特許5965906水性研磨組成物、及び酸化ケイ素誘電体膜とポリシリコン膜を含む基板の化学機械的な研磨方法

発明の名称　水性研磨組成物、及び酸化ケイ素誘電体膜とポリシリコン膜を含む基板の化学機械的な研磨方法

出願人　ビーエーエスエフ　ソシエタス・ヨーロピア　（識別番号 508020155）

　　　　特許公開件数ランキング 117 位（267件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 222 位（137件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-5965906

公報発行日　2016年8月10

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-5965906

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