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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第342位 4件
(
2025年:第416位 73件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第120位 11件
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2025年:第196位 154件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7800449 | 配向膜形成材料、配向膜、及び高分子分散型液晶素子 | 2026年 1月16日 | |
| 特許 7800532 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2026年 1月16日 | |
| 特許 7800533 | 液晶配向剤、液晶配向膜、及び高分子分散型液晶素子 | 2026年 1月16日 | |
| 特許 7800747 | アセタール構造を有する保護膜形成組成物 | 2026年 1月16日 | |
| 特許 7800783 | 電極形成用組成物、添加剤、及びゲル化抑制剤 | 2026年 1月16日 | |
| 特許 7800790 | 金属封鎖剤を用いた残留金属低減方法 | 2026年 1月16日 | |
| 特許 7800805 | 特定の架橋剤を含む保護膜形成組成物を用いたパターン形成方法 | 2026年 1月16日 | |
| 特許 7799249 | 保存安定性に優れた研磨用組成物及びその製造方法 | 2026年 1月15日 | |
| 特許 7793988 | 重合体組成物、液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法 | 2026年 1月 6日 | |
| 特許 7794131 | 液晶表示素子 | 2026年 1月 6日 | |
| 特許 7793599 | ナフタレンユニット含有レジスト下層膜形成組成物 | 2026年 1月 5日 |
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7800449 7800532 7800533 7800747 7800783 7800790 7800805 7799249 7793988 7794131 7793599
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