特許 5993779 導電膜形成用組成物、導電膜、配線基板

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】5993779

(24)【登録日】2016年8月26日

(45)【発行日】2016年9月14日

(54)【発明の名称】導電膜形成用組成物、導電膜、配線基板

(51)【国際特許分類】

   C09D 201/00 20060101AFI20160901BHJP

   C09D 7/12 20060101ALI20160901BHJP

   C09D 5/24 20060101ALI20160901BHJP

   H01B 1/22 20060101ALI20160901BHJP

   H01B 5/14 20060101ALI20160901BHJP

   H05K 3/12 20060101ALI20160901BHJP

【ＦＩ】

   C09D201/00

   C09D7/12

   C09D5/24

   H01B1/22 A

   H01B5/14 B

   H05K3/12 610B

   H05K3/12 610G

【請求項の数】4

【全頁数】49

(21)【出願番号】特願2013-72642(P2013-72642)

(22)【出願日】2013年3月29日

(65)【公開番号】特開2014-197483(P2014-197483A)

(43)【公開日】2014年10月16日

【審査請求日】2015年5月7日

(73)【特許権者】

【識別番号】306037311

【氏名又は名称】富士フイルム株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100080159

【弁理士】

【氏名又は名称】渡辺 望稔

(74)【代理人】

【識別番号】100090217

【弁理士】

【氏名又は名称】三和 晴子

(74)【代理人】

【識別番号】100152984

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 秀明

(74)【代理人】

【識別番号】100148080

【弁理士】

【氏名又は名称】三橋 史生

(72)【発明者】

【氏名】松下 泰明

(72)【発明者】

【氏名】松村 季彦

【審査官】 西澤 龍彦

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０５−３３１３５５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−１２０６２４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１８８３６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０８７１４８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０９９２３６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０８−３２５４６５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第９９／０３７６２６（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０９Ｄ １／００−２０１／１０

Ｈ０１Ｂ １／２２

Ｈ０１Ｂ ５／１４

Ｈ０５Ｋ ３／１２

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

フッ素原子を含有するマイグレーション抑制剤と、金属粒子とを少なくとも含有し、
前記マイグレーション抑制剤が、一般式（１）〜一般式（５）で表される化合物、一般式（２２）で表される化合物、一般式（２３）で表される化合物、および、一般式（２４）で表される基と一般式（２５）で表される基とを有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つを含む、導電膜形成用組成物。
Ｐ−（ＣＲ₁＝Ｙ）_n−Ｑ 一般式（１）
（一般式（１）中、ＰおよびＱは、それぞれ独立に、ＯＨ、ＮＲ₂Ｒ₃またはＣＨＲ₄Ｒ₅を表す。Ｒ₂およびＲ₃は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。Ｒ₄およびＲ₅は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｙは、ＣＲ₆または窒素原子を表す。Ｒ₁およびＲ₆は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、またはＲ₆で表される基は、そのうちの少なくとも二つの基が互いに結合して環を形成していてもよい。ｎは０〜５の整数を表す。ただし、ｎが０であるとき、ＰおよびＱの両方がＣＨＲ₄Ｒ₅であることはなく、ＰおよびＱの両方がＯＨであることもない。ｎが２以上の数を表すとき、（ＣＲ₁＝Ｙ）で表される複数の原子群は、同一であっても異なっていてもよい。
なお、Ｒ₁〜Ｒ₆の少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。）
Ｒ₇−Ｃ（＝Ｏ）−Ｈ 一般式（２）
（一般式（２）中、Ｒ₇は、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。なお、Ｒ₇で表される基中の一部または全部の水素原子は、フッ素原子で置換されている。また、Ｒ₇で表される基中には、ヒドロキシル基、または、−ＣＯＯ−で表される基が含まれていてもよい。）

【化1】

（一般式（３）中、Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。なお、Ｒ₈〜Ｒ₁₀の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子は、フッ素原子で置換されている。）

