特許第5939399号(P5939399)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許5939399フッ素系添加剤を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物
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  • 特許5939399-フッ素系添加剤を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 図000030
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