ４）は、アシルオキシイミノ基を含む塩基発生剤成分に該当するものである。

【0190】

【化43】

［式中、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^４３、Ｒ^４４はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、ｎ７〜ｎ１０はそれぞれ独立に０〜３である。］

【0191】

また、（Ｙ）成分は、上記で例示したもの以外のものとして、これまで化学増幅型レジスト用の光塩基発生剤として提案されているものを使用することができる。
このような光塩基発生剤としては、イオン系のもの（アニオン−カチオン複合体）、トリフェニルスルホニウム化合物、トリフェニルメタノール；ベンジルカルバメートおよびベンゾインカルバメート等の光活性なカルバメート；ｏ−カルバモイルヒドロキシルアミド、ｏ−カルバモイルオキシム、アロマティックスルホンアミド、アルファーラクタムおよびＮ−（２−アリルエチニル）アミド等のアミド；オキシムエステル、α−アミノアセトフェノン、コバルト錯体など；特開２００７−２７９４９３号公報に記載されているもの等が挙げられる。

【0192】

（Ｙ）成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（Ｙ）成分としては、上記のなかでも、（Ｙ１）成分がより好ましく、前記の一般式（Ｙ１−１１）又は（Ｙ１−１２）のいずれかで表される化合物から選ばれる１種以上がさらに好ましく、一般式（Ｙ１−１１）で表される化合物が特に好ましい。

【0193】

レジスト組成物中、（Ｙ）成分の含有量は、（Ｘ）成分１００質量部に対し、１〜５０質量部が好ましく、３〜３０質量部がより好ましく、５〜２０質量部が特に好ましい。（Ｙ）成分の含有量が上記の範囲内であると、パターン形成が充分に行われる。また、３質量部以上であることにより、感度と解像性が向上する。他方、（Ｙ）成分の含有量が５０質量部以下であることにより、形成されるレジスト膜の透明性及び耐熱性が良好で、良好な解像性を保つことができる。

【0194】

＜（Ｎ）成分＞
（Ｎ）成分は、求核剤である。
（Ｎ）成分としては、露光により（Ｙ）成分から発生する塩基の存在下で（Ｘ）成分が有する極性変換基に付加し得るものが用いられる。
（Ｎ）成分としては、効率よく極性変換基への付加と極性変換基の脱離を生じ得る基を有していることから、１級の多価アルコールが好ましい。
１級の多価アルコールは、１級炭素原子に結合した水酸基を２以上有する化合物である。１級の多価アルコールとしては、１級炭素原子に結合した水酸基を２〜１０個有する２〜１０価アルコールが好ましい。
１級の多価アルコールとしては、例えば下記一般式（Ｎ−１）で表される化合物が挙げられる。
ＨＯ−Ｒ^５（ＯＨ）_ｍ …（Ｎ−１）
［式中、ｍは１〜１０の整数であり、Ｒ^５は置換基を有していてもよい（ｍ＋１）価の脂肪族炭化水素基である。ただし該炭化水素基を構成する炭素原子のうち、ＯＨが結合している炭素原子は１級炭素原子である。］

