【図1】照明システムおよびＥＵＶ投影レンズを備える、簡略化したＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムを概略的に示す。ＥＵＶ投影レンズは４つの鏡を備える。

【図2a】様々な素材の線形膨張係数（ＣＴＥ）を温度の関数として示す。素材は線形膨張係数がゼロとなるゼロクロス温度を有する。（出典：Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ ｏｆ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、 Ｖｏｌ． ＣＲ４３、 ｐ １８３、 ａｒｔｉｃｌｅ ｆｒｏｍ Ｓ．Ｆ．Ｊａｃｏｂｓ 「Ｖａｒｉａｂｌｅ ｉｎ ｉｎｖａｒｉａｂｌｅｓ−ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ ｗｉｔｈ ｔｉｍｅ ａｎｄ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ」；ＩＳＢＮ ０−８１９４−０９５３−７；１９９２）

【図2b】様々なゼロデュア（登録商標）素材の線形膨張係数を温度の関数として示す。素材は線形膨張係数がゼロとなるゼロクロス温度を有する。（出典：Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ ｏｆ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、 Ｖｏｌ． ＣＲ４３、 ｐ １８６、 ａｒｔｉｃｌｅ ｆｒｏｍ Ｓ．Ｆ．Ｊａｃｏｂｓ 「Ｖａｒｉａｂｌｅ ｉｎ ｉｎｖａｒｉａｂｌｅｓ−ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ ｉｎｓｔａｂｉｌｉｔｙ ｗｉｔｈ ｔｉｍｅ ａｎｄ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ」；ＩＳＢＮ ０−８１９４−０９５３−７；１９９２）

【図3a】２つの異なる温度での鏡などの反射型光学素子の側面図を概略的に示す。

【図3b】温度変動による、鏡のｘ軸に沿った鏡面の変形を概略的に示す。

【図3c】ゼロデュア（登録商標）およびＵＬＥ（登録商標）の本体の長さΔＬ／Ｌ₀の相対的な変化を、長さＬ₀を温度の関数としてｐｐｂ単位で概略的に示す。

【図3d】図６のＥＵＶ投影レンズの第４の鏡の温度分布を鏡の大きさと共に示す。

【図3e】図３ｄの鏡の温度プロファイルをｘ方向に沿って最高温度まで示す。基準温度に対する温度差を示す。

【図3f】図３ｄの鏡の温度プロファイルをｙ方向に沿って最高温度まで示す。基準温度に対する温度差を示す。

【図3g】図３ｄから図３ｆの鏡Ｍ₄のゼルニケ係数の値を相対的単位で示す。

【図3h】図６のＥＵＶ投影レンズの第６の鏡の温度分布を鏡の大きさと共に示す。

【図3i】図３ｈの鏡の温度プロファイルをｘ方向に沿って最高温度まで示す。基準温度に対する温度差を示す。

【図3k】図３ｈの鏡の温度プロファイルをｙ方向に沿ってｘ軸の最低温度の間の最低温度まで示す。基準温度に対する温度差を示す。

【図3l】図３ｈから図３ｋの鏡Ｍ₆のゼルニケ係数の値を相対的単位で示す。

【図4】たとえば、国際公開第２００５／０２６８０１号に記載する、ＥＵＶリソグラフィ投影型露光システムの投影レンズで用いる鏡を備える、鏡取り付け台アセンブリを概略的に示す。

【図5】鏡を加熱するためのヒータと、鏡の温度を制御するための温度制御システムとを備える、図４の鏡取り付け台アセンブリを概略的に示す。

【図6】６つの鏡と、ヒータと、第６の鏡のための温度または収差制御システムとを備えるＥＵＶ投影レンズを概略的に示す。

【図7】図６に示す投影レンズの６つの鏡がレチクルＭ後に１６Ｗの出力を有するＥＵＶ投影光線に曝される場合に、投影レンズの６つの鏡を加温するための例を示す。

【図8】ゼルニケ係数Ｚ５で表す、図６の投影レンズの各鏡の収差を示す。投影レンズの各鏡が図７に記載する安定状態にあるとき、ゼロクロス温度の関数として、Ｚ５をＲＭＳ値（実効値）から得る。

【図9】最適化ゼロクロス温度を、図６のＥＵＶレンズが投影プロセス中に曝される、レチクルＭ後のＥＵＶ光出力Ｐの関数として示す。。

【図10】図４および図６に示すＥＵＶ投影レンズの、鏡などの反射型光学素子Ｍ_kの側面図を概略的に示す。さらに、支持素子によって支持される鏡の近くに、ヒータおよびクーラを配置する。

【図11】図１０に示す反射型光学素子の側面図を概略的に示すが、ヒータは用いない。反射型光学素子または鏡Ｍ_k、４２１の温度を、反射素子または鏡の直接的な周囲面積または体積内の圧力を圧力制御することによって、制御する。

【図12a】５ｍｍおよび２５ｍｍの伝達経路に対するゼロデュア（登録商標）の伝達を示す。

【図12b】反射型光学素子または鏡Ｍ_k４２１を概略的に示す。反射型光学素子または鏡Ｍ_k４２１はほとんど全体の表面を被膜Ｃで被膜され、鏡を赤外線放射で加熱可能にする。

【図12c】反射型光学素子または鏡Ｍ_k４２１を概略的に示す。反射型光学素子または鏡Ｍ_k４２１は少なくとも部分的に表面を被膜Ｃ２で被膜され、鏡を加熱可能にする。一定の電気抵抗を有するように、被膜Ｃ２を選択する。

【図12d】反射型光学素子または鏡Ｍ_k４２１を概略的に示す。反射型光学素子または鏡Ｍ_k４２１は少なくとも部分的に、反射面ＭＳ_kの近くに配置されるマルチゾーンワイヤグリッド１０５０で加熱される。

【図13】ヒータまたは焼き戻し手段３００の複数の実施形態を反射素子または鏡Ｍ_k４２１と関連して概略的に示す。