特許 5962992 フッ素化ナフタレン構造を持つ化合物

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5962992

(24)【登録日】2016年7月8日

(45)【発行日】2016年8月3日

(54)【発明の名称】フッ素化ナフタレン構造を持つ化合物

(51)【国際特許分類】

   C07C 43/225 20060101AFI20160721BHJP

   C09K 19/32 20060101ALI20160721BHJP

   G02F 1/13 20060101ALI20160721BHJP

【ＦＩ】

   C07C43/225 CCSP

   C09K19/32

   G02F1/13 500

   C07C43/225 D

【請求項の数】10

【全頁数】34

(21)【出願番号】特願2012-256246(P2012-256246)

(22)【出願日】2012年11月22日

(65)【公開番号】特開2014-101339(P2014-101339A)

(43)【公開日】2014年6月5日

【審査請求日】2015年9月15日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002886

【氏名又は名称】ＤＩＣ株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100124970

【弁理士】

【氏名又は名称】河野 通洋

(72)【発明者】

【氏名】東條 健太

(72)【発明者】

【氏名】楠本 哲生

【審査官】 小川 由美

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００１−０３９９０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−１１９６５３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０００／０１７２８７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 独国特許出願公開第１０２５１０１７（ＤＥ，Ａ１）

【文献】 特開平０２−２６５９８７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−０４０３５４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−３２３３３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−２１４７５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 Negishi, Makoto; Ogawa, Shinji; Osawa, Masashi; Kawara, Tatsuo; Kusumoto, Tetsuo; Takeuchi, Kiyofumi; Takehara, Sadao; Takatsu, Haruyoshi，Design, synthesis and physical properties of new liquid crystal materials for active matrix LCD. New aromatic ring systems prepared by regioselective fluorination as new mesogens containing fluorines，Molecular Crystals and Liquid Crystals Science and Technology, Section A: Molecular Crystals and Liquid Crystals ，２００１年，364，865-872

【文献】 福田敦夫，強誘電性液晶ディスプレイと材料，日本，シーエムシー，２００１年 ９月１０日，普及版，P151-168

【文献】 Nguyen Huu Tinh，Mesomorphic properties of some new polar naphthalene related compounds，Molecular Crystals and Liquid Crystals, Letters Section，１９８９年，6(5)，145-150

【文献】 楠本哲生，新規液晶材料の合成，有機合成協会誌，２００１年，59（5），462-463

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｃ，Ｃ０９Ｋ１９

ＣＡｐｌｕｓ（ＳＴＮ）

ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

一般式（１）

【化1】

（式中、Ｒは炭素原子数１から１５のアルキル基又は炭素原子数２から１５のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯ−により置き換えられても良く、
Ａ^１及びＡ^２は各々独立して、
（ａ）１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立してＯ−又は−Ｓ−に置き換えられても良い。）
（ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良い。）
からなる群より選ばれる基であり、
Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
Ｘ^１及びＸ^３は各々独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、
Ｘ^２はフッ素原子、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表し、
Ｙは水素原子又はフッ素原子を表し、
ｍ及びｎは各々独立して０〜３のいずれかの自然数を表すが、ｍ＋ｎは０〜３のいずれかの自然数を表す。）で表される化合物。

【請求項2】

一般式（１）において、Ｙがフッ素原子を表す請求項１に記載の化合物。

【請求項3】

一般式（１）において、存在するＡ^１及びＡ^２が各々独立して下記のいずれかの基

【化2】

を表す請求項１又は２に記載の化合物。

【請求項4】

一般式（１）において、存在するＺ^１及びＺ^２が各々独立して単結合を表す請求項１から３のいずれか一項に記載の化合物。

【請求項5】

一般式（１）において、Ｘ^２がフッ素原子、トリフルオロメトキシ基、又はトリフルオロメチル基を表す請求項１から４のいずれか一項に記載の化合物。

【請求項6】

一般式（１）において、Ｘ^１及びＸ^３が各々独立して水素原子又はフッ素原子を表す請求項１から５のいずれか一項に記載の化合物。

【請求項7】

一般式（１）において、ｍが０を表し、ｎが１〜３のいずれかの自然数を表す請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物。

【請求項8】

一般式（１）において、ｍが１〜３のいずれかの自然数を表し、ｎが０を表す請求項１から６のいずれか一項に記載の化合物。

【請求項9】

請求項１から８のいずれか一項に記載の化合物を一種又は二種以上含有する液晶組成物。

【請求項10】

請求項９記載の液晶組成物を使用した液晶表示素子。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は有機電子材料や医農薬、特に液晶表示素子用材料として有用なフッ素化ナフタレン構造を持つ化合物に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いた垂直配向型やＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的要因に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相（ネマチック相、スメクチック相及びブルー相等）を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。さらに液晶組成物は個々の表示素子にあわせて誘電率異方性（Δε）及び屈折率異方性（Δｎ）等を最適な値としなくてはならない。

【0003】

ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＩＰＳ型等の水平配向型ディスプレイではΔεが正の液晶組成物が用いられている。また、Δεが正の液晶組成物を電圧無印加時に垂直に配向させ、横電界を印加する事で表示する駆動方式も報告されている。このように、Δεが正の液晶組成物の重要性は高まっており、より大きな正のΔεを示す化合物が必要とされている。一方、全ての駆動方式において応答速度の改善が求められており、この課題を解決するために現行よりも低粘度な液晶組成物が必要である。低粘度な液晶組成物を得るためには、液晶組成物を構成する個々の極性化合物自体の粘度を低下させることが有効である。また、液晶組成物を表示素子等として使用する際には、広い温度範囲において安定なネマチック相を示すことが求められる。広い温度範囲にてネマチック相を維持するためには、液晶組成物を構成する個々の成分が他の成分との高い混和性と高い透明点（Ｔ_ｎｉ）を持つ事が求められる。

【0004】

一般的に、大きなΔεを示す化合物を得る為には、分子内にフッ素原子を多く導入する事が効果的である。一方、高いＴ_ｎｉを持つ化合物を得るためには、分子内に含まれる環構造を増やす事が効果的である。しかしながら、複数の環構造が連結基を介さずに直接結合した構造、いわゆる直環系と呼ばれる構造を持つ化合物は総じて結晶性が高く、該化合物を含む液晶組成物を冷却すると該化合物の結晶が析出するという問題があった。液晶組成物から化合物が析出すると液晶組成物の物性値が変化してしまうため、実用上の要求から長期に渡り、液晶組成物に添加した化合物が分離や析出が起こらないことが求められている（保存安定性）。

【0005】

例えば下記フッ素化ナフタレン構造を持つ化合物（特許文献１参照）

【0006】

【化1】

【0007】

は、比較的大きなΔεを示し、高いＴ_ｎｉを持ち、高い保存安定性を示すが、粘度が高いという問題があった。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【特許文献1】特開２００１−３９９０５号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

