発明の名称 基板液処理方法、基板液処理システムおよび記憶媒体
出願人 東京エレクトロン株式会社 (識別番号 219967)
特許公開件数ランキング 35 位(572件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 22 位(758件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-5961535
公報発行日 2016年8月2
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5961535
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