特許 5987807 薬液容器交換装置、容器載置モジュール及び薬液容器の交換方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5987807

(24)【登録日】2016年8月19日

(45)【発行日】2016年9月7日

(54)【発明の名称】薬液容器交換装置、容器載置モジュール及び薬液容器の交換方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/027 20060101AFI20160825BHJP

   G03F 7/30 20060101ALI20160825BHJP

   G03F 7/16 20060101ALI20160825BHJP

   B05C 11/10 20060101ALI20160825BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/30 562

   G03F7/30 501

   G03F7/16 501

   B05C11/10

【請求項の数】14

【全頁数】25

(21)【出願番号】特願2013-211066(P2013-211066)

(22)【出願日】2013年10月8日

(65)【公開番号】特開2015-76472(P2015-76472A)

(43)【公開日】2015年4月20日

【審査請求日】2015年9月11日

(73)【特許権者】

【識別番号】000219967

【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100091513

【弁理士】

【氏名又は名称】井上 俊夫

(74)【代理人】

【識別番号】100162008

【弁理士】

【氏名又は名称】瀧澤 宣明

(72)【発明者】

【氏名】中島 常長

【審査官】 佐野 浩樹

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０００−０３１０００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−２６６００６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−１７１２５８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−０７１３６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−１１８７８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００６−２１８３９１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開昭６３−２５２５３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−０８７８７３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−１５３２１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開平０５−０８２８９６（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開平０４−０４３９００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２０４９４４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−１９２８５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−０４６９４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−０６６５２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０７−０８０３８８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−０７６４７３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０５Ｃ ５／００ −２１／００ 、

Ｇ０３Ｃ ３／００ 、

Ｇ０３Ｆ ７／００ − ７／１８ 、 ７／２６ − ７／４２ 、

Ｈ０１Ｌ２１／０２７、２１／３０ 、２１／３０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

各々薬液供給路の基端側が装着された薬液容器が配置される複数の配置位置が設けられた容器配置部と、
前記容器配置部の各配置位置に配置されている薬液容器に対して、前記薬液供給路の基端側を着脱する着脱機構と、
前記容器配置部とは異なる位置に設けられ、基板に対して液処理を行うための薬液が貯留されている新たな薬液容器を搬入し、使用済みの薬液容器を搬出するための搬入出ポートと、
前記容器配置部の各配置位置から使用済みの薬液容器を前記搬入出ポートに搬送し、搬入出ポートから新たな薬液容器を前記容器配置部の各配置位置に搬送する共通の容器搬送機構と、を備え、
前記容器配置部、搬入出ポート、及び容器搬送機構による薬液容器の搬送領域は、外部雰囲気から区画された空間に設けられていることを特徴とする薬液容器交換装置。

【請求項2】

前記薬液供給路が取り外された後の使用済みの薬液容器の薬液取り出し口を蓋部により閉じ、新たな薬液容器の蓋部を取り外して薬液取り出し口を開く蓋部開閉機構を備えたことを特徴とする請求項１に記載の薬液容器交換装置。

【請求項3】

前記蓋部開閉機構は、容器配置部に配置された薬液容器に対して蓋部の開閉を行うように設けられていることを特徴とする請求項２に記載の薬液容器交換装置。

【請求項4】

前記外部雰囲気から区画された空間に清浄気体を供給する気体供給部を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置。

【請求項5】

前記外部雰囲気から区画された空間に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給部を備えたことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置。

【請求項6】

前記容器配置部は、前記複数の配置位置を横方向に並べた棚段が上下方向に複数段、積み重ねられた容器棚として構成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置。

【請求項7】

前記容器棚は、基板が複数枚収納されたキャリアが配置されるキャリアブロックと、前記キャリアブロックに対して横方向に並べて設けられ、当該キャリアブロックに配置されたキャリアから取り出された基板に対して前記薬液供給路を介して送られた薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックとの間に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の薬液容器交換装置。

【請求項8】

基板が複数枚収納されたキャリアが配置される前方側のキャリアブロックと、前記キャリアブロックの後方側に横方向に並べて設けられ、当該キャリアブロックに配置されたキャリアから取り出された基板に対して前記薬液供給路を介して送られた薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックと、に対し、
前記容器棚は、前記キャリアブロックの前方側であって前記キャリアが配置される位置の上方側、または前方側から見て前記キャリアブロックの両脇に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の薬液容器交換装置。

【請求項9】

前記容器配置部は、前記複数の配置位置を横方向に並べて構成され、前記容器配置部と、前記薬液供給路を介して送られた薬液を基板に供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックとが積み重ねて配置されていることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置。

【請求項10】

前記容器配置部には、予め設定された前記複数の配置位置に種類の異なる薬液を貯溜した薬液容器が対応付けて配置され、
前記搬入出ポートに搬入された薬液容器に貯留されている薬液の種類を識別する識別情報を取得する取得部と、前記容器搬送機構を制御する搬送制御部と、を備え、
前記搬送制御部は、前記取得部にて取得された識別情報が示す薬液の種類が、前記搬入出ポートに搬入された薬液容器の搬送先の配置位置に対応付けられている薬液の種類と一致している場合に、当該配置位置へ薬液容器を搬送することを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置。

【請求項11】

前記取得部は、前記識別情報であるバーコードを読み取るためのバーコードリーダであり、前記バーコードリーダは、前記搬入出ポートに搬入された薬液容器に対応付けられたバーコードを読み取る位置に配置されていることを特徴とする請求項１０に記載の薬液容器交換装置。

【請求項12】

前記薬液供給路は、基板にレジストを塗布するレジスト塗布モジュールと、露光後の基板に対して現像液を供給する現像モジュールとに接続され、前記複数の容器載置部には、レジスト液または現像液を貯溜した薬液容器が載置されることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置。

【請求項13】

請求項１ないし１２のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置に設けられ、前記薬液容器の配置位置を構成する容器載置モジュールであって、
前記容器載置モジュールに載置され、基板に対して液処理を行うための薬液が貯留されている前記薬液容器に対して、前記薬液供給路の基端側を着脱する着脱機構と、
前記容器載置モジュール内に清浄気体を供給する気体供給部と、を備えたことを特徴とする容器載置モジュール。

【請求項14】

請求項１ないし１２のいずれか一つに記載の薬液容器交換装置を用い、基板に対して液処理をおこなうための薬液を供給する薬液容器の交換方法であって、
使用済みの薬液容器に装着された薬液供給路の基端側を取り外す工程と、
前記薬液供給路の基端側を新たな薬液容器に取り付ける工程と、を含み、
前記取り外し工程と前記取り付け工程とを前記外部雰囲気から区画された空間にて行うことを特徴とする薬液容器の交換方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、薬液を用いて基板の処理を行う基板処理装置にて、この薬液を貯溜した薬液容器を交換する技術に関する。

【背景技術】

【0002】

半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、基板である半導体ウエハ（以下、ウエハという）の表面にレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。この処理は、レジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置（基板処理装置）に、露光装置を接続したシステムを用いて行われる。

【0003】

塗布、現像装置は、液処理モジュールを用いてウエハに各種の薬液を順次供給することによってレジスト塗布処理や現像処理など、フォトレジスト工程に係る各種の処理を実行する。このため、塗布、現像装置には、各種の薬液を貯溜した薬液容器の収容領域が設けられ、ここから各液処理モジュールへと薬液が供給される。

【0004】

多数枚のウエハに対して処理が行われ、薬液容器内の薬液が空になった場合には、使用済みの薬液容器は、例えばオペレータによって収容領域から取り出され、新たな薬液容器と交換される。ところが、塗布、現像装置で用いられる薬液の中には、空気との接触などにより性状が変質するものも存在し、前記収容領域を開放して薬液容器を交換する作業は、ウエハ間で均質な処理を実行する際の不安定要因ともなる。また、薬液容器の交換時に、外部のパーティクルが当該容器内に進入すると、パーティクルの混入した薬液がウエハに供給され、ウエハを汚染してしまうおそれもある。