本発明が解決しようとする課題は、大きなΔε、高いＴ_ｎｉ及び低い粘度を併せ持つ化合物を提供し、併せて当該化合物を構成部材とする液晶組成物及び液晶表示素子を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0010】

前記課題を解決するため、本願発明者らは種々の化合物の検討を行った結果、本願発明の完成に至った。

【0011】

本願発明は、一般式（１）

【0012】

【化2】

【0013】

（式中、Ｒは炭素原子数１から１５のアルキル基又は炭素原子数２から１５のアルケニル基を表し、これらの基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＣＯ−により置き換えられても良く、
Ａ^１及びＡ^２は各々独立して、
（ａ）１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は各々独立してＯ−又は−Ｓ−に置き換えられても良い。）
（ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられても良く、この基中に存在する水素原子はフッ素原子又は塩素原子に置換されても良い。）
からなる群より選ばれる基であり、
Ｚ^１及びＺ^２は各々独立して、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＦ_２ＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、
Ｘ^１及びＸ^３は各々独立して、水素原子、フッ素原子又は塩素原子を表し、
Ｘ^２はフッ素原子、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基又はシアノ基を表し、
Ｙは水素原子又はフッ素原子を表し、
ｍ及びｎは各々独立して０〜３のいずれかの自然数を表すが、ｍ＋ｎは０〜３のいずれかの自然数を表す。）で表される化合物を提供し、併せて、当該化合物を含有する液晶組成物及び当該液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供する。

【発明の効果】

【0014】

本発明により提供される、一般式（１）で表される化合物は、大きなΔε、高いＴ_ｎｉ及び低い粘度を併せ持つ。

【0015】

従って、一般式（１）で表される化合物を液晶組成物の成分として用いる事により、大きなΔε及び広い温度範囲で液晶相を示し、低粘度な液晶組成物を得ることができる。また、優れた保存安定性を有するため、液晶表示素子用の液晶組成物の構成成分として非常に有用である。

【発明を実施するための形態】

【0016】

一般式（１）において、Ｒは、粘度を低下させるためには炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。

【0017】

存在するＡ^１及びＡ^２は各々独立して、粘度の低下を重視する場合にはトランス−１，４−シクロヘキシレン基又は無置換の１，４−フェニレン基であることが好ましく、トランス−１，４−シクロヘキシレン基であることが更に好ましく、Δεの増大を重視する場合には

【0018】

【化3】

【0019】

である事が好ましい。

【0020】

存在するＺ^１及びＺ^２は各々独立して、粘度の低下を重視する場合には−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合であることが好ましく、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は単結合であることが更に好ましい。

【0021】

Ｘ^１及びＸ^３は各々独立して、Δεの増大を重視する場合には共にフッ素原子であることが好ましく、粘度を重視する場合には、Ｘ^１が水素原子であることが好ましい。

【0022】

Ｘ^２はΔεを重視する場合には、フッ素原子トリフルオロメチル基又はシアノ基である事が好ましく、粘度を重視する場合にはフッ素原子又はトリフルオロメトキシ基である事が好ましい。

【0023】

ＹはΔεを重視する場合にはフッ素原子である事が好ましい。

【0024】

ｍはＴ_ｎｉを重視する場合には２又は３である事が好ましく、Δεを重視する場合には０または１である事が好ましい。

【0025】

ｎはＴ_ｎｉを重視する場合には０又は１である事が好ましく、Δεを重視する場合には１から３である事が好ましい。

【0026】

ｍ＋ｎはＴ_ｎｉを重視する場合には２又は３である事が好ましく、粘度を重視する場合には０又は１である事が好ましい。

【0027】

なお、一般式（１）で表される化合物において、ヘテロ原子同士が直接結合する構造となることはない。

【0028】

好ましい化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 一般式（１）の中では以下の一般式（１−１）〜一般式（１−７３）で表される各化合物が好ましい。

【0029】

【化4】

【0030】

【化5】

【0031】

【化6】

【0032】

【化7】

【0033】

【化8】

【0034】

【化9】

【0035】

【化10】

【0036】

【化11】

【0037】

【化12】

【0038】

【化13】

【0039】

【化14】

【0040】

【化15】

【0041】

（式中、Ｒ^１は各々独立して炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数２〜１５のアルケニル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基又は炭素数２〜１５のアルケニルオキシ基を表す。）
本発明の液晶組成物において一般式（１）で表される化合物の含有量が少ないとその効果が現れないため、液晶組成物中に下限値として、１％（組成物中の％は質量％を表す。以下同様。）が好ましく、２％が好ましく、５％が更に好ましい。又、含有量が多いと析出等の問題を引き起こすため、上限値としては、５０％が好ましく、３０％がより好ましく、２０％が更に好ましく、１０％が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物は１種のみで使用することもできるが、２種以上の化合物を同時に使用してもよい。

【0042】

液晶組成物の物性値を調整するために一般式（１）で表される化合物以外の化合物を使用してもよく、液晶相を持つ化合物以外にも必要に応じて液晶相を持たない化合物を添加することもできる。

【0043】

このように、一般式（１）で表される化合物と混合して使用することのできる化合物の好ましい代表例としては、本発明の提供する組成物においては、その第一成分として一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種含有するが、その他の成分として特に以下の第二から第六成分から少なくとも１種含有することが好ましい。

【0044】

即ち、第二成分はいわゆるフッ素系(ハロゲン系)のｐ型液晶化合物であって、以下の一般式（Ａ１）〜（Ａ３）で示される化合物を挙げることができる。

【0045】

【化16】

【0046】

上式中、Ｒ^ｂは炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、これらは直鎖状であっても分岐を有していてもよく、３〜６員環の環状構造を有していてもよく、基内に存在する任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよく、基内に存在する任意の水素原子はフッ素原子またはトリフルオロメトキシ基により置換されていてもよいが、炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状１−アルケニル基、炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基、末端が炭素原子数１〜３のアルコキシ基により置換された炭素原子数１〜５のアルキル基が好ましい。また、分岐により不斉炭素が生じる場合には、化合物として光学活性であってもラセミ体であってもよい。

【0047】

環Ａ、環Ｂ及び環Ｃは各々独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基またはピリジン−２，５−ジイル基を表すが、トランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン-トランス−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基又は１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基が好ましい。特に環Ｂがトランス−１，４−シクロへキシレン基またはトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に、環Ａはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましく、環Ｃがトランス−１，４−シクロへキシレン基またはトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に環Ｂ及び環Ａはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。また、（Ａ３）において環Ａはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。

