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日産化学工業株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第362位 21件
（
2024年：第357位 92件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第155位 52件
（
2024年：第182位 187件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7655223 | レジスト下層膜形成組成物 | 2025年 4月 2日 | |
| 特許 7653310 | 電子デバイス用基板製造用ポリヒドロキシアミド組成物、及びポリベンゾオキサゾール樹脂フィルム | 2025年 3月28日 | |
| 特許 7651823 | アルコキシケイ素化合物の精製方法 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7651892 | 接着剤組成物及び積層体 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652074 | 液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652183 | 高分子及び金属微粒子を含む無電解めっき下地剤 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652210 | リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652237 | 化合物 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7648981 | メラミンシアヌレート粒子を含む塗布用組成物 | 2025年 3月19日 | |
| 特許 7647553 | 接着性細胞を浮遊培養するための培地組成物の製造方法 | 2025年 3月18日 | |
| 特許 7647808 | ジスルフィド構造を有するレジスト下層膜形成組成物 | 2025年 3月18日 | |
| 特許 7647996 | 半導体製造用ウエハ端部保護膜形成用組成物 | 2025年 3月18日 | |
| 特許 7646135 | テラヘルツ波制御素子 | 2025年 3月17日 | |
| 特許 7644406 | 半導体装置密着層形成用樹脂組成物 | 2025年 3月12日 | |
| 特許 7643446 | 液晶配向剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子 | 2025年 3月11日 |
55 件中 1-15 件を表示
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7655223 7653310 7651823 7651892 7652074 7652183 7652210 7652237 7648981 7647553 7647808 7647996 7646135 7644406 7643446
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