【0005】

ここで特許文献１には、液体取り出しパイプが設けられたキャップに対して昇降自在に構成されたテーブル上に、レジスト液などを貯留する容器を載置して、このテーブルを昇降させることによって容器に対して液体取り出しパイプの挿入、抜出を行う液体の連続供給装置が記載されている。また、特許文献２には、レジスト塗布処理や現像処理を行う基板処理装置にて、処理液の収容容器にその内容物の情報を記憶したＩＣタグシールを添付しておき、複数の収容容器を設置可能な設置区画に収容容器が設置された後、ＩＣタグシールから読み取った情報と、各設置区画に配置されるべき収容容器の内容物についての情報とを照合することにより、誤った処理液を収容した収容容器が設置されることを抑制する技術が記載されている。
しかしながらこれらの特許文献のいずれにおいてもテーブルや設置区画に配置されている使用済みの容器と新しい容器とを交換する際に、液の変質やパーティクルの混入を抑制する技術は言及されていない。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】実開平５−８２８９６号公報：段落０００６〜０００７、図１

【特許文献2】特開２０１０−１７１２５８号公報：請求項１、段落００８２〜００８３、０１３５〜０１３６、図６

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、清浄な雰囲気下で薬液容器の交換をすることが可能な薬液容器交換装置、容器載置モジュール及び薬液容器の交換方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0008】

本発明の薬液容器交換装置は、各々薬液供給路の基端側が装着された薬液容器が配置される複数の配置位置が設けられた容器配置部と、
前記容器配置部の各配置位置に配置されている薬液容器に対して、前記薬液供給路の基端側を着脱する着脱機構と、
前記容器配置部とは異なる位置に設けられ、基板に対して液処理を行うための薬液が貯留されている新たな薬液容器を搬入し、使用済みの薬液容器を搬出するための搬入出ポートと、
前記容器配置部の各配置位置から使用済みの薬液容器を前記搬入出ポートに搬送し、搬入出ポートから新たな薬液容器を前記容器配置部の各配置位置に搬送する共通の容器搬送機構と、を備え、
前記容器配置部、搬入出ポート、及び容器搬送機構による薬液容器の搬送領域は、外部雰囲気から区画された空間に設けられていることを特徴とする。

【0009】

前記薬液容器交換装置は、以下の構成を備えていてもよい。
（ａ）前記薬液供給路が取り外された後の使用済みの薬液容器の薬液取り出し口を蓋部により閉じ、新たな薬液容器の蓋部を取り外して薬液取り出し口を開く蓋部開閉機構を備えたこと。この蓋部開閉機構は、容器配置部に配置された薬液容器に対して蓋部の開閉を行うように設けられていること。
（ｂ）前記外部雰囲気から区画された空間に清浄気体を供給する気体供給部を備えたこと。また、前記外部雰囲気から区画された空間に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給部を備えたこと。
（ｃ）前記容器配置部は、前記複数の配置位置を横方向に並べた棚段が上下方向に複数段、積み重ねられた容器棚として構成されていること。このとき、前記容器棚は、基板が複数枚収納されたキャリアが配置されるキャリアブロックと、前記キャリアブロックに対して横方向に並べて設けられ、当該キャリアブロックに配置されたキャリアから取り出された基板に対して前記薬液供給路を介して送られた薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックとの間に設けられていること。または、基板が複数枚収納されたキャリアが配置される前方側のキャリアブロックと、前記キャリアブロックの後方側に横方向に並べて設けられ、当該キャリアブロックに配置されたキャリアから取り出された基板に対して前記薬液供給路を介して送られた薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックと、に対し、前記容器棚は、前記キャリアブロックの前方側であって前記キャリアが配置される位置の上方側、または前方側から見て前記キャリアブロックの両脇に設けられていること。
（ｄ）前記容器配置部は、前記複数の配置位置を横方向に並べて構成され、前記容器配置部と、前記薬液供給路を介して送られた薬液を基板に供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックとが積み重ねて配置されていること。
（ｅ）前記容器配置部には、予め設定された前記複数の配置位置に種類の異なる薬液を貯溜した薬液容器が対応付けて配置され、前記搬入出ポートに搬入された薬液容器に貯留されている薬液の種類を識別する識別情報を取得する取得部と、前記容器搬送機構を制御する搬送制御部と、を備え、前記搬送制御部は、前記取得部にて取得された識別情報が示す薬液の種類が、前記搬入出ポートに搬入された薬液容器の搬送先の配置位置に対応付けられている薬液の種類と一致している場合に、当該配置位置へ薬液容器を搬送すること。このとき、前記取得部は、前記識別情報であるバーコードを読み取るためのバーコードリーダであり、前記バーコードリーダは、前記搬入出ポートに搬入された薬液容器に対応付けられたバーコードを読み取る位置に配置されていること。
（ｆ）前記薬液供給路は、基板にレジストを塗布するレジスト塗布モジュールと、露光後の基板に対して現像液を供給する現像モジュールとに接続され、前記複数の容器載置部には、レジスト液または現像液を貯溜した薬液容器が載置されること。

【発明の効果】

【0010】

本発明は、薬液容器が配置される容器配置部を設け、容器搬送機構を用いて容器配置部における薬液容器の交換を行い、薬液供給路の着脱動作を着脱機構により実行するので、外部雰囲気と区画された領域内に容器配置部を設け、人手を介さずに薬液容器の交換をすることが可能となる。この結果、パーティクルなどの汚染物質が薬液容器に混入することを避けると共に、容器配置部に不活性ガスを供給して薬液の変質などを低減することもできる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】発明の実施の形態に係る塗布、現像装置の外観斜視図である。

【図2】前記塗布、現像装置の横断平面図である。

【図3】前記塗布、現像装置の縦断側面図である。

【図4】前記塗布、現像装置に設けられている薬液ブロックの縦断正面図である。

【図5】前記薬液ブロックに設けられている容器搬送機構の第１の説明図である。

【図6】前記容器搬送機構の第２の説明図である。

【図7】前記薬液ブロックに設けられている容器配載置モジュールの第１の説明図である。

【図8】前記容器載置モジュールの第２の説明図である。

【図9】薬液ノズルへの薬液供給路を示す説明図である。

【図10】前記薬液ブロックにて薬液容器を交換する動作に係る流れ図である。

【図11】前記容器搬送機構の他の例を示す平面図である。

【図12】前記容器搬送機構のさらに他の例を示す正面図である。

【図13】塗布、現像装置にて薬液ブロックを配置可能な位置を示す模式図である。

【図14】前記薬液ブロックの第２の配置例を示す外観斜視図である。

【図15】前記薬液ブロックの第３の配置例を示す外観斜視図である。

【図16】前記薬液ブロックの第４の配置例を示す外観斜視図である。

【図17】第２の実施の形態に係る塗布、現像装置の外観斜視図である。

【図18】前記第２の塗布、現像装置の横断平面図である。

【図19】前記第２の塗布、現像装置の縦断側面図である。

【図20】前記第２の塗布、現像装置の薬液ブロックに設けられている容器搬送機構の構成例を示す側面図である。

【図21】容器搬送機構のアーム及びトレーの他の構成例を示す斜視図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

本発明が適用される塗布、現像装置１（基板処理装置）の構成について図１〜図９を参照しながら説明する。図１に示すように、本例の塗布、現像装置１は、キャリアブロックＤ１と、薬液ブロックＤ２と、処理ブロックＤ３と、インターフェイスブロックＤ４と、が直線状に接続されている。インターフェイスブロックＤ４にはさらに露光装置Ｄ５が接続されている。以下、ブロックＤ１〜Ｄ４の配列方向を前後方向、キャリアブロックＤ１が配置されている一端側を手前側として説明を行う。