【0048】

Ｌ^ａ、Ｌ^ｂ及びＬ^ｃは連結基であって、各々独立して単結合、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、１，２−プロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−及び−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−）、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−を表すが、単結合、エチレン基、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合又はエチレン基が特に好ましい。また、（Ａ２）においてはその少なくとも１個が、（Ａ３）においてはその少なくとも２個が単結合を表すことが好ましい。

【0049】

環Ｚは芳香環であり以下の一般式（Ｌａ）〜（Ｌｃ）のいずれかひとつを表す。

【0050】

【化17】

【0051】

式中、Ｙ^ａ〜Ｙ^ｊは各々独立して水素原子あるいはフッ素原子を表すが、（Ｌａ）において、Ｙ^ａ及びＹ^ｂの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、（Ｌｂ）において、Ｙ^ｄ〜Ｙ^ｆの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｄはフッ素原子であることがさらに好ましく、（Ｌｃ）において、Ｙ^ｈ及びＹ^ｉの少なくとも１個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｈはフッ素原子であることがさらに好ましい。

【0052】

末端基Ｐ^ａはフッ素原子、塩素原子、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基又はジフルオロメチル基、２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルコキシ基、２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルキル基、２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルケニル基又は２個以上のフッ素原子により置換された炭素原子数２又は３のアルケニルオキシ基を表すが、フッ素原子、トリフルオロメトキシ基又はジフルオロメトキシ基が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。

【0053】

第三成分はいわゆるシアノ系のｐ型液晶化合物であって、以下の一般式（Ｂ１）〜（Ｂ３）で示される化合物を挙げることができる。

【0054】

【化18】

【0055】

上式中、Ｒ^ｃは炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、これらは直鎖状であっても分岐を有していてもよく、３〜６員環の環状構造を有していてもよく、基内に存在する任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよく、基内に存在する任意の水素原子はフッ素原子又はトリフルオロメトキシ基により置換されていてもよいが、炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状1-アルケニル基、炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基、末端が炭素原子数１〜３のアルコキシ基により置換された炭素原子数１〜５のアルキル基が好ましい。又、分岐により不斉炭素が生じる場合には、化合物として光学活性であってもラセミ体であってもよい。

【0056】

環Ｄ、環Ｅ及び環Ｆは各々独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基又はピリジン−２，５−ジイル基を表すが、トランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基又は１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−フェニレン基が好ましい。特に環Ｅがトランス−１，４−シクロへキシレン基又はトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に、環Ｄはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましく、環Ｆがトランス−１，４−シクロへキシレン基又はトランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基である場合に環Ｄ及び環Ｅはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。又、（Ｂ３）において環Ｄはトランス−１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。

【0057】

Ｌ^ｄ、Ｌ^ｅ及びＬ^ｆは連結基であって、各々独立して単結合、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、１，２−プロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−及び）−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−）、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−を表すが、単結合、エチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−が好ましく、単結合、エチレン基又は−ＣＯＯ−が特に好ましい。又、一般式（Ｂ２）においてはその少なくとも１個が、一般式（Ｂ３）においてはその少なくとも２個が単結合を表すことが好ましい。

【0058】

Ｐ^ｂはシアノ基を表す。

【0059】

環Ｙは芳香環であり以下の一般式（Ｌｄ）〜（Ｌｆ）のいずれかひとつを表す。

【0060】

【化19】

【0061】

式中、Ｙ^ｋ〜Ｙ^ｑは各々独立的して水素原子あるいはフッ素原子を表すが、（Ｌｄ）において、Ｙ^ｋ及びＹ^ｌの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、（Ｌｅ）において、Ｙ^ｍ〜Ｙ^ｏの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｍはフッ素原子であることがさらに好ましく、（Ｌｆ）において、Ｙ^ｐ及びＹ^ｑの少なくとも1個はフッ素原子であることが好ましく、特にＹ^ｐはフッ素原子であることがさらに好ましい。

【0062】

第四成分は誘電率異方性が０程度である、いわゆる非極性液晶化合物であり、以下の一般式（Ｃ１）〜（Ｃ３）で示される化合物を挙げることができる。

【0063】

【化20】

【0064】

上式中、Ｒ^ｄ及びＰ^ｅは各々独立して炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、これらは直鎖状であっても分岐を有していてもよく、３〜６員環の環状構造を有していてもよく、基内に存在する任意の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−により置換されていてもよく、基内に存在する任意の水素原子はフッ素原子又はトリフルオロメトキシ基により置換されていてもよいが、炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状１−アルケニル基、炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基、炭素原子数１〜３の直鎖状アルコキシ基又は末端が炭素原子数１〜３アルコキシ基により置換された炭素原子数１〜５の直鎖状アルキル基が好ましく、更に少なくとも一方は炭素原子数１〜７の直鎖状アルキル基、炭素原子数２〜７の直鎖状１−アルケニル基又は炭素原子数４〜７の直鎖状３−アルケニル基であることが特に好ましい。

【0065】

環Ｇ、環Ｈ、環Ｉ及び環Ｊは各々独立して、トランス−１，４−シクロへキシレン基、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子あるいはメチル基により置換されていてもよい１，４−フェニレン基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基又はピリジン−２，５−ジイル基を表すが、各化合物において、トランスデカヒドロナフタレン−トランス−２，６−ジイル基、１個以上のフッ素原子により置換されていてもよいナフタレン−２，６−ジイル基、１〜２個のフッ素原子により置換されていてもよいテトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、フッ素原子により置換されていてもよい１，４−シクロヘキセニレン基、１，３−ジオキサン−トランス−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基又はピリジン−２，５−ジイル基は１個以内であることが好ましく、他の環はトランス−１，４−シクロへキシレン基あるいは１〜２個のフッ素原子又はメチル基により置換されていてもよい１，４−フェニレン基であることが好ましい。環Ｇ、環Ｈ、環Ｉ及び環Ｊに存在するフッ素原子数の合計は２個以下が好ましく、０又は１個が好ましい。

【0066】

Ｌ^ｇ、Ｌ^ｈ及びＬ^ｉは連結基であって、各々独立して単結合、エチレン基（−ＣＨ_２ＣＨ_２−）、１，２−プロピレン基（−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−及び）−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−）、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−を表すが、単結合、エチレン基、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＨ＝ＮＮ＝ＣＨ−が好ましく、一般式（Ｃ２）においてはその少なくとも１個が、一般式（Ｃ３）においてはその少なくとも２個が単結合を表すことが好ましい。

【0067】

なお、一般式（Ｃ１）〜（Ｃ３）で示される化合物は一般式（Ａ１）〜（Ａ３）で示される化合物及び一般式（Ｂ１）〜（Ｂ３）で示される化合物を除く。

【0068】

一般式（Ａ１）〜（Ａ３）で示される化合物、一般式（Ｂ１）〜（Ｂ３）及び一般式（Ｃ１）〜（Ｃ３）で示される化合物で示される化合物において、ヘテロ原子同士が直接結合する構造となることはない。

