特許5938164成膜方法、成膜装置、半導体装置及びその製造方法

発明の名称　成膜方法、成膜装置、半導体装置及びその製造方法

出願人　東京エレクトロン株式会社　（識別番号 219967）

　　　　特許公開件数ランキング 35 位（579件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 22 位（763件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5938164

公報発行日　2016年6月22

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5938164

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