【化2】

（一般式（４）中、Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。なお、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子は、フッ素原子で置換されている。）
Ｚ−ＳＨ 一般式（５）
（一般式（５）中、Ｚは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。なお、Ｚで表される基中の一部または全部の水素原子は、フッ素原子で置換されている。また、Ｚで表される基には、置換基が含まれていてもよい。）

【化3】

（一般式（２２）中、Ｒｆ₁は、エーテル性酸素原子を有してもよい水素原子の少なくとも一つがフッ素原子に置換された炭素数２２以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。Ｘ₁は、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。Ｌ₁は、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｌ₂は、単結合、または、水酸基若しくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｌ₃は、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表す。Ｙ₁およびＺ₁は、単結合、−ＣＯ₂−、−ＣＯ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＯ₃−、−ＣＯＮＲ₂₂₂−、−ＮＨＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂ＮＲ₂₂₂−、または、−ＮＲ₂₂₂−を表す。Ｒ₂₂₂は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｒ₂₂₁は、水素原子、炭素数１〜８に直鎖または分岐のアルキル基、またはＲｆ₁−ＣＦＸ₁−Ｌ₁−Ｙ₁―Ｌ₂−Ｚ₁−Ｌ₃−を表す。
ただし、Ｙ₁およびＺ₁がいずれも単結合以外の場合、Ｌ₂はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）

【化4】

（一般式（２３）中、Ｒ₂₃₁およびＲ₂₃₂は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ₂₃₃およびＲ₂₃₄は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｙ₂は、単結合、−ＣＯ−、または−ＣＯＯ−を表す。Ｒｆ₂は、炭素数１〜２０の直鎖若しくは分岐のパーフルオロアルキレン基、または、炭素数１〜２０の直鎖若しくは分岐のパーフルオロエーテル基を表す。Ｙ₂が単結合または−ＣＯ−のとき、ｎは０表し、ｍは０〜６の整数を表す。Ｙ₂が−ＣＯＯ−のとき、ｎは１または２を表し、ｍは１から６の整数を表す。ｐは２〜３の整数を表し、ｌは０〜１の整数を表し、ｐ＋ｌ＝３の関係を満たす。）

【化5】

（一般式（２４）中、Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂、Ｒ₂₄₃、およびＲ₂₄₄は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。＊は、結合位置を示す。
一般式（２５）中、Ｘは、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。Ｒｆは、エーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素原子数２０以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。＊は、結合位置を示す。）

【請求項2】

前記金属粒子に含まれる金属原子が、金、銀、銅、およびアルミニウムからなる群から選択される請求項１に記載の導電膜形成用組成物。

【請求項3】

請求項１または２に記載の導電膜形成用組成物から形成される導電膜。

【請求項4】

請求項３に記載の導電膜を備える配線基板。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、導電膜形成用組成物に係り、特にフッ素原子を含有するマイグレーション抑制剤を含む導電膜形成用組成物に関する。
また、本発明は、上記導電膜形成用組成物より形成される導電膜、および、導電膜を備える配線基板に関する。

【背景技術】

【0002】

従来より、絶縁基板表面上に金属配線（導電膜）が配置された配線基板が、電子部材や半導体素子などに広く用いられている。金属配線を構成する金属としては導電性が高い銀、銅がよく用いられるが、これら金属はイオンマイグレーションが発生しやすいという問題がある。
このような金属のイオンマイグレーションを防止する方法として、金属配線中に所定のマイグレーション抑制剤を導入する方法が提案されている（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１２−９９２３６号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

近年、半導体集積回路やチップ部品等の小型化により、金属配線の微細化が進んでいる。そのため、配線基板中の金属配線の幅および間隔はより狭小化しており、イオンマイグレーションによる回路の断線がさらに生じやすくなっている。このような状況の下、配線基板中の金属配線間の絶縁信頼性のより一層の向上が要求されている。
また、各種回路や部品の性能向上の点からは、金属配線の導電特性のより一層の向上も要求されている。