【0069】

第五成分は液晶組成物にらせん構造を誘起する為に用いられる、光学活性な化合物である。好ましくは不斉炭素原子を持つ化合物であり、１−メチルヘプチルオキシ基を持つ化合物である事がさらに好ましい。

【0070】

第六成分は応答速度を改善もしくは液晶組成物の配向性を改善する為に加えられる、紫外線照射又は加熱により重合させる事が可能な重合性官能基を持つ化合物である。重合性基としてはアクリルオキシ基又はメタクリルオキシ基である事が好ましく、メタクリルオキシ基である事が更に好ましい。また、重合性官能基を１から３個有する事が好ましく、２個有する事が更に好ましい。

【0071】

本発明において、一般式（１）で表される化合物は、以下のようにして製造することができる。勿論本発明の趣旨及び適用範囲は、これら製造例により制限されるものではない。
（製法１）
一般式（２）

【0072】

【化21】

【0073】

（式中Ｙは一般式（１）におけるＹと同じ意味を表す。）で表される化合物は公開特許公報２００４−９１３６１を基に製造する事が出来る。

【0074】

一般式（２）で表される化合物とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を塩基存在下反応させる事で、一般式（３）

【0075】

【化22】

【0076】

（式中Ｙは一般式（１）におけるＹと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

【0077】

溶媒としては反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン又は１，１，２，２−テトラクロロエタン等の塩素系溶媒、ヘキサン、トルエン又はキシレン等の炭化水素系溶媒が好ましく、ジクロロメタン又はクロロホルムが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0078】

塩基としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ピリジン又はルチジン等の含窒素芳香族系塩基、トリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等の脂肪族系アミン等が好ましく、ピリジンが特に好ましい。

【0079】

反応温度としては、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、−２０°〜４０℃が好ましく、０℃から３０℃が更に好ましい。

【0080】

続いて、一般式（３）で表される化合物と一般式（４）

【0081】

【化23】

【0082】

（式中Ｒ、Ａ^１及びＺ^１は各々独立して、一般式（１）におけるＲ、Ａ^１及びＺ^１と同じ意味を表し、Ｍはｍ−１を表し、ｍは一般式（１）におけるｍと同じ意味を表すが、ｍが０の場合は含まない、Ｗ^１は

【0083】

【化24】

【0084】

（式中、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して直鎖であっても又は分岐していても良い炭素原子数１から５のアルキル基又は水素原子を表し、
Ｅは基中に存在する一つ以上の水素原子が各々独立してメチル基に置換されていても良い−（ＣＨ_２）_ｐ−を表し、
ｐは２、３又は４を表す。）を表す。）で表される化合物を塩基及び遷移金属触媒の存在下反応させる事で、一般式（５）

【0085】

【化25】

【0086】

（式中Ｙ、Ｒ、Ａ^１及びＺ^１は各々独立して、一般式（１）におけるＹ、Ｒ、Ａ^１及びＺ^１と同じ意味を表し、Ｍは一般式（４）におけるＭと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

【0087】

塩基としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン等のアミン系試薬、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩類又は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類が好ましく、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩が更に好ましい。また、これらの塩基は必要に応じて水溶液として用いても良い。

【0088】

溶媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、エタノール、メタノール又はプロパノール等のアルコール系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒、トルエン又はキシレン等の芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒が好ましく、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、トルエン、テトラヒドロフラン又は１，４−ジオキサンが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0089】

遷移金属触媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、二塩化ビス（トリフェニルホスフィノ）パラジウム（ＩＩ）、二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）等のパラジウム系遷移金属触媒又はニッケル系遷移金属触媒が好ましく、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）又は二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）が更に好ましい。また、反応の進行を促進するため、必要に応じてホスフィン系配位子を加えても良い。

【0090】

反応温度としては、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、室温〜溶媒が還流する温度が好ましく、室温〜８０℃である事が更に好ましく、４０℃〜６０℃である事が特に好ましい。

【0091】

続いて、一般式（５）で表される化合物を塩基と反応させ、ホウ酸エステル誘導体と反応させる事で、一般式（６）

【0092】

【化26】

【0093】

（式中Ｙ、Ｒ、Ａ^１及びＺ^１は、一般式（１）におけるＹ、Ｒ、Ａ^１及びＺ^１と同じ意味を表し、Ｍは一般式（４）におけるＭと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

【0094】

反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族系溶媒が好ましく、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフランが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0095】

塩基としては、Ｙが水素原子である場合にはブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅｒｔ−ブチルリチウム等の有機リチウム系試薬が好ましく、ｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅｒｔ−ブチルリチウムが更に好ましい。Ｙがフッ素原子である場合にはブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅｒｔ−ブチルリチウム等の有機リチウム系試薬、リチウムジイソプロピルアミド等のリチウムアミド系試薬が好ましく、ブチルリチウムが更に好ましい。

【0096】

ホウ酸エステル類としては、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリイソプロピルが好ましい。

【0097】

一般式（５）で表される化合物を塩基と反応させる際には、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、−７８℃から−２０℃である事が好ましく、−７８℃から−４０℃である事が更に好ましい。ホウ酸エステルと反応させる際には、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、−７８℃から室温が好ましく、−４０℃から−２０℃である事が更に好ましい。

【0098】

続いて、一般式（６）で表される化合物と過酸化水素を反応させる事で、一般式（７）

【0099】

【化27】

【0100】

（式中Ｙ、Ｒ、Ａ^１及びＺ^１は、一般式（１）におけるＹ、Ｒ、Ａ^１及びＺ^１と同じ意味を表し、Ｍは一般式（４）におけるＭと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

【0101】

反応溶媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等の塩素系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン又はジクロロメタンを用いる事が更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0102】

温度としては、反応を円滑に進行させる温度であればいずれでも構わないが、０℃から反応溶媒が還流するまでの温度が好ましく、１０℃から４５℃の温度が更に好ましい。

【0103】

続いて、一般式（８）

【0104】

【化28】

【0105】

（式中Ｘ^１〜Ｘ^３、Ａ^２、Ｚ^２及びｎは、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^３、Ａ^２、Ｚ^２及びｎと同じ意味を表し、Ｘ^４は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表す。）で表される化合物を、金属試薬と反応させた後にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと反応させ、水を加えて加水分解する事で、一般式（９）

【0106】

【化29】

【0107】

（式中Ｘ^１〜Ｘ^３、Ａ^２、Ｚ^２及びｎは、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^３、Ａ^２、Ｚ^２及びｎと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

【0108】

反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン又はヘプタン等の炭化水素系溶媒が好ましく、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフランが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0109】