【0013】

キャリアブロックＤ１は、同一ロットのウエハＷを複数枚収容したＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）などからなるキャリアＣと、塗布、現像装置１との間でウエハＷを搬入出する役割を有する。図２に示すようにキャリアブロックＤ１は、キャリアＣの載置台２１と、キャリアＣの蓋の開閉を行う開閉部２２と、キャリアＣからウエハＷを取り出して搬送するための搬送アーム２３とを備えている。

【0014】

図１、図３に示すように、処理ブロックＤ３は、ウエハＷに液処理を行う第１〜第６の単位ブロックＢ１〜Ｂ６が下から順に積層されている。説明の便宜上ウエハＷに下層側の反射防止膜を形成する処理を「ＢＣＴ」、ウエハＷにレジスト膜を形成する処理を「ＣＯＴ」、露光後のウエハＷにレジストパターンを形成するための処理を「ＤＥＶ」と夫々表現する場合がある。本例では、下からＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２、ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４、ＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６が２層ずつ積み上げられている。同種の単位ブロックにおいては、互いに並行してウエハＷの搬送及び処理が行われる。

【0015】

これらの単位ブロックを代表して、図２にはＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４を例示してある。ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４には、キャリアブロックＤ１からインターフェイスブロックＤ４へ向かう方向に伸びるように搬送領域３１が設けられ、搬送領域３１の一方側（例えば手前側から見て左手）の側方に複数の棚ユニットＵが前後方向に並んで配置されている。また、前記搬送領域３１の他方側（例えば手前側から見て右手）の側方には回転するウエハＷの表面に各種薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールであるレジスト膜形成モジュールＣＯＴや保護膜形成モジュールＩＴＣが前後方向に並べて設けられている。

【0016】

レジスト膜形成モジュールＣＯＴは、ウエハＷにレジストを供給してレジスト膜を形成する。保護膜形成モジュールＩＴＣは、レジスト膜上に所定の処理液を供給し、当該レジスト膜を保護する保護膜を形成する。また各棚ユニットＵは、不図示の加熱モジュールを備え、前記搬送領域３１には、ウエハＷの搬送機構である搬送アームＦ３、Ｆ４が設けられている。

【0017】

他の単位ブロックＢ１、Ｂ２、Ｂ５及びＢ６は、ウエハＷに供給する薬液が異なることを除き、単位ブロックＢ３、Ｂ４とほぼ同様に構成される。単位ブロックＢ１、Ｂ２は、液処理モジュールとして、レジスト膜形成モジュールＣＯＴや保護膜形成モジュールＩＴＣの代わりに反射防止膜形成モジュールＢＣＴを備え、単位ブロックＢ５、Ｂ６は、現像モジュールＤＥＶを備える。図３では各単位ブロックＢ１〜Ｂ６の搬送アームはＦ１〜Ｆ６と示している。

【0018】

処理ブロックＤ３における前方側には、各単位ブロックＢ１〜Ｂ６に跨って上下方向に伸びるタワーＴ１と、タワーＴ１に設けられた複数のモジュール間でのウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在な受け渡しアーム３２とが設けられている。タワーＴ１には、複数のモジュールが上下方向に互いに積層されて設けられ、これらのモジュールのうち、各単位ブロックＢ１〜Ｂ６の高さに対応して設けられている受け渡しモジュールＴＲＳは、単位ブロックＢ１〜Ｂ６内の搬送アームＦ１〜Ｆ６との間でウエハＷの受け渡しを行う際に用いられる。

【0019】

タワーＴ１に設けられているモジュールの具体例を挙げると、単位ブロックＢ１〜Ｂ６との間でのウエハＷを受け渡す際に用いられる既述の受け渡しモジュールＴＲＳ、ウエハＷの温度調整を行う温調モジュールＣＰＬ、複数枚のウエハＷを一時的に保管するバッファモジュールＢＵ、ウエハＷの表面を疎水化する疎水化処理モジュールＡＤＨなどがある。説明を簡単にするため、前記疎水化処理モジュールＡＤＨ、温調モジュールＣＰＬ、バッファモジュールＢＵについての図示は省略してある。

【0020】

インターフェイスブロックＤ４は、単位ブロックＢ１〜Ｂ６に跨って上下方向に伸びるタワーＴ２、Ｔ３、Ｔ４を備えている（図２、図３）。インターフェイスブロックＤ４には、タワーＴ２とタワーＴ３との間でウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在なインターフェイスアーム４１と、タワーＴ２とタワーＴ４との間でウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在なインターフェイスアーム４２と、タワーＴ２と露光装置Ｄ５との間でウエハＷの受け渡しを行うためのインターフェイスアーム４３とが設けられている。

【0021】

タワーＴ２は、受け渡しモジュールＴＲＳ、露光処理前の複数枚のウエハＷを格納して滞留させるバッファモジュールＢＵ、露光処理後の複数枚のウエハＷを格納するバッファモジュールＢＵ、及びウエハＷの温度調整を行う温調モジュールＣＰＬなどが互いに積層されて構成されているが、タワーＴ１の場合と同様に、バッファモジュールＢＵ及び温調モジュールＣＰＬの図示は省略する。

【0022】

また、手前側から見てタワーＴ２の右手に配置されているタワーＴ３には、露光処理後のウエハＷの洗浄処理を行う複数台の露光後洗浄モジュールＰＩＲが上下方向に積層されて配置されている。一方、タワーＴ２の左手に配置されているタワーＴ４には露光装置Ｄ５に搬入される前のウエハＷの裏面洗浄を行う複数台の裏面洗浄モジュールＢＳＴが上下方向に積層されて配置されている。これらのモジュールの記載についても図示は省略してある。

【0023】

以上に説明した構成を備えた本例の塗布、現像装置１は、液処理モジュールである反射防止膜形成モジュールＢＣＴ、膜形成モジュールＣＯＴ、保護膜形成モジュールＩＴＣや現像モジュールＤＥＶに供給される薬液を貯留した複数の薬液容器５０を収容するための薬液ブロックＤ２を備えている。以下、当該薬液ブロックＤ２の詳細な構成について説明する。

【0024】

本例の薬液ブロックＤ２は、塗布、現像装置１が配置されている工場内の雰囲気（外部雰囲気）及び他のブロックＤ１、Ｄ３から区画された筐体内に設けられ、キャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３の並び方向に沿って、これらキャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３との間に前後を挟まれるように配置されている。
薬液ブロックＤ２には、外部から搬入された薬液容器５０がトレー５０に収容された状態で載置されるトレー載置台６９と、各液処理モジュールへ薬液を供給するために薬液容器５０が配置される容器配置部を構成する複数の容器載置モジュール６と、これらトレー載置台６９と各容器載置モジュール６との間で薬液容器５０を搬送する容器搬送機構７と、を備えている。

【0025】

図４に示すようにトレー載置台６９は、薬液ブロックＤ２の側壁面に形成され、開閉部６４１によって開閉自在に構成された容器搬入出口６４ａと対向する位置に設けられている。トレー載置台６９は、オペレータによって容器搬入出口６４ａを介して薬液容器５０の搬入、搬出が行われる位置と、容器搬送機構７との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置との間を横方向に移動することができる。

【0026】

容器搬送機構７との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置に移動したトレー載置台６９の上方側には、上下方向へ向けて薬液容器５０を搬送するための容器搬入出路６４ｂが形成されている。容器搬入出路６４ｂの上端部は、薬液ブロックＤ２の天井面へ向けて開口し、この開口部は開閉部６４１によって開閉自在に構成されている。一方、本例の塗布、現像装置１が配置されている工場の天井部には、軌道に沿って薬液容器５０を搬送するＯＨＴ（Overhead Hoist Transport）１０１が配置されている。ＯＨＴ１０１は、把持部１０２を降下、上昇させることによって、容器搬入出路６４ｂの開口部を介して、その下方位置に移動したトレー載置台６９との間で薬液容器５０の受け渡しを行う。
トレー載置台６９や容器搬入出口６４ａ、容器搬入出路６４ｂは、本実施の形態の搬入出ポートを構成している。