【0195】

式（Ｎ−１）中、ｍは１〜５が好ましく、１又は２が好ましく、１が特に好ましい。
Ｒ^５における脂肪族炭化水素基は、飽和炭化水素基でも不飽和脂肪族炭化水素基でもよい。また、該脂肪族炭化水素基は、鎖状であってもよく、構造中に環を含むものであってもよい。
鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素数が１〜５０であることが好ましく、３〜４０がより好ましい。
ｍが１である場合、鎖状の脂肪族炭化水素基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。ｍが２以上である場合、鎖状の脂肪族炭化水素基は分岐鎖状である。
直鎖状の脂肪族炭化水素基のうち、飽和の脂肪族炭化水素基（アルキレン基）として具体的には、エチレン基［−（ＣＨ_２）_２−］、トリメチレン基［−（ＣＨ_２）_３−］、テトラメチレン基［−（ＣＨ_２）_４−］、ペンタメチレン基［−（ＣＨ_２）_５−］等が挙げられる。
分岐鎖状の脂肪族炭化水素基のうち、例えばｍが１である場合（Ｒ^５が２価である場合）の分岐鎖状の飽和の脂肪族炭化水素基として具体的には、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２−等のアルキルメチレン基；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）−、−Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−Ｃ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２−ＣＨ_２−等のアルキルエチレン基；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−等のアルキルトリメチレン基；−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等の分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素数１〜５の直鎖状のアルキル基が好ましい。また、ｍが２以上である場合の分岐鎖状の飽和の脂肪族炭化水素基の具体例としては、上記で挙げた分岐鎖状のアルキレン基の具体例のなかのＣＨ_３を有するものから、における水素原子をさらに除いた基が挙げられる。
鎖状の不飽和脂肪族炭化水素基としては、上記の直鎖状または分岐鎖状の飽和の脂肪族炭化水素基の少なくとも２つが、Ｃ＝Ｃ結合を解して互いに結合している基が挙げられる。

【0196】

前記構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂肪族炭化水素環から水素原子を（ｍ＋１）個除いた基、脂肪族炭化水素環が鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂肪族炭化水素環が鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記鎖状の脂肪族炭化水素基としては前記と同様のものが挙げられる。
脂肪族炭化水素環は、炭素数が３〜２０であることが好ましく、３〜１２であることがより好ましい。
脂肪族炭化水素環は、多環式であってもよく、単環式であってもよい。単環式の脂肪族炭化水素環としては、モノシクロアルカンが好ましい。該モノシクロアルカンとしては炭素数３〜６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂肪族炭化水素環としては、ポリシクロアルカンが好ましい。該ポリシクロアルカンとしては炭素数７〜１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。

【0197】

Ｒ^５における脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。例えば当該脂肪族炭化水素基を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されていてもよく、当該脂肪族炭化水素基を構成する水素原子の一部または全部がヘテロ原子を含む置換基で置換されていてもよい。該ヘテロ原子としては、炭素原子および水素原子以外の原子であれば特に限定されず、たとえばハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む置換基は、前記ヘテロ原子のみからなるものであってもよく、前記ヘテロ原子以外の基または原子を含む基であってもよい。
炭素原子の一部を置換する置換基として、具体的には、たとえば−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−（Ｈがアルキル基、アシル基等の置換基で置換されていてもよい）、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−等が挙げられる。脂肪族炭化水素基が構造中に環を含む場合、これらの置換基を環構造中に含んでいてもよい。
水素原子の一部または全部を置換する置換基として、具体的には、たとえばアルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、シアノ基等が挙げられる。また、脂肪族炭化水素基が環を含むものである場合、該環に置換基としてアルキル基が結合していてもよい。
前記置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基であることが最も好ましい。
前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
前記置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
環状の脂肪族炭化水素基は、その環構造を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。該ヘテロ原子を含む置換基としては、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−、−Ｓ（＝Ｏ）_２−Ｏ−が好ましい。

【0198】

Ｒ^５としては、特に、構造中に式−（Ｒ^６−Ｏ）_ｑ−［Ｒ^６は鎖状のアルキレン基であり、ｑは１以上の整数である。］で表される基を有する脂肪族炭化水素基が好ましい。
式−（Ｒ^６−Ｏ）_ｑ−中、Ｒ^６における鎖状のアルキレン基としては、炭素数１〜４のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。
ｑは１以上の整数であり、１〜５０の整数が好ましく、１〜４０の整数がより好ましい。
ｑが２以上である場合、式−（Ｒ^６−Ｏ）_ｑ−中には複数のＲ^６が存在するが、それらのＲ^６はそれぞれ同じであってもよく、異なってもよい。
Ｒ^５が−（Ｒ^６−Ｏ）_ｑ−を有する脂肪族炭化水素基である化合物は、例えば、Ｒ^５が無置換の脂肪族炭化水素基である１級多価アルコールにエチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加することにより得ることができる。このときのアルキレンオキサイドの付加モル数がｑの値となる。