金属試薬としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、金属マグネシウム、金属亜鉛又は金属ナトリウム等の金属、ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム又はｔｅｒｔ−ブチルリチウム等の有機リチウム試薬が好ましく、金属マグネシウム又はブチルリチウムが更に好ましい。

【0110】

反応温度としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、金属マグネシウム又は金属亜鉛等の金属と反応させる際には０℃から溶媒の還流温度が好ましく、４０℃から溶媒の還流温度である事が更に好ましく、ブチルリチウム等の有機リチウム試薬と反応させる際には−７８℃から−２０℃までが好ましく、−７８℃から−４０℃までが更に好ましい。

【0111】

続いて、一般式（９）で表される化合物を還元剤と反応させる事で、一般式（１０）

【0112】

【化30】

【0113】

（式中Ｘ^１〜Ｘ^３、Ａ^２、Ｚ^２及びｎは、一般式（１）におけるＸ^１〜Ｘ^３、Ａ^２、Ｚ^２及びｎと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事が出来る。

【0114】

反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、トルエン又はキシレン等の炭化水素系溶媒が好ましく、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフランが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0115】

還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム又は水素化リチウムナトリウム等のヒドロホウ素系試薬、リチウムアルミニウムハイドライド又は水素化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウム系試薬、水素雰囲気下パラジウムカーボン又は白金黒等の遷移金属触媒を用いる事が好ましく、水素化ホウ素ナトリウムが更に好ましい。

【0116】

反応温度としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、０℃から溶媒の還流温度までが好ましく、０℃から４０℃までが更に好ましい。

【0117】

続いて、一般式（７）で表される化合物を、ホスフィン誘導体及びアゾジカルボン酸エステル存在下一般式（１０）で表される化合物を反応させる事で、一般式（１）で表される化合物を得る事が出来る。

【0118】

反応溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジイソプロピルエーテル又はテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族系溶媒、トルエン又はキシレン等の芳香族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフランが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0119】

ホスフィン誘導体としてはトリフェニルホスフィンが好ましい。

【0120】

アゾジカルボン酸エステルとしては、アゾジカルボン酸ジエチル又はアゾジカルボン酸ジイソプロピルが好ましく、アゾジカルボン酸ジイソプロピルが更に好ましい。

【0121】

反応温度としては、好適に反応を進行させる温度であればいずれでも構わないが、−２０℃から４０℃までが好ましく、−１０℃から２０℃までが更に好ましい。
（製法２）
一般式（３）で表される化合物を遷移金属触媒存在下、一般式（１１）

【0122】

【化31】

【0123】

（式中Ｒは、一般式（１）におけるＲと同じ意味を表し、Ｗ^２は

【0124】

【化32】

【0125】

（式中Ｕは塩素原子、臭素原子又はよう素原子を表す。）
を表す。）で表される化合物と反応させる事で、一般式（１２）

【0126】

【化33】

【0127】

（式中Ｒ及びＹは、一般式（１）におけるＲ及びＹと同じ意味を表す。）で表される化合物を得る事出来る。

【0128】

遷移金属触媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、二塩化ビス（トリフェニルホスフィノ）パラジウム（ＩＩ）、二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）等のパラジウム系遷移金属触媒又はニッケル系遷移金属触媒が好ましく、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、酢酸パラジウム（ＩＩ）又は二塩化［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）が更に好ましい。また、反応の進行を促進するため、必要に応じてホスフィン系配位子を加えても良い。

【0129】

反応温度としては、反応を円滑に進行させる温度であればいずれでも構わないが、Ｗ^２がリチウム原子を表す場合には、−７６℃から−２０℃である事が好ましく、−７６℃から−４０℃である事が更に好ましい。Ｗ^２がＭｇＵ又はＺｎＵを表す場合には、０℃から反応溶媒が還流する温度までが好ましく、４０℃から反応溶媒が還流する温度までが更に好ましい。

【0130】

反応溶媒としては、反応を円滑に進行させるものであればいずれでも構わないが、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン又はｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、トルエン又はキシレン等の芳香族系溶媒、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族系溶媒が好ましく、テトラヒドロフラン又はｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルが更に好ましい。またこれら溶媒を単独で使用しても、混合して使用してもよい。

【0131】

これ以降の工程は、製法１に示した方法にて実施する事で、一般式（１）で表される化合物を得る事が出来る。

【実施例】

【0132】

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【0133】

以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。

【0134】

相転移の表記において、Ｃｒは結晶相、Ｎはネマチック相、Ｉｓｏは等方相を表す。

【0135】

化合物記載に下記の略号を使用する。

【0136】

ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
Ｍｅ：メチル基、Ｐｒ：ｎ−プロピル基、Ｂｕ：ｎ−ブチル基
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル基
（実施例１）［６−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンの製造

【0137】

【化34】

【0138】

（１−１） 窒素雰囲気下、５，７−ジフルオロ−２−ナフトール（１８．０ｇ、公開特許公報２００４−９１３６１を基に製造）をジクロロメタン（９０ｍＬ）に溶解させ、ピリジン（８．７ｇ）を加えた後に氷冷した。氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（２９．６ｇ）を加えた後、室温にて１時間撹拌した。反応液を氷冷し、１０％塩酸（９０ｍＬ）を撹拌しながら静かに加え、分液した。有機層を飽和食塩水（９０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、有機溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、トリフルオロメタンスルホン酸５，７−ジフルオロナフタレン−２−イル（３１．２ｇ）を得た。
（１−２） （１−１）で得られたトリフルオロメタンスルホン酸５，７−ジフルオロナフタレン−２−イル（１０ｇ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸水素ナトリウム水溶液（３５ｍＬ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１．４８ｇ）及びＴＨＦ（５０ｍＬ）を混合撹拌し、５０℃に加熱した。５０℃にて２−フルオロ−４−プロピルフェニルホウ酸（６．４ｇ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解させた溶液を加えた後、５０℃にてさらに５時間撹拌した。放冷し、ヘキサン（１００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を飽和食塩水（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、２−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−５，７−ジフルオロナフタレン（９．３８ｇ）を得た。
（１−３） 窒素雰囲気下、（１−２）で得られた２−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−５，７−ジフルオロナフタレン（９．３８ｇ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解させ、−５０℃に冷却した。−５０℃にて１．６ｍｏｌ／Ｌブチルリチウムヘキサン溶液（２１ｍＬ）をゆっくりと加えた後、−５０℃にてさらに１時間撹拌した。−５０℃にてホウ酸トリメチル（４．２２ｇ）をゆっくりと加えた後、室温までゆっくりと昇温した。氷冷し、水（１０ｍＬ）を加えた後、１０％塩酸（４０ｍＬ）を加えて分液し、有機層を飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、３０％過酸化水素水（４．２５ｇ）をゆっくりと加えた後、４０℃にて１４時間撹拌した。氷冷下１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）及びトルエン（１００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を飽和食塩水（１５０ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、エタノールから再結晶する事で、６−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−１，３−ジフルオロ−２−ナフトール（７．２５ｇ）を得た。
（１−４） 窒素雰囲気下、（１−３）にて得られた６−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−１，３−ジフルオロ−２−ナフトール（７．２５ｇ）、３，４，５−トリフルオロベンジルアルコール（３．７１ｇ）及びトリフェニルホスフィン（７．２１ｇ）をＴＨＦ（３５ｍＬ）に溶解させ、−１０℃に冷却した。−１０℃にてアゾジカルボン酸ジイソプロピル（５．１０ｇ）をゆっくりと加えた後、室温にて１時間撹拌した。水（５ｍＬ）を加えて撹拌し、有機溶媒を減圧留去した。残渣にヘキサン（１５０ｍＬ）、６０％メタノール水溶液（１００ｍＬ）及び７０％ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド水溶液（１ｇ）を加えて２時間撹拌した。混合液を分液し、有機層を６０％メタノール水溶液（１００ｍＬ）及び飽和食塩水（１００ｍＬ）にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、エタノールから再結晶する事で、［６−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（８．０７ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：４６０［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｓ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３７−７．３４（１Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），７．０６−６．９８（２Ｈ，ｍ），５．１７（２Ｈ，ｓ），２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．６４−１．５４（２Ｈ，ｍ），０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）
（実施例２）［６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４−ジフルオロフェニル）メタンの製造