【0027】

容器搬入出口６４ａや容器搬入出路６４ｂを介して薬液ブロックＤ２内に搬入される薬液容器５０は、トレー５１に収容されている。図２、図５に示すようにトレー５１は、上面が開口した直方体形状の容器であり、薬液を貯留した薬液容器５０の本体がこのトレー５１内に収容される。トレー５１内の底部には、予め設定された位置に薬液容器５０を固定するための容器受部５１１が設けられている。また、トレー５１の側面には、ＯＨＴ１０１の把持部１０２により、トレー５１を把持するための不図示の取手部が設けられている。さらにトレー５１の底部には、後述する容器搬送機構７のアーム７２２を挿入するための切り欠き部５１２が形成されている（図５、図７などを参照）。

【0028】

薬液容器５０は、例えばプラスチック製やガラス製の細口ビンとして構成され、その開口部（薬液取り出し口）がねじ蓋などからなる蓋部５０１によって密封された状態で薬液ブロックＤ２内に搬入される。薬液容器５０の本体の外面には、薬液容器５０に貯留されている薬液の種類を識別するための識別情報であるバーコード５０２が貼付されている。また、容器搬送機構７との薬液容器５０の受け渡し位置に移動したトレー載置台６９の近傍には、薬液を識別する情報の取得部であるバーコードリーダ８１が配置されている。このバーコードリーダ８１によってバーコード５０２を読み取ることにより、搬入された薬液容器５０内に貯留されている薬液の種類を識別することができる。このバーコード５０２はトレー５１に設けてもよい。
ここで薬液の種類を識別する識別情報を取得する手法は、バーコード５０２とバーコードリーダ８１との組み合わせに限られるものではない。ＩＣタグを薬液容器５０やトレー５１に設け、このＩＣタグと通信を行って識別情報を取得する通信部をトレー載置台６９の近傍に配置してもよい。

【0029】

図２、図５などに示すように、薬液容器５０の搬送を行う容器搬送機構７は、本体部７１に、薬液容器５０を保持する２組のアーム（第１アーム７２１及び第２アーム７２２）を設けた構成となっている。第１、第２アーム７２１、７２２は、互いに連結された状態で本体部７１の上面側に設けられ、本体部７１から各アーム７２１、７２２を伸張させて、トレー載置台６９や容器載置モジュール６との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置と、本体部７１上に各アーム７２１、７２２を折り畳んで薬液容器５０の搬送を行う位置との間で伸縮自在に構成されている。さらに第１アーム７２１の伸縮方向の先端部及び後端部には、搬送中におけるトレー５１の位置ずれを防止するために、トレー５１の保持位置を前後から規制するトレーガイド７２３が設けられている。

【0030】

本体部７１は、回転軸７３を介して支持部７４上に保持され、鉛直軸周りに回転自在に構成されている。この結果、トレー載置台６９との間で薬液容器５０の受け渡しを行う向き（図２に実線で示してある）と、各容器載置モジュール６との間で薬液容器５０の受け渡しを行う向き（同図中に破線で示してある）との間で、各組のアーム７２１、７２２の伸縮方向を変更することができる。

【0031】

また、図２、図３に示すように、本体部７１を保持する支持部７４は、上下方向に伸びる２本の昇降レール７５１に支持され、さらにこれら昇降レール７５１の上端部及び下端部は、薬液ブロックＤ２の天井部近傍、及び床面近傍に沿って横方向に伸びる移動レール７５２によって支持されている。そして、昇降レール７５１、移動レール７５２に設けられた不図示の駆動機構により、支持部７４が上下方向に昇降自在、昇降レール７５１が左右方向に移動自在に構成されていることにより、薬液ブロックＤ２の内壁面に沿った任意の位置に本体部７１を移動させることができる。そして、前述のトレー載置台６９と各容器載置モジュール６との間で容器搬送機構７（本体部７１）が移動する領域が、薬液容器５０の搬送領域となる。

【0032】

容器搬送機構７は、第２アーム７２２に設けられた前後のトレーガイド７２３の間に位置するトレー５１の載置領域を、既述の切り欠き部５１２を介してトレー５１の下方側に進入させ、次いで第２アーム７２２を上昇させることによりトレー載置台６９や容器載置モジュール６から薬液容器５０を受け取る（図５）。そして第１、第２アーム７２１、７２２を折り畳み、本体部７１上にトレー５１を配置した状態で薬液容器５０の搬送を行う（図６）。なお、本体部７１には、切り欠き部５１２の左右位置から下方側へ向けて伸びるトレー５１の側壁の下端部との干渉を避けるための溝部７１１が形成されている（例えば、容器搬送機構７の変形例に係わる図１２に記載の溝部７１１参照）。

【0033】

容器搬送機構７が上下左右に移動する薬液ブロックＤ２の内壁面に対向する領域には、互いに区画された複数の容器載置モジュール６が格子棚状に上下左右に並べて配置された容器配置部である容器棚６０が設けられている（図４）。本例では、５個の容器載置モジュール６を横方向に並べてなる棚段が、上下方向に４段積み重ねられて容器棚６０が構成されている。この容器棚６０には、後述するウエハ搬送路６５が配置される位置を除いて合計１９個の容器載置モジュール６が設けられている。

【0034】

塗布、現像装置１においては、濃度や成分の異なる複数種類のレジスト液が使い分けられる他、露光後のレジスト膜の現像を行う現像液、ウエハの表面でレジスト液を広がり易くするためのシンナー、レジスト膜の上面や下面に形成される反射防止膜や保護膜の原料液など、多種類の薬液が用いられる。容器棚６０内の容器載置モジュール６は、これら各種の薬液を貯留した薬液容器５０が１つずつ配置される配置位置となっている。また、ある薬液容器５０内の薬液が空になった場合に、他の薬液容器５０から継続して液処理モジュールへ薬液を供給できるように、同種の薬液を貯留した薬液容器５０を複数の容器載置モジュール６に配置し、これらの薬液容器５０を切り替えて薬液を供給する場合もある。

【0035】

図７、図８に示すように、各容器載置モジュール６は、容器搬送機構７に対向する前面が開放され、互いに区画された棚内に設けられ、液処理モジュールへの薬液供給路の基端側を構成する吸引ノズル６１１と、薬液容器５０に対してこの吸引ノズル６１１の着脱を行うノズル着脱機構６１と、薬液容器５０を密封する蓋部５０１の開閉を行う蓋部開閉機構６２と、容器載置モジュール６の空間内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部６３と、を備えている。

【0036】

ノズル着脱機構６１は、下方側へ向けて伸び出し、下端部が開口した樹脂製や金属製の細管からなる吸引ノズル６１１の上端部を支持し、水平方向に伸びる支持アーム６１２と、前記吸引ノズル６１１の支持位置とは反対側の支持アーム６１２の基端部を支持し、上下方向に伸縮自在に構成された昇降機構６１３と、を備えている。

【0037】

吸引ノズル６１１は、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入したとき、開口部の形成された下端部が、薬液容器５０の底面近傍まで進入することが可能な長さを備え、薬液容器５０内に貯留されている薬液のほぼ全量を吸引することが可能なストロー管として構成されている。吸引ノズル６１１は、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入したとき、薬液容器５０の開口を上面側から押さえて当該開口を塞ぐ、例えばゴム製の保持部６１４を介して支持アーム６１２に保持されている。昇降機構６１３は、支持アーム６１２を昇降させることにより、吸引ノズル６１１の全体が薬液容器５０の開口部の上方側に抜き出された抜出位置（図７）と、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入した装着位置（図８）との間で、吸引ノズル６１１を移動させる。

【0038】

蓋部開閉機構６２は、蓋部５０１の開閉を実行する開閉部６２１と、開閉部６２１を保持する支持アーム６２２と、支持アーム６２２を昇降させる昇降機構６２３と、を備えている。
開閉部６２１は、薬液容器５０を密封する蓋部５０１の外周面に密着して嵌合する開口を備えた部材であり、前記開口を下方側へ向けて支持アーム６２２の先端部に保持されている。開閉部６２１は、支持アーム６２２内に設けられた不図示の駆動機構により、蓋部５０１を開ける方向と、閉じる方向とに、鉛直軸周りに回転自在に構成されている。