【0199】

１級の多価アルコールの分子量、例えば前記式（Ｎ−１）で表される化合物の分子量は、５０〜１００００が好ましく、５０〜２０００がより好ましい。該分子量の範囲内にて分子量が大きいほど、（Ｘ）成分との反応を効率よく進行させることができる。これは、露光後にＰＡＢを行った際に（Ｎ）成分が気化せずにレジスト膜中に残留しやすいためと考えられる。一方、該分子量の範囲内にて分子量が小さいほど、未露光部の現像後の残渣リスクが低く良好である。

【0200】

１級の多価アルコールの好適な具体例としては、例えば、エチレングリコール、１，３−ジヒドロキシメチルアダマンタン、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン、ジペンタエリトリトール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール等が挙げられる。中でも２価アルコール（グリコール）が好ましく、エチレングリコール、アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物が特に好ましい。
アセチレングリコール（２，４，７，９−テトラメチル−５−デシン−４，７−ジオール）は、それ自体は１級炭素原子に結合した水酸基を有していないが、エチレンオキサイドを付加させると、アセチレングリコールの４位の炭素原子とそれに結合した水酸基との間、７位の炭素原子とそれに結合した水酸基との間のいずれか一方又は両方に（ポリ）オキシエチレン基が挿入され、Ｃ−（ＯＣＨ_２ＣＨ_２）_ｑ−ＯＨ構造が形成される。
アセチレングリコールのエチレンオキサイド付加物としては、川研ファインケミカル株式会社製のアセチレノールＥ１００（商品名）等が市販されている。

【0201】

（Ｎ）成分は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
レジスト組成物中、（Ｎ）成分の含有量は、（Ｘ）成分１００質量部に対し、１〜１００質量部が好ましく、２〜５０質量部がより好ましく、３〜３５質量部が特に好ましい。（Ｎ）成分の含有量が上記の範囲内であると、パターン形成が充分に行われる。また、３質量部以上であることにより、解像性、感度、露光部のパターン残膜特性が向上する。他方、（Ｙ）成分の含有量が５０質量部以下であることにより、各組成物の良好な現像液溶解性による残渣の低減あるいは欠陥の低減が期待できる。

【0202】

レジスト組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、さらに所望により、混和性のある添加剤、例えばレジスト膜の性能を改良するための付加的樹脂、塗布性を向上させるための界面活性剤、溶解抑制剤、可塑剤、安定剤、着色剤、ハレーション防止剤、染料などを適宜、添加含有させることができる。