【0139】

実施例１に記載の方法と同様にして行う事で、［６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４−ジフルオロフェニル）メタン（４．０３ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：５２４［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｓ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３９−７．３４（１Ｈ，ｍ），７．３３−７．３０（１Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２０−７．１４（２Ｈ，ｍ），７．０８−６．９９（２Ｈ，ｍ），５．１２（２Ｈ，ｓ），２．５０（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ１＝１２．０Ｈｚ，Ｊ２＝３．２Ｈｚ），１．９２−１．８５（４Ｈ，ｍ），１．５２−１．４２（２Ｈ，ｍ），１．３８−１．３１（３Ｈ，ｍ），１．２３−１．１９（２Ｈ，ｍ），１．１１−１．０１（２Ｈ，ｍ），０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
（実施例３）（１，３−ジフルオロ−６−プロピルナフタレン−２−オキシ）−［ｔｒａｎｓ−４−（４−（３，４，５−トリフルオロフェニル）３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］メタンの製造

【0140】

（３−１） 窒素雰囲気下、金属マグネシウム（４．３ｇ）をＴＨＦ（５ｍＬ）に懸濁させ、１−ブロモプロパン（２０．７ｇ）をＴＨＦ（８０ｍＬ）に溶解させた溶液を穏やかに還流する速度で加え、更に４０℃にて１時間撹拌した。続いて塩化亜鉛（２４．１ｇ）をＴＨＦ（２５ｍＬ）に懸濁させた溶液を加えた後、室温にて１時間撹拌する事で有機亜鉛試薬溶液を調製した。窒素雰囲気下、別の反応容器に実施例（１−１）にて得られたトリフルオロメタンスルホン酸５，６，７−トリフルオロ−２−ナフチル（５０．２ｇ）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（９．３ｇ）をＴＨＦ（３００ｍＬ）に溶解させた溶液を４０℃に加熱し、先に調製した有機亜鉛試薬溶液をゆっくりと加えた後、溶媒が還流する温度でさらに１時間撹拌した。氷冷した後、１０％塩酸（３００ｍＬ）及びトルエン（３００ｍＬ）を加えて分液し、水層にトルエン（２００ｍＬ）を加えて抽出し、有機層を併せ、有機層を飽和食塩水（３００ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、６−プロピル−１，３−ジフルオロナフタレン（１８．１ｇ）を得た。
（３−２） 窒素雰囲気下、（１−１）で得られた６−プロピル−１，３−ジフルオロナフタレン（１８．１ｇ）をＴＨＦ（９０ｍＬ）に溶解し、−４０℃に冷却した。冷却下、１．６ｍｏｌ／Ｌ ブチルリチウムヘキサン溶液（６５ｍＬ）をゆっくりと加え、−４０℃にてさらに３０分間撹拌した。続いて、ホウ酸トリメチル（１１．９ｇ）をゆっくりと加えた後、室温までゆっくりと昇温した。１０％塩酸（１００ｍＬ）を加えて分液し、飽和食塩水（１００ｍＬ）にて洗浄した。有機層に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加えた後、１５％過酸化水素水溶液（１９．９ｇ）をゆっくりと加え、４０℃にて１４時間撹拌した。氷冷下、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）を加えて分液し、水層にトルエン（１００ｍＬ）を加えて抽出した。有機層を併せ、飽和食塩水にて洗浄し、有機層に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機層を減圧留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する事で、６−プロピル−１，３−ジフルオロ−２−ナフトール（１９．２ｇ）を得た。
（３−３） アルゴン雰囲気下、マグネシウム２０．３ｇをＴＨＦ（４０ｍＬ）に懸濁し、３，５−ジフルオロブロモベンゼン（１４９ｇ）のＴＨＦ（４５０ｍＬ）溶液を内温４０から６５℃で滴下した。室温で１時間攪拌後、１，４−シクロヘキサンジオンモノエチレンケタール（１００ｇ）のＴＨＦ（３００ｍＬ）溶液を内温４０から６０℃で滴下し、室温で１時間攪拌した。水（２５０ｍＬ）、飽和塩化アンモニウム水溶液（２００ｍＬ）、トルエン７５０ｍＬの順で加え、室温で３０分撹拌後、有機層を分取した。これを飽和食塩水で２回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、淡黄色固体として４−（３，５−ジフルオロフェニル）−４−ヒドロキシシクロヘキサノンエチレンケタールを１７８ｇ得た。
（３−４） アルゴン雰囲気下、（３−３）で得られた４−（３，５−ジフルオロフェニル）−４−ヒドロキシシクロヘキサノンエチレンケタール（１７８ｇ）およびピリジン１２０ｇをトルエン７００ｍＬに溶解し、トリホスゲン６８ｇのトルエン（２７６ｍＬ）溶液を内温２２℃以下で滴下した。内温２０〜２５℃で２時間攪拌後、水（８００ｍＬ）にあけた。有機層を水（３００ｍＬ）で２回、飽和食塩水（３００ｍＬ）２回の順で洗浄し、１−（３，５−ジフルオロフェニル）−４−シクロへキセノンエチレンケタールのトルエン溶液を得た。
（３−５） （３−４）で得られた溶液に５％パラジウム炭素（５０％含水品、１５ｇ）を加え、オートクレーブ中、水素圧０．４ＭＰａ、外温４０℃で４時間撹拌した。触媒をろ別し、得られた溶液ある程度濃縮し、４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキサノンエチレンケタールのトルエン溶液を得た。
（３−６） （３−５）で得られた溶液にギ酸５００ｍＬを加え、内温４０℃で４時間撹拌した。水５００ｍＬを加えて撹拌し、有機層を飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、淡黄色固体として４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキサノンを１１９ｇ得た。
（３−７） アルゴン雰囲気下、メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロリド２６３ｇをＴＨＦ（８００ｍＬ）に懸濁し、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド９０ｇを内温０℃以下で加え、内温０℃で２０分撹拌した。（３−６）で得られた４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキサノン（１１９ｇ）のＴＨＦ（３００ｍＬ）溶液を内温５℃以下で加え、内温−５〜８℃で３０分撹拌した。水（１０ｍＬ）を加えた後溶媒を減圧留去し、残渣に水（４００ｍＬ）、メタノール（４００ｍＬ）、ヘキサン（５００ｍＬ）および７０％ｔ−ブチルヒドロペルオキシド水溶液７．３ｇを加え、室温で１時間撹拌した。有機層を分取し、水層をヘキサンで抽出した後有機層を合わせ、５０％メタノール水溶液、水２回の順で洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣に１０％塩酸（４００ｍＬ）およびＴＨＦ（４００ｍＬ）を加え、１時間加熱還流した。有機層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出した後有機層を合わせ、飽和食塩水で２回洗浄した。溶媒を減圧留去し、残渣にメタノール（３００ｍＬ）および１０％水酸化ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）を加えて５から−１５℃で１時間撹拌した。１０％塩酸で中和した後、水（３００ｍＬ）、ＴＨＦ（２００ｍＬ）および酢酸エチル（４００ｍＬ）を加え、有機層を飽和食塩水で２回洗浄した後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、淡黄色オイルとしてトランス−４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキサンカルバルデヒドを１１２ｇ得た。