【0039】

本例の支持アーム６２２は、昇降機構６２３に支持された基端側のアームと、開閉部６２１を保持する先端側のアームとが鉛直方向に伸びる回転軸を介して連結されている。これにより、薬液容器５０上端部に開閉部６２１を対向させて蓋部５０１の開閉を行う開閉位置（図７）と、この開閉位置から開閉部６２１を側方に退避させ、ノズル着脱機構６１による吸引ノズル６１１の着脱動作との干渉を避ける退避位置（図８）との間で、開閉部６２１を移動させることができる。また開閉部６２１は、退避位置への移動時に、取り外した蓋部５０１を持った状態で退避位置へと移動する。

【0040】

また本例の蓋部開閉機構６２において、昇降機構６２３は例えば隣り合う容器載置モジュール６を区画する区画壁の壁面に設けられ、開閉位置に移動させた開閉部６２１を降下させて蓋部５０１に嵌合させる動作や、蓋部５０１の開閉時、蓋部５０１の移動にあわせて開閉部６２１を昇降させる動作を実行する。

【0041】

不活性ガス供給部６３は、開閉部６２１により蓋部５０１の開閉動作が行われる領域へ開口部を向けて配置された不活性ガス供給管６３１と、この不活性ガス供給管６３１に介設され、容器載置モジュール６に供給される不活性ガス中のパーティクルを除去するフィルタ６３２と、不活性ガス供給管６３１の基端部に設けられ、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスの供給を実行する不活性ガス供給源６３３と、を備えている。

【0042】

不活性ガス供給管６３１は、蓋部５０１の開閉動作時に、開放された薬液容器５０内への空気の進入を抑制するため、薬液容器５０の開口部へ向けて不活性ガスを供給する。図８に示すように、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入した際、保持部６１４によって薬液容器５０の開口を塞ぐ構成となっている場合には、薬液を払い出すことによって薬液容器５０内が真空雰囲気とならないように、薬液容器５０内に不活性ガスを供給する機構をノズル着脱機構６１に設けてもよい。
また、薬液容器５０の開口を密閉せずに、当該開口から周囲の気体を取り込んで薬液容器５０内の圧力を維持する場合には、容器載置モジュール６の前面に開閉扉（シャッタ）を設けて容器載置モジュール６内を密閉可能とし、この区画内に不活性ガスを供給しながら薬液を払い出してもよい。

【0043】

フィルタ６３２は、フィルタカートリッジ内にＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタなどのガスフィルタを格納した構成となっている。また不活性ガス供給源６３３は、不活性ガスが貯留されたガス貯溜部と、流量調節部とを備え、不活性ガスの給断や流量調節を実行することが可能である。例えば不活性ガス供給源６３３は、各々容器載置モジュール６へ不活性ガスを供給する複数の不活性ガス供給管６３１に対して共通に設けられる。

【0044】

ここで全ての容器載置モジュール６に対して不活性ガス供給部６３を設けることは必須の要件ではなく、例えば大気との接触に伴う薬液の変質が少なく、不活性ガスを供給する効果が小さい薬液を貯留した薬液容器５０が配置される容器載置モジュール６に対しては、不活性ガス供給部６３を設けなくてもよい。

【0045】

図９には、吸引ノズル６１１が装着された薬液容器５０から各液処理モジュール３３の薬液ノズル３３６までの薬液供給路３３８を示してある。各容器載置モジュール６に配置された薬液容器５０は、薬液供給路３３８に介設されている薬液ポンプ６８１によって薬液容器５０から吸引され、各薬液ノズル３３６に送液される。薬液ポンプ６８１の下流には開閉バルブ６８２が配置され、この開閉バルブ６８２を駆動させることにより、各薬液ノズル３３６への薬液の給断が行われる。各薬液供給路３３８に介設された薬液ポンプ６８１や開閉バルブ６８２は、図３、図４に示すポンプ配置部６８にまとめて配置され、薬液容器５０から払い出された薬液がポンプ配置部６８に設けられた薬液ポンプ６８１によって各層Ｂ１〜Ｂ６の液処理モジュール３３へ向けて供給される。

【0046】

液処理モジュール３３の概要について説明しておくと、ノズルアーム３３７は、液処理モジュール３３にて実行される液処理の種類に応じて、１種類、または複数種類の薬液の供給を行うために、１本または複数本の薬液ノズル３３６を保持している。そして回転駆動部３３２によって鉛直軸周りに回転するスピンチャック３３１上に１枚ずつ保持されたウエハＷの表面に、薬液ノズル３３６から所定量の薬液を順次、供給することによりウエハＷに対して枚葉毎に液処理が行われる。回転するウエハＷから振り飛ばされた薬液は、スピンチャック３３１の周囲に配置されたカップ体３３３により受け止められて、排液口３３５を介して外部へ排出される。また、カップ体３３３内に流れ込んだ気流は排気口３３４を介して外部へ排出される。

【0047】

ここで、薬液ブロックＤ２に収容された薬液容器５０からの薬液の供給先は、上述の液処理モジュール３３に加え、例えばウエハＷの表面を疎水化する疎水化処理モジュールＡＤＨに疎水化処理ガスを供給する疎水化処理ガスの発生機構であってもよい。

【0048】

容器載置モジュール６に載置された薬液容器５０内の薬液の量は、例えば容器載置モジュール６内に設けられた不図示の液面計や薬液供給路３３８に設けられた不図示の流量計などによって監視される。これらの例では、薬液容器５０内の薬液量が予め設定された液面高さを下回った場合や、薬液ポンプ６８１を稼働させ、開閉バルブ６８２を薬液ノズル３３６に連通させても所定の流量が検出されない場合などに、薬液容器５０の交換時期との判断がされる。

【0049】

また塗布、現像装置１の天井部にはＦＦＵ（Fan Filter Unit）６７が設けられ、塗布、現像装置１の各ブロックＤ１〜Ｄ４内に清浄空気の下降流を形成することができる。そして図３に示すように、ＦＦＵ６７は薬液ブロックＤ２を構成する筐体内に清浄空気の下降流を形成し、この雰囲気内で蓋部５０１の開閉、吸引ノズル６１１の着脱を行うことにより、パーティクルなどの汚染物質の薬液への混入が抑えられる。この観点においてＦＦＵ６７は、本例の清浄気体供給部に相当する。

【0050】

ここで既述のように、薬液ブロックＤ２は、キャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３との間に前後を挟まれるように配置されている。このためキャリアブロックＤ１にて取り出されたウエハＷや処理ブロックＤ３にて処理を終えたウエハＷは、この薬液ブロックＤ２を通り抜けて搬送先のブロックＤ３、Ｄ１へと搬送される。

【0051】

一方、各種の薬液を貯留した薬液容器５０の蓋部５０１の開閉が行われる薬液ブロックＤ２内にはこれらの薬液やその溶剤が揮発する可能性があるため、多種の薬液成分が浮遊しているおそれのある雰囲気中に、処理前や処理後のウエハＷを晒すことは好ましくない。また容器搬送機構７に加えて、ブロックＤ３、Ｄ１間でウエハＷを搬送する搬送機構が頻繁に往来することによってパーティクルが発生し、薬液ブロックＤ２内が汚染されることも好ましくない。

【0052】

そこで図３、図４に示すように、本例の薬液ブロックＤ２には、キャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３とを接続する角管状のウエハ搬送路６５が、薬液ブロックＤ２を水平方向に貫通するように配置され、このウエハ搬送路６５によって薬液ブロックＤ２内の雰囲気と、他のブロックＤ１、Ｄ３の雰囲気とが区画されている。ウエハ搬送路６５内にはシャトルアーム６６が配置され、このシャトルアーム６６によって両ブロックＤ１、Ｄ３間のウエハＷの搬送が行われる。シャトルアーム６６は、キャリアブロックＤ１の搬送アーム２３と、処理ブロックＤ３内のタワーＴ１に配置された受け渡しモジュールＴＲＳ０との間でウエハＷの搬送を行う。