【0005】

特許文献１に挙げられるような、所定のマイグレーション抑制剤を含む組成物を用いて細線状の導電膜を作製した場合に、マイグレーション抑制剤が導電膜中に均一に分散しており、導電膜間の絶縁信頼性を向上させようとして金属配線中に多くのマイグレーション抑制剤を含有させると、導電膜内においてマイグレーション抑制剤のドメインが数多く形成され、結果として導電膜の導電特性が低下する。
一方、導電膜の導電特性を考慮して、導電膜内におけるマイグレーション抑制剤の含有量を減らすと、導電特性は向上するものの導電膜間の絶縁信頼性が低下する。
このように、従来技術においては、導電膜の導電特性とイオンマイグレーション抑制機能（言い換えると、導電膜間の絶縁信頼性）はトレードオフの関係にあることが多く、両者をより高いレベルで達成する技術が求められていた。

【0006】

本発明は、上記実情に鑑みて、導電特性およびイオンマイグレーション抑制機能に優れる導電膜を形成することができる導電膜形成用組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、該導電膜形成用組成物より形成される導電膜、および、該導電膜を備える配線基板を提供することも目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明者らは、鋭意検討を行ったところ、フッ素原子を含有するマイグレーション抑制剤を使用することにより、上記課題を解決できることを見出した。
つまり、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。

【0008】

（１） フッ素原子を含有するマイグレーション抑制剤と、金属粒子とを少なくとも含有する導電膜形成用組成物。
（２） マイグレーション抑制剤が、後述する一般式（１）〜一般式（５）で表される化合物、後述する一般式（２２）で表される化合物、後述する一般式（２３）で表される化合物、および、後述する一般式（２４）で表される基と後述する一般式（２５）で表される基とを有する化合物からなる群から選ばれる少なくとも一つを含む、（１）に記載の導電膜形成用組成物。
（３） 金属粒子に含まれる金属原子が、金、銀、銅、およびアルミニウムからなる群から選択される（１）または（２）に記載の導電膜形成用組成物。
（４） （１）〜（３）のいずれか１つに記載の導電膜形成用組成物から形成される導電膜。
（５） （４）に記載の導電膜を備える配線基板。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、導電特性およびイオンマイグレーション抑制機能に優れる導電膜を形成することができる導電膜形成用組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、該導電膜形成用組成物より形成される導電膜、および、該導電膜を備える配線基板を提供することもできる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】本発明の配線基板の第１の実施態様を示す模式的断面図である。

【図2】本発明の配線基板の第２の実施態様を示す模式的断面図である。

【図3】本発明の絶縁層付き配線基板の実施態様を示す模式的断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下に、本発明の導電膜形成用組成物の好適態様について説明する。
まず、本発明の従来技術と比較した特徴点について詳述する。
本発明の特徴点の一つとしては、フッ素原子を含有するマイグレーション抑制剤（以後、Ｆ含有マイグレーション抑制剤とも称する）を使用する点が挙げられる。本発明の導電膜形成用組成物を用いて基材上に導電膜を形成すると、Ｆ含有マイグレーション抑制剤の表面エネルギーが低さのため、Ｆ含有マイグレーション抑制剤が導電膜の表面近傍に移動し、導電膜の露出表面（基材と接触していない表面）付近にＦ含有マイグレーション抑制剤が偏在し、通常トレードオフの関係にある導電膜の導電特性とイオンマイグレーション抑制機能との両者をより高いレベルで両立することができる。より具体的には、導電膜の外側露出表面付近に多くのＦ含有マイグレーション抑制剤を偏在させることにより、導電膜の露出表面付近から外側に析出する金属イオンの拡散を効率よく抑制することができる。また、導電膜の外側表面付近に多くのＦ含有マイグレーション抑制剤を偏在させることにより、導電膜内部において金属以外の不純物の量を低減させることができ、結果として導電膜内部で導通路が形成され、優れた導電特性を達成することができる。

【0012】

本発明の導電膜形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）には、Ｆ含有マイグレーション抑制剤と金属粒子とが少なくとも含まれる。
まず、組成物中に含まれる成分について詳述する。

【0013】

＜Ｆ含