（３−８） （３−７）で得られたトランス−４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキサンカルバルデヒド（１１２ｇ）をエタノール（２２４ｍＬ）、ＴＨＦ（３０ｍＬ）および水（３０ｍＬ）に溶解し、外温５℃で水素化ほう素ナトリウム（９．４ｇ）をゆっくり加え、外温５℃で１０分撹拌した。反応溶液を１０％塩酸（４５０ｍＬ）にゆっくりあけてしばらく撹拌した後、有機層を分取し、水層を酢酸エチルで抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水で２回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥した後溶媒を減圧留去し、淡黄色オイルとしてトランス−４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシルメタノールを１１０ｇ得た。
（３−９） アルゴン雰囲気下、（３−２）で得られた６−プロピル−１，３−ジフルオロ−２−ナフトール（１９．２ｇ）、３−８で得られたトランス−４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシルメタノール（１９．５ｇ）及びトリフェニルホスフィン（２４．９ｇ）をＴＨＦ（１００ｍＬ）に溶解し、アゾジカルボン酸ジイソプロピル（１８．３ｇ）を内温２３℃以下で滴下した。室温で１時間攪拌後、水（１０ｍＬ）を加え、溶媒を減圧留去した。残渣にヘキサン（１００ｍＬ）、水（５０ｍＬ）、メタノール（１００ｍＬ）を加え、有機層を分取し、水層をヘキサン（５０ｍＬ）で抽出した後有機層を合わせ、５０％メタノール水溶液（１００ｍＬ）で２回、飽和食塩水（１００ｍＬ）の順で洗浄した。得られた溶液をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル／へキサン）で精製し、溶媒を減圧留去し、エタノールから再結晶する事で、［４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］−（６−プロピル−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ）メタン（３２．２ｇ）を得た。
（３−１０） アルゴン雰囲気下、（３−９）で得られた［４−（３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］−（６−プロピル−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ）メタン（３２．２ｇ）をＴＨＦ（３００ｍＬ）に溶解し、１．６ｍｏｌ／Ｌ ブチルリチウムヘキサン溶液（５５ｍＬ）を内温−５０〜−６０℃で滴下した。−４０℃に昇温した後再び−６０℃に冷却し、よう素（２４．７ｇ）をＴＨＦ（１００ｍＬ）に溶解させた溶液を−５０℃以下で滴下した。内温０℃まで昇温後、１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）を滴下し、室温で１時間撹拌し、有機層を分取した。水層をトルエン（１００ｍＬ）で抽出し、有機層を合わせ、５％亜硫酸ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）、飽和食塩水（１００ｍＬ）２回で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去する事で、粗製［４−（３，５−ジフルオロ−４−ヨードフェニル）シクロヘキシル］−（６−プロピル−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ）メタン（３１．５ｇ）を得た。
（３−１１） アルゴン雰囲気下、（３−１０）で得られた［４−（３，５−ジフルオロ−４−ヨードフェニル）シクロヘキシル］−（６−プロピル−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ）メタン（３１．５ｇ）、炭酸カリウム（１１．３ｇ）、５，５−ジメチル−２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）−［１，３，２］ジオキサボリナン（１６．６ｇ，ＷＯ２００３／１０５８６０に記載の方法により製造した）、およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（３．３ｇ）をＤＭＦ（１５０ｍＬ）に懸濁し、内温１００〜１１５℃で１９時間撹拌した。室温で水（５００ｍＬ）およびトルエン（２００ｍＬ）を加え、有機層を分取した。水層にトルエン（８０ｍＬ）を加えて抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水（３００ｍＬ）で2回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した後、エタノール・アセトン混合溶媒から再結晶する事で、（１，３−ジフルオロ−６−プロピルナフタレン−２−オキシ）−［ｔｒａｎｓ−４−（４−（３，４，５−トリフルオロフェニル）３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］メタン（２１．７ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：５６０［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｓ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３７−７．３４（１Ｈ，ｍ），７．１０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），６．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ），３．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），２．５７−２．４９（３Ｈ，ｍ），２．１０−１．９７（４Ｈ，ｍ），１．８９−１．８１（１Ｈ，ｍ），１．６６−１．５８（２Ｈ，ｍ），１．５６−１．４３（２Ｈ，ｍ），１．３１−１．２１（２Ｈ，ｍ），０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
（実施例４）［１，３−ジフルオロ−６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）ナフタレン−２−オキシ］−［４−（４−トリフルオロメトキシフェニル）フェニル］メタンの製造