【0053】

ウエハ搬送路６５は、前記受け渡しモジュールＴＲＳ０から、前方のキャリアブロックＤ１へ向けて横方向に伸び出すように設けられている。このため、当該ウエハ搬送路６５が容器棚６０を貫通している位置には、容器載置モジュール６が設けられていない（図４）。
また、移動レール７５２の伸びる方向に沿って横方向に移動する昇降レール７５１との干渉を避けるため、ウエハ搬送路６５には昇降レール７５１を通過させるための切り欠き部６５１が設けられている（図３）。切り欠き部６５１の幅は、昇降レール７５１を通過させることが可能であり、且つ、薬液ブロックＤ２内、ウエハ搬送路６５内の各々の雰囲気が混じり合うことによって、既述の薬液成分やシャトルアーム６６にて発生したパーティクルによる汚染が問題とならない程度に十分に狭くなっている。また、これらの雰囲気の混じり合いが発生しにくくなるように、切り欠き部６５１を形成するウエハ搬送路６５の切り欠き面の一方側から、他方側へ向けて清浄空気を流してエアカーテンを形成してもよい。

【0054】

以上に説明した構成を備えた塗布、現像装置１は、図２、図５、図７、図９などに示すように制御部８と接続されている。制御部８はＣＰＵと記憶部とを備えたコンピュータからなり、記憶部には塗布、現像装置１の作用、即ち各ブロックＤ１〜Ｄ４におけるウエハＷの搬送やウエハＷの処理、薬液ブロックＤ２内における薬液容器５０の搬送や容器載置モジュール６の薬液容器５０交換に係る動作についてのステップ（命令）群が組まれたプログラムが記録されている。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶媒体に格納され、そこからコンピュータにインストールされる。

【0055】

特に、薬液ブロックＤ２における薬液容器５０の搬送に関して、制御部８には、容器棚６０に設けられた複数の容器載置モジュール６（薬液容器５０の載置位置）を識別する情報と、各容器載置モジュール６に配置されるべき薬液容器５０に貯留されている薬液の種類とが予め対応付けて記憶されている。また、バーコードリーダ８１にて読み取られるバーコード５０２の情報と薬液の種類との対応関係についても記憶されている。これらの情報により、ある容器載置モジュール６にて薬液容器５０を交換する必要が発生したとき、この容器載置モジュール６にいずれの薬液を貯留した容器載置モジュール６が搬送されるべきかを判断して、容器搬送機構７による薬液容器５０の搬送先を特定することができる。この観点において、制御部８は容器搬送機構７による薬液容器５０の搬送可否や搬送先の制御を行う搬送制御部を構成しているといえる。

【0056】

以下、本実施の形態に係る塗布、現像装置１の作用について説明する。なお、説明の便宜上、図示を省略したモジュールにおける処理など、一部の処理の説明を省略する場合がある。
ウエハＷは、キャリアＣからロット毎に１枚ずつ搬出され、搬送アーム２３により、ウエハ搬送路６５内のシャトルアーム６６に受け渡され、当該ウエハ搬送路６５内を搬送された後、前記受け渡しモジュールＴＲＳ０に載置される。受け渡しモジュールＴＲＳ０のウエハＷは、受け渡しアーム３２により、受け渡しモジュールＴＲＳ１、ＴＲＳ２を介してＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２に振り分けられる。

【0057】

ＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２内に搬入されたウエハＷは、反射防止膜形成モジュール→加熱モジュール→ＴＲＳ１（ＴＲＳ２）の順に搬送されつつ処理が行われ、続いて受け渡しアーム３２により、各々受け渡しモジュールＴＲＳ３、ＴＲＳ４を介してＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４に振り分けられる。
ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４内に搬入されたウエハＷは、レジスト膜形成モジュール→加熱モジュール→保護膜形成モジュールＩＴＣ→加熱モジュール→タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳの順に搬送されつつ処理が行われる。

【0058】

タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳに搬入されたウエハＷは、不図示のバッファモジュールＳＢＵに搬入された後、インターフェイスアーム４２によってタワーＴ４の裏面洗浄モジュールＢＳＴに搬入され裏面洗浄が行われる。裏面洗浄後のウエハＷは、各インターフェイスアーム４２、４１、４３によりタワーＴ２の温調モジュールＣＰＬ（不図示）を介して露光装置Ｄ５へ搬入される。

【0059】

露光後のウエハＷは、インターフェイスアーム４３、４１によりタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ→タワーＴ３の露光後洗浄モジュールＰＩＲに搬入され、洗浄が行われた後、タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ５、ＴＲＳ６を介してＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６に振り分けられる。
ＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６に搬入されたウエハＷは、加熱モジュール→現像モジュール→加熱モジュール→タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳの順に搬送されつつ処理が行われ、キャリアブロックＤ１との受け渡し用の受け渡しモジュールＴＲＳ０に移載された後、シャトルアーム６６によってウエハ搬送路６５内を搬送され、搬送アーム２３に受け渡されてキャリアＣに戻される。

【0060】

上述のウエハＷの搬送、処理動作と並行して、薬液ブロックＤ２では薬液容器５０の搬入出や容器載置モジュール６における薬液容器５０の交換動作が実行される。以下、当該動作の内容について図１０の流れ図を参照しながら説明する。
図４に示すように容器棚６０の各容器載置モジュール６には薬液容器５０が配置され、各液処理モジュール３３と接続された薬液容器５０から、液処理の進行状況に応じて薬液が供給されている（スタート）。この際、各容器載置モジュール６における薬液容器５０の薬液の液面などを監視し、使用済みの薬液容器５０があるか否かを検知する（ステップＳ１０１）、使用済みの薬液容器５０がなければそのまま監視を継続する（ステップＳ１０１；ＮＯ）。

【0061】

そして、使用済みの薬液容器５０が検知されたら（ステップＳ１０１；ＹＥＳ）、薬液容器の交換が必要である旨の情報や、交換する薬液の種類に関する情報を出力する（ステップＳ１０２）。出力された情報は、例えば塗布、現像装置１の外壁面に設けられた不図示のパネルディスプレイに表示されてオペレータに伝達されたり、工場内の装置を管理するホストコンピュータに送信されたりする。

【0062】

この結果、オペレータによって容器搬入出口６４ａを介して新たな薬液容器５０が薬液ブロックＤ２に搬入され、またはホストコンピュータの指示を受けたＯＨＴ１０１によって、容器搬入出路６４ｂを介して新たな薬液容器５０の搬入が行われる。
この期間中、塗布、現像装置１は、新しい薬液容器５０の搬入を待ち（ステップＳ１０３）、新しい薬液容器５０の搬入が検知されるまで待ち状態を継続する（ステップＳ１０３；ＮＯ）。

【0063】

そして、新しい薬液容器５０の搬入が検知されると（ステップＳ１０３；ＹＥＳ）、バーコードリーダ８１により薬液容器５０のバーコード５０２を読み取り、薬液容器５０内に貯留されている薬液の種類を識別する（ステップＳ１０４）。そして、使用済みの薬液容器５０が配置されている容器載置モジュール６に設定されている薬液の種類と、新しい薬液容器５０に貯留されている薬液の種類との照合を行う。

【0064】

この結果、正しい薬液を貯留した薬液容器５０が搬入されなかった場合には(ステップＳ１０５；ＮＯ)、パネルディスプレイやホストコンピュータに薬液種に関するエラーを発報して薬液容器５０の交換を待つ（ステップＳ１０６）。そして、新しい薬液容器５０が搬入されたら（ステップＳ１０３；ＹＥＳ）、薬液容器５０内に貯留されている薬液の種類の識別を繰り返す（ステップＳ１０４）。