【0203】

レジスト組成物は、材料を有機溶剤（以下、（Ｓ）成分ということがある）に溶解させて製造することができる。
（Ｓ）成分としては、使用する各成分を溶解し、均一な溶液とすることができるものであればよく、従来、化学増幅型レジストの溶剤として公知のものの中から任意のものを１種または２種以上適宜選択して用いることができる。
例えば、γ−ブチロラクトン等のラクトン類；
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチル−ｎ−ペンチルケトン、メチルイソペンチルケトン、２−ヘプタノンなどのケトン類；
エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールなどの多価アルコール類；
エチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、またはジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル結合を有する化合物、前記多価アルコール類または前記エステル結合を有する化合物のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等のモノアルキルエーテルまたはモノフェニルエーテル等のエーテル結合を有する化合物等の多価アルコール類の誘導体［これらの中では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）が好ましい］；
ジオキサンのような環式エーテル類や、乳酸メチル、乳酸エチル（ＥＬ）、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチルなどのエステル類；
アニソール、エチルベンジルエーテル、クレジルメチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジベンジルエーテル、フェネトール、ブチルフェニルエーテル、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、ペンチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、メシチレン等の芳香族系有機溶剤などを挙げることができる。
これらの有機溶剤は単独で用いてもよく、２種以上の混合溶剤として用いてもよい。
中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、ＥＬが好ましい。
また、ＰＧＭＥＡと極性溶剤とを混合した混合溶媒も好ましい。その配合比（質量比）は、ＰＧＭＥＡと極性溶剤との相溶性等を考慮して適宜決定すればよいが、好ましくは１：９〜９：１、より好ましくは２：８〜８：２の範囲内とすることが好ましい。たとえば極性溶剤としてＥＬを配合する場合は、ＰＧＭＥＡ：ＥＬの質量比は、好ましくは１：９〜９：１、より好ましくは２：８〜８：２である。また、極性溶剤としてＰＧＭＥを配合する場合は、ＰＧＭＥＡ：ＰＧＭＥの質量比は、好ましくは１：９〜９：１、より好ましくは２：８〜８：２、さらに好ましくは３：７〜７：３である。また、極性溶剤としてＰＧＭＥおよびシクロヘキサノンを配合する場合は、ＰＧＭＥＡ：（ＰＧＭＥ＋シクロヘキサノン）の質量比は、好ましくは１：９〜９：１、より好ましくは２：８〜８：２、さらに好ましくは３：７〜７：３である。
また、（Ｓ）成分として、その他には、ＰＧＭＥＡ、ＥＬ、または前記ＰＧＭＥＡと極性溶剤との混合溶媒と、γ−ブチロラクトンとの混合溶剤も好ましい。この場合、混合割合としては、前者と後者の質量比が好ましくは７０：３０〜９５：５とされる。
（Ｓ）成分の使用量は、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定されるものであり特に限定されないが、通常、レジスト組成物の固形分濃度が１〜２０質量％、好ましくは２〜１５質量％の範囲内となる様に用いられる。

【0204】

≪高分子化合物≫
本発明の高分子化合物は、下記一般式（ｘ１−１）で表される構成単位を有する。
本発明の高分子化合物は、前記本発明のレジスト組成物の（Ｘ）成分のうち、構成単位（ｘ１）として一般式（ｘ１−１）で表される構成単位を有するものと同じである。
本発明の高分子化合物は、新規な高分子化合物であり、前記本発明のレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物用として有用である。

【0205】

【化44】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”であり、Ｖ^１は２価の炭化水素基であり、Ｖ^２は炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^２は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基である。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0206】

≪化合物≫
本発明の化合物は、下記一般式（ｘ１−０）で表される。

【0207】

【化45】

［式中、Ｒは水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、−Ｖ^２１−ＣＯＯＲ”、又は−Ｖ^２１−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”であり；Ｖ^１は２価の炭化水素基であり、Ｖ^２は炭素数１〜１０のアルキレン基であり、Ｒ^２は炭素数１〜５のフッ素化アルキル基である。Ｖ^２１は単結合またはアルキレン基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である。］

【0208】

式（ｘ−０）中のＲ、Ｖ^１、Ｖ^２、Ｒ^２は、それぞれ、前記一般式（ｘ１−１）中のＲ、Ｖ^１、Ｖ^２、Ｒ^２と同じである。
本発明の化合物は、新規な化合物であり、前記本発明の高分子化合物の製造用として有用である。本発明の化合物をモノマーとして用いることにより、前記一般式（ｘ１−１）で表される構成単位を有する高分子化合物が得られる。

【0209】

＜化合物の製造方法＞
本発明の化合物の製造方法は特に限定されず、公知の方法を利用して製造できる。
例えば、下記一般式（０１）で表されるアルコールと、下記一般式（０２）で表されるカルボン酸とを溶媒に溶解し、塩基の存在下で反応させる（エステル化する）ことにより、本発明の化合物が得られる。

【0210】

【化46】

【0211】

上記反応に用いられるアルコール、カルボン酸はそれぞれ、市販のものを用いてもよく、公知の製造方法により合成したものを用いてもよい。例えば一般式（０１）で表されるアルコールは、例えばＷＯ２００５／０７５４０６等に記載の方法で、以下のような反応により合成できる。