【0141】

【化35】

【0142】

実施例１〜３に記載の方法と同様にして行う事で、［１，３−ジフルオロ−６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）ナフタレン−２−オキシ］−［４−（４−トリフルオロメトキシフェニル）フェニル］メタン（５．１ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：６４８［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．６３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．５７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．３９−７．３４（１Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２５−７．２２（４Ｈ，ｍ），７．０８−６．９９（２Ｈ，ｍ），５．０２（２Ｈ，ｓ），２．５８（１Ｈ，ｔｔ，Ｊ１＝１２．１Ｈｚ，Ｊ２＝３．３Ｈｚ），１．９０−１．８１（４Ｈ，ｍ），１．５９−１．４８（２Ｈ，ｍ），１．３１−１．２７（３Ｈ，ｍ），１．２２−１．１９（２Ｈ，ｍ），１．１１−１．０１（２Ｈ，ｍ），０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
（実施例５）［１−フルオロ−６−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ナフタレン−２−オキシ］−（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンの製造

【0143】

【化36】

【0144】

文献（特開２００１−３９９０５）記載の方法と同様にして行う事により、６−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）−２−ナフトールを得た後、実施例１〜３に記載の方法と同様にして行う事により、［１−フルオロ−６−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）ナフタレン−２−オキシ］−（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン（５．１ｇ）を得た。
ＭＳ ｍ／ｚ：４３０［Ｍ^＋］
^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝７．９６−７．９５（２Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１３−７．０５（２Ｈ，ｍ），７．０８−７．０４（２Ｈ，ｍ），５．１９（２Ｈ，ｓ），２．４２−２．３５（１Ｈ，ｍ），１．８７（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ），１．３９−１．１７（７Ｈ，ｍ），１．０７−０．９３（２Ｈ，ｍ），０．９０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
（参考例１）１−フルオロ−２−［２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）エチル］−６−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ナフタレンの製造

【0145】

【化37】

【0146】

文献（特開２００１−３９９０５）記載の方法により、１−フルオロ−２−［２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）エチル］−６−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ナフタレン（１０．３ｇ）を得た。
（実施例６） 液晶組成物の調製−１
以下の組成からなるホスト液晶組成物（Ｈ）

【0147】

【化38】

【0148】

を調製した。ここで、（Ｈ）の物性値は以下の通りである。

【0149】

ネマチック相上限温度（Ｔ_ｎｉ）：１１７．２℃
誘電率異方性（Δε）：４．３８
屈折率異方性（Δｎ）：０．０８９９
粘度（η_２０）：２０．３ｍＰａ・ｓ
この母体液晶（Ｈ）８０％と、実施例１で得られた［６−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタン２０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ａ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

【0150】

Ｔ_ｎｉ：１１６．４℃
Δε：９．９４
Δｎ：０．１１８９
η_２０：２６．９ｍＰａ・ｓ
［６−（２−フルオロ−４−プロピルフェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４，５−トリフルオロフェニル）メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉをほとんど変化させず（外挿Ｔ_ｎｉ＝１１３．１℃）、Δεが正に大きくし（外挿Δε＝３２．２）、η_２０をあまり大きくしない（外挿η_２０＝５３．２ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ａ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（実施例７） 液晶組成物の調製−２
母体液晶（Ｈ）８０％と実施例２で得られた［６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４−ジフルオロフェニル）メタン２０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｂ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

【0151】

Ｔ_ｎｉ：１３０．５℃
Δε：８．２０
Δｎ：０．１１３５
η_２０：３１．１ｍＰａ・ｓ
［６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）−１，３−ジフルオロナフタレン−２−オキシ］−（３，４−ジフルオロフェニル）メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉを大きく上昇させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝１８３．６℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝２３．５）、比較的粘度を上昇させにくい（外挿η_２０＝７４．３ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｂ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（実施例８） 液晶組成物の調製−３
母体液晶（Ｈ）８０％と実施例３で得られた（１，３−ジフルオロ−６−プロピルナフタレン−２−オキシ）−［ｔｒａｎｓ−４−（４−（３，４，５−トリフルオロフェニル）３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］メタン２０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｃ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

【0152】

Ｔ_ｎｉ：１１８．４℃
Δε：１２．２
Δｎ：０．１１４１
η_２０：３４．５ｍＰａ・ｓ
（１，３−ジフルオロ−６−プロピルナフタレン−２−オキシ）−［ｔｒａｎｓ−４−（４−（３，４，５−トリフルオロフェニル）３，５−ジフルオロフェニル）シクロヘキシル］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉをほとんど変化させず（外挿Ｔ_ｎｉ＝１２３．４℃）、Δεを正に非常に大きくし（外挿Δε＝４３．６）、比較的粘度を上昇させない（外挿η_２０＝９１．４ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｃ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（実施例９）液晶組成物の調製−４
母体液晶（Ｈ）９０％と実施例４で得られた［１，３−ジフルオロ−６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）ナフタレン−２−オキシ］−［４−（４−トリフルオロメトキシフェニル）フェニル］メタン１０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｄ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

【0153】

Ｔ_ｎｉ：１３４．３℃
Δε：５．８３
Δｎ：０．１１１４
η_２０：３５．９ｍＰａ・ｓ
［１，３−ジフルオロ−６−（２−フルオロ−４−（ｔｒａｎｓ−４−プロピルシクロヘキシル）フェニル）ナフタレン−２−オキシ］−［４−（４−トリフルオロメトキシフェニル）フェニル］メタンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉを極めて大きく上昇させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝２８８．１℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝１８．９）、粘度をほとんど上昇させない（外挿η_２０＝３５．９ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｄ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。
（参考例−２）液晶組成物の調製−５
母体液晶（Ｈ）８０％と参考例１で得られた１−フルオロ−２−［２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）エチル］−６−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ナフタレン２０％からなる液晶組成物（Ｍ−Ｅ）を調製した。この組成物の物性値は以下の通りである。

【0154】

Ｔ_ｎｉ：１１３．２℃
Δε：６．８０
Δｎ：０．１０９３
η_２０：３９．９ｍＰａ・ｓ
１−フルオロ−２−［２−（３，４，５−トリフルオロフェニル）エチル］−６−（トランス−４−ペンチルシクロヘキシル）ナフタレンの添加による効果として、Ｔ_ｎｉを下降させ（外挿Ｔ_ｎｉ＝９７．０℃）、Δεを正に大きくし（外挿Δε＝１６．５）、粘度を大きく上昇させてしまう（外挿η_２０＝１１８．１ｍＰａ・ｓ）ことが分かった。また、調製した液晶組成物（Ｍ−Ｅ）は、室温にて一ヶ月間以上均一なネマチック液晶状態を維持したことから、高い保存安定性を示す事がわかった。

【0155】

実施例６と参考例２を比較する事により、本願発明化合物は参考化合物と比べて、高い保存安定性を維持しながら、Ｔ_ｎｉ及びΔεを大きく上昇させ、さらに粘度を低下させる効果が極めて大きい事がわかる。