【0065】

一方、正しい薬液を貯留した薬液容器５０が搬入されている場合には(ステップＳ１０５；ＹＥＳ)、トレー載置台６９から容器搬送機構７に薬液容器５０を受け取って交換対象の容器載置モジュール６へ向けて搬送する（ステップＳ１０７）。このとき容器搬送機構７は、図３、図４に示したウエハ搬送路６５との干渉を避けながら目的の容器載置モジュール６へ向けて移動する。

【0066】

交換対象の容器載置モジュール６においては、使用済みの薬液容器５０から吸引ノズル６１１を抜き出し、蓋部開閉機構６２により当該薬液容器５０に蓋部５０１を取り付けた状態で待機している（図７）。この容器載置モジュール６に移動してきた容器搬送機構７は、薬液容器５０を保持していない第１、第２アーム７２１、７２２を容器載置モジュール６に対向させて、使用済みの薬液容器５０を容器載置モジュール６から受け取る。次いで本体部７１を回転させ、新たに搬入された薬液容器５０を保持している第１、第２アーム７２１、７２２を容器載置モジュール６に対向させ、新しい薬液容器５０を容器載置モジュール６に受け渡す。容器載置モジュール６は、蓋部開閉機構６２により蓋部５０１を取り外して退避位置まで移動させた後、吸引ノズル６１１を装着して薬液容器５０の交換を完了する（ステップＳ１０８、図８）。

【0067】

この後、容器搬送機構７は、使用済みの薬液容器５０をトレー載置台６９に搬送して搬出を待ち（ステップＳ１０９）、当該薬液容器５０はオペレータやＯＨＴ１０１によって外部へと搬出される。
以上の動作により、使用済みとなった薬液容器５０が、新たな薬液容器５０と交換されたら、新たな使用済みの薬液容器５０があるか否かの監視を継続する（ステップＳ１０１）。

【0068】

本実施の形態に係る塗布、現像装置１によれば以下の効果がある。薬液容器５０が配置される複数の容器載置モジュール６を設けて容器棚６０（容器載置部）を構成し、容器搬送機構７を用いて容器棚６０における薬液容器５０の交換を行い、各容器載置モジュール６では、吸引ノズル６１１の着脱動作をノズル着脱機構６１により実行するので、外部雰囲気と区画された薬液ブロックＤ２内に容器棚６０を設け、人手を介さずに薬液容器５０の交換をすることが可能となる。この結果、パーティクルなどの汚染物質が薬液容器５０に混入すること避けると共に、容器載置モジュール６に不活性ガスを供給して薬液の変質などを低減することもできる。

【0069】

ここで薬液容器５０を搬送する容器搬送機構７の構成は図２等に示した例に限定されない。例えば図１１、図１２に他の構成例を示す。これらの例において、既述の容器搬送機構７にて説明したものと共通の機能を持つ構成要素には、先に説明した図に付した符号と共通の符号を付してある（以下、後述する塗布、現像装置１ａ〜１ｄにおいても同じ）。

【0070】

図１１に示す容器搬送機構７ａは、移動レール７５２の伸びる方向に沿って本体部７１が横方向に移動自在に構成されると共に、各組の第１、第２アーム７２１、７２２が、本体部７１の移動方向と交差する方向、即ち、容器棚６０（容器載置モジュール６）の配置方向（図２、図３参照）へ向けて伸縮する構成となっている。本体部７１を回転させないことにより、容器搬送機構７ａの移動に必要なスペースが小さくなり、薬液ブロックＤ２の設置スペースを小型化できる。この容器搬送機構７ａを用いる場合には、容器搬入出口６４ａの側方や容器搬入出路６４ｂの下方にトレー載置台６９を設けることに替えて、当該位置まで容器搬送機構７ａを移動させ、容器搬送機構７ａとの間で直接、薬液容器５０の搬入出を行ってもよい。

【0071】

また、図１２に示す容器搬送機構７ｂは、薬液容器５０を上下方向に並べて配置した例を示している。本例では、上下に積み重ねられた搬送棚７１ａ内に、各々第１、第２アーム７２１、７２２が配置されている。そして、これらの搬送棚７１ａ全体を回転軸７３にて回転させてトレー載置台６９や各容器載置モジュール６に対向させ、搬送棚７１ａを昇降させながら薬液容器５０の交換を行う。この例においても搬送棚７１ａの回転半径が小さくなり、薬液ブロックＤ２の設置スペースを小型化することができる。

【0072】

次いで、薬液ブロックＤ２の配置位置のバリエーションについて説明する。図１３は、薬液ブロックＤ２、Ｄ２ａ〜Ｄ２ｅを配置可能な位置を斜線のハッチで塗り潰して示してある。
ウエハ搬送路６５を設けることにより、薬液ブロックＤ２内の雰囲気と区画された空間を介してウエハＷの搬送を行う場合には、図３、図４に示した例の他、処理ブロックＤ３におけるタワーＴ１や受け渡しアーム３２の配置領域と、単位ブロックＢ１〜Ｂ６が積層されている領域との間（図１３の薬液ブロックＤ２ａ）、処理ブロックＤ３とインターフェイスブロックＤ４との間（同図の薬液ブロックＤ２ｂ）、インターフェイスブロックＤ４と露光装置Ｄ５との間（同図の薬液ブロックＤ２ｃ）にも薬液ブロックＤ２ａ〜Ｄ２ｃを配置することができる。例えば図１４には、処理ブロックＤ３とインターフェイスブロックＤ４との間に薬液ブロックＤ２ａを配置した例を示してある。

【0073】

また、図１５の塗布、現像装置１ｂに示すようにキャリアブロックＤ１の前方側であって、キャリアＣの載置台２１の上方側に薬液ブロックＤ２ｄを載置してもよい。この他、図１６に示したように、塗布、現像装置１ｃの本体（図１６の例ではキャリアブロックＤ１）を挟んだ左右両脇に薬液ブロックＤ２ｅを設けてもよい。図１６の例のように塗布、現像装置１ｃの本体の両脇に薬液ブロックＤ２ｅを設けることに替えて、いずれか一方側に薬液ブロックＤ２ｅを並べてもよいことは勿論である（図１３参照）。

【0074】

次いで、第２の実施の形態に係る塗布、現像装置１ｄの構成について図１７〜図２０を参照しながら説明する。本例の塗布、現像装置１ｄは、薬液容器５０が配置される配置領域である容器載置モジュール６を、複数個、横方向に並べて容器配置部を構成している点が、容器載置モジュール６を上下に積層した容器棚６０にて容器配置部を構成した第１の実施の形態に係る塗布、現像装置１と異なっている。

【0075】

図１７、図１９に示すように、本例の薬液ブロックＤ２ｆは、処理ブロックＤ３における単位ブロックＢ１〜Ｂ６が積層された領域の下方側に配置され、外部雰囲気や他のブロックＤ１、Ｄ３、Ｄ４から区画された筐体内に形成されている。各容器載置モジュール６の構成は、図７、図８を用いて説明した例と同様なので再度の説明を省略する。
図１８、図１９に示すように、本例では５個の容器載置モジュール６（配置領域）が横方向に１列に並べられ、これらの列を４列配置することにより、合計２０個の薬液容器５０を収容可能な容器配置部が構成されている。図１８に示すように容器載置モジュール６の列は、容器搬送機構７ｃが移動するための間隔を開けて配置されており、これらの列の間には容器搬送機構７ｃの移動経路を成す走行レール７６がＵ字状に配置されている。

【0076】

図２０に示すように容器搬送機構７ｃは、例えば跨座式のモノレールのように走行レール７６によって案内されるガイド車輪７７３を備えた車体部７７１上に、既述の本体部７１や第１、第２アーム７２１、７２２、回転軸７３等を配置した構成となっており、走行車輪７７２を用いて薬液ブロックＤ２ｆの床面上を移動する。薬液ブロックＤ２ｆの天井部からは、例えばダクトを介してＦＦＵ６７から送気された清浄空気が供給され、当該薬液ブロックＤ２ｆの空間内にも清浄空気のダウンフローが形成されている。