【0212】

【化47】

【0213】

溶媒としては、使用するアルコールおよびカルボン酸が溶解可能で、かつそれらと反応しないものであればよく、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
塩基としては、たとえば水素化ナトリウム、Ｋ_２ＣＯ_３、Ｃｓ_２ＣＯ_３等の無機塩基；トリエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、ピリジン等の有機塩基等が挙げられる。
上記反応の際、必要に応じて縮合剤を用いてもよい。縮合剤としては、例えば１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ジシクロヘキシルカルボキシイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、カルボジイミダゾール等のカルボジイミド試薬やテトラエチルピロホスフェイト、ベンゾトリアゾール−Ｎ−ヒドロキシトリスジメチルアミノホスホニウムヘキサフルオロリン化物塩（Ｂｏｐ試薬）等が挙げられる。
反応終了後、反応液中の化合物を単離、精製してもよい。単離、精製には、従来公知の方法が利用でき、たとえば濃縮、溶媒抽出、蒸留、結晶化、再結晶、クロマトグラフィー等をいずれか単独で又はこれらの２種以上を組み合わせて用いることができる。
上記のようにして得られる化合物の構造は、^１Ｈ−核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトル法、^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル法、^１９Ｆ−ＮＭＲスペクトル法、赤外線吸収（ＩＲ）スペクトル法、質量分析（ＭＳ）法、元素分析法、Ｘ線結晶回折法等の一般的な有機分析法により確認できる。

【実施例】

【0214】

次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
なお、以下においては、式１で表される化合物を化合物１と表記し、他の化学式で表される化合物についても同様に表記する。
ＮＭＲによる分析において、^１Ｈ−ＮＭＲおよび^１３Ｃ−ＮＭＲの内部標準はテトラメチルシラン（ＴＭＳ）である。^１９Ｆ−ＮＭＲの内部標準はヘキサフルオロベンゼンである（但し、ヘキサフルオロベンゼンのピークを−１６０ｐｐｍとした）。

【0215】

＜製造例１：モノマーの合成＞
５０ｍＬ３つ口フラスコに、１０ｇの化合物１を入れ、系内を窒素雰囲気下にし、２０ｍＬのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）と、５．６ｇのトリフルオロプロピオン酸と、７．５ｇの１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ・ＨＣｌ）を加え、０℃で攪拌しながら０．２２ｇのジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）を加え、攪拌しながら室温（ｒ．ｔ．）に戻した。室温に戻った時点から１０時間後、反応液を減圧濃縮し、ＴＨＦを除去して生成物を回収した。この生成物を酢酸エチルに溶解させて０．１Ｎの塩酸で洗浄し、さらに純水で３回洗浄した。その後有機層を減圧濃縮により除去し、目的とする化合物２を９．５ｇ得た。

【0216】

【化48】

【0217】

得られた化合物２のＮＭＲ分析を行い、以下の結果より構造を同定した。
^１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ（ｐｐｍ）＝６．０１（ｓ，１Ｈ，Ｈ^ａ），５．４９（ｓ，１Ｈ，Ｈ^ｂ），４．２８（ｔ，２Ｈ，Ｈ^ｃ，Ｊ_ｃｄ＝５．０Ｈｚ），３．６６（ｔ，２Ｈ，Ｈ^ｄ，Ｊ_ｄｃ＝５．０Ｈｚ），３．２１（ｔ，２Ｈ，Ｈ^ｅ），２．４２−１．４７（ｍ，１４Ｈ，Ｈ^ｆ），１．８９（ｓ，３Ｈ^ｇ）

【0218】

【化49】

【0219】

＜製造例２：高分子化合物の合成＞
還流管を繋いだ１００ｍｌの３つ口フラスコに、化合物２を５ｇ（１２．８ｍｍｏｌ）と、重合開始剤としてアゾビスイソ酪酸ジメチル（Ｖ−６０１）を０．３ｇ添加し１５ｇのメチルエチルケトンに溶解させた。これを窒素雰囲気下で４時間攪拌させながら８０℃の温度で反応させた。反応液を１時間加熱攪拌し、その後、反応液を室温まで冷却した。得られた反応重合液を６０ｇのヘプタンに滴下し、重合体を析出させる操作を行い、沈殿した白色粉体をろ別し、４０ｇのヘプタンで洗浄し、得られた固体を一昼夜真空乾燥することにより、目的物であるポリマー（高分子化合物３）を２．５ｇ得た。
この高分子化合物についてＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）は１０，２００であり、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．６８であった。

【0220】

【化50】

【0221】

＜試験例１＞
表１に示す各成分を混合、溶解して３種のレジスト組成物（１−１、１−２、１−３）を調製した。

【0222】

【表1】

【0223】

表１中、［ ］内の数値は配合量（質量部）を示す。また、表１中の記号はそれぞれ以下のものを示す。
（Ｘ）−１：前記製造例２で得た高分子化合物３。
（Ｙ）−１：下記化学式（Ｙ）−１で表される化合物。
（Ｎ）−１：アセチレノールＥ１００（川研ファインケミカル株式会社社製、アセチレングリコールにエチレンオキサイドを質量換算で６６質量％（モル％換算で１４ｍｏｌ％）付加したもの）。
（Ｓ）−１：ＰＧＭＥＡ／ＰＧＭＥ＝９６０／６４０（質量比）の混合溶剤。

【0224】

【化51】

【0225】

得られたレジスト組成物について以下の［ＡｒＦ露光評価］を行った。
［ＡｒＦ露光評価］
調製したレジスト組成物を、８インチシリコンウェーハ上にスピンナーを用いて塗布し、ホットプレート上で９０℃、６０秒間のプレベーク（ＰＡＢ）処理を行い、乾燥することにより、膜厚１９６ｎｍのレジスト膜を形成した。
該レジスト膜に対して、ＡｒＦ露光装置ＮＳＲ−Ｓ３０２（製品名、Ｎｉｋｏｎ社製）により、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）を５０ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で選択的露光を行った。その後、１３０℃、１８０秒間の露光後加熱（ＰＥＢ）処理を行った。さらに該レジスト膜に対し、表２に示す現像条件（現像液、現像時間）で現像処理し、振り切り乾燥を行った。
レジスト膜の未露光部、露光部それぞれについて、各現像液による現像後の膜厚（残膜、単位：ｎｍ）を、ＮＡＮＯＭＥＴＲＩＣＳ社製ＮＡＮＯＳＰＥＣ ＭＯＤＥＬ ６１００Ａにより測定した。結果を表２に示す。

【0226】

【表2】

【0227】

表２中の記号はそれぞれ以下のものを示す。
Ｄ１：ヘプタン／酢酸ブチル＝１／１（質量比）。
Ｄ２：ヘプタン／酢酸ブチル＝２／１（質量比）。
Ｄ３：ヘプタン／メチルアミルケトン＝１／１（質量比）。
Ｄ４：ヘプタン。

【0228】

表２に示すとおり、（Ｘ）成分、（Ｙ）成分および（Ｎ）成分を含有するレジスト組成物１−１を用いた例２〜４では、有機系現像液による現像によりレジスト膜の未露光部が完全に除去される一方、露光部は残膜しており、未露光部と露光部との間に有機系現像液に対する溶解性の差（溶解コントラスト）が発現したことが確認できた。
一方、（Ｙ）成分を含まないレジスト組成物１−２を用いた例５〜６、（Ｎ）成分を含まないレジスト組成物１−３を用いた例７〜８では、溶解コントラストが発現しなかった。
以上の結果から、本発明によれば、従来の化学増幅型レジストにおける溶解コントラストの発現システム（酸発生剤成分を利用したシステム）とは全く異なるシステムで、溶解コントラストを発現させることができることが確認できた。