【0077】

本例の塗布、現像装置１ｄでは、図１８に示す開閉部６４１を開いてオペレータがトレー載置台６９上に薬液容器５０を配置してもよいし、開閉部６４１を開いた容器搬入出口６４ａを介して塗布、現像装置１の外方までトレー載置台６９が移動できる構成とし、ＯＨＴ１０１からこのトレー載置台６９上に薬液容器５０を載置して薬液ブロックＤ２ｆ内に取り込む構成としてもよい。

【0078】

また、薬液ブロックＤ２ｆは、図１７、図１９に示した例のように互いに積層された単位ブロックＢ１〜Ｂ６の下方側に設ける場合に替えて、これら単位ブロックＢ１〜Ｂ６の上段に薬液ブロックＤ２ｆを積み重ねてもよい。この場合には、塗布、現像装置１ｄの天井面に開閉部６４１にて開閉自在な開口を設け、この開口を介してＯＨＴ１０１により薬液容器５０の搬入出を行ってもよい。

【0079】

本実施の形態に示した塗布、現像装置１ｄにおいても外部雰囲気と区画された薬液ブロックＤ２内に容器載置モジュール６を設け、人手を介さずに薬液容器５０の交換をすることが可能となり、清浄な雰囲気下で薬液容器５０の交換を行い、薬液の汚染を低減できる。また、容器載置モジュール６に不活性ガスを供給して薬液の変質を低減することも可能となる。

【0080】

ここで、薬液供給路３３８の基端側を薬液容器５０に対して着脱する機構は、図７、図８に示した吸引ノズル６１１の着脱機構６１の例に限られない。例えば、蓋部５０１に替えて薬液容器５０の開口部に押し込んで取り付けられるゴム部材などからなる蓋部に、薬液供給路３３８の基端側を接続し、この蓋部を薬液容器５０に取り付けた後、薬液容器５０の上下を転動させて薬液の払い出しを行ってもよい。この場合は、薬液供給路３３８と接続された蓋部の着脱を行う機構が前記着脱機構となる。

【0081】

また、各容器載置モジュール６に蓋部開閉機構６２を設けることに替えて例えば蓋部開閉機構６２と容器搬送機構７との間の薬液容器５０の受け渡し位置に共通の蓋部開閉機構６２を設け、ここで蓋部５０１を取った後、開栓した状態で薬液容器５０を各容器載置モジュール６に搬送してもよい。薬液容器５０から取り外された蓋部５０１は例えば共通の廃棄ボックス等に集められ、別途、廃棄される。また使用済みの薬液容器５０は蓋部５０１を取り外した状態で搬出される。この例の場合には、蓋部５０１を取り外した状態で薬液容器５０が搬送されるので、薬液の変質を防止するため、薬液ブロックＤ２の空間内全体を不活性ガスの雰囲気としていてもよい。

【0082】

ここで、容器載置モジュール６に開閉扉（シャッタ）を設ける構成は、既述のように薬液容器５０の開口を介して周囲の気体を取り込むために、容器載置モジュール６の区画内に不活性ガスを供給する場合に限定されない。不活性ガスの供給を行わない場合であっても、例えば通常時には開閉扉を閉じておき、薬液容器５０の交換時のみ開閉扉を開くことにより、容器搬送機構７が移動する空間からのパーティクルの進入を抑え、清浄な空間内で薬液の供給を行うことができる。

【0083】

さらに容器載置モジュール６は、蓋部開閉機構６２を備えることも必須ではない。例えば薬液容器５０として、開口部がゴム膜で覆われたバイアル容器を用いる場合には、蓋部開閉機構６２を用いて蓋部５０１を取り外すことに替えて、前記ゴム膜を突き刺すようにして薬液容器５０内に吸引ノズル６１１を挿入してもよい。

【0084】

また、容器載置部（図４の容器棚６０や図１８の容器載置モジュール６の列）において、隣り合う容器載置モジュール６同士を区画する隔壁を設けることは必須ではなく、共通する横長の棚や台の予め設定された位置（配置領域）に薬液容器５０を載置してもよい。この場合には、着脱機構６１や蓋部開閉機構６２を複数の薬液容器５０間で移動自在に構成することにより着脱機構６１や蓋部開閉機構６２を共有化してもよい。さらにこの場合は、各薬液容器５０の配置領域の近傍に、薬液供給路３３８の基端部や、蓋部５０１を載置する載置台などを設けるとよい。

【0085】

この他、薬液容器５０に吸引ノズル６１１や薬液供給路３３８を装着するタイミングは、容器載置モジュール６に薬液容器５０を載置した後に限られない。容器載置モジュール６の区画内に薬液容器５０を搬送した後、容器搬送機構７によって薬液容器５０を保持したまま蓋部５０１を取り外して吸引ノズル６１１等の装着を行い、その後、容器載置モジュール６に薬液容器５０を載置してもよい。

【0086】

図２１は、容器搬送機構７、７ａ〜７ｃのアーム７２２ａ及びトレー５１ａの他の構成例を示している。本例のトレー５１ａの上面には、横方向へ向けて四方へ突出し、ＯＨＴ１０１の把持部１０２によって把持されるフランジ部５１３が設けられている。このフランジ部５１３の各側面にはフランジ部５１３内を横方向に貫通する貫通孔５１４が開口している。そして、容器搬送機構７、７ａ〜７ｃに設けられ、基端部側で互いに連結された２本の直棒状のアーム７２２ａをこれら貫通孔５１４に挿入してトレー５１ａを持ち上げることにより、トレー５１ａ内に収容された薬液容器５０を搬送することができる。
また、フランジ部５１３の各側面に沿って８つの貫通孔５１４を設けることにより、トレー５１ａのいずれの方向からもアーム７２２ａを挿入できる。この結果、薬液ブロックＤ２への搬入時に一定の方向にトレー５１ａの向きを揃えなくても容器搬送機構７、７ａ〜７ｃへのトレー５１ａの受け渡しが可能となる。

【0087】

そして容器搬送機構７、７ａ〜７ｃは、トレー５１、５１ａに収容した状態で薬液容器５０を搬送することも必須ではなく、ロボットアームなどにより薬液容器５０の本体の側面や底面を直接保持して搬送を行ってもよい。
さらに容器搬送機構７は、複数の薬液容器５０を同時に搬送する機能を備えていなくてもよい。この場合は、交換が行われる容器載置モジュール６から使用済みの薬液容器５０を取り出してトレー載置台６９に搬送し、この薬液容器５０が搬出された後、新しい薬液容器５０を受け取って使用済みの薬液容器５０が取り出された容器載置モジュール６に搬送すればよい。

【0088】

さらには、本発明を適用可能な基板処理装置は、ウエハＷに対してレジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置１に限られるものではない。例えば液処理モジュールとして、ウエハＷの表面や裏面にアルカリ性や酸性の薬液を供給して洗浄処理を実行する洗浄モジュールを備え、処理ブロック内にこれらの洗浄モジュールが複数台設けられた洗浄装置にも本発明は適用することができる。

【符号の説明】

【0089】

Ｗ ウエハ
Ｄ２、Ｄ２ａ〜Ｄ２ｆ
薬液ブロック
１、１ａ〜１ｄ
塗布、現像装置
３３ 液処理モジュール
３３６ 薬液ノズル
３３８ 薬液供給路
５０ 薬液容器
５０１ 蓋部
５０２ バーコード
５１、５１ａ
トレー
６ 薬液配置モジュール
６０ 容器棚
６１ ノズル着脱機構
６１１ 吸引ノズル
６２ 蓋部開閉機構
６３ 不活性ガス供給部
６４ａ 容器搬入出口
６４ｂ 容器搬入出路
６５ ウエハ搬送路
６７ ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）
６９ トレー載置台
７、７ａ〜７ｃ
容器搬送機構
８ 制御部
８１ バーコードリーダ

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図18】

【図19】

【図20】

【図21】

【図14】

【図15】

【図16】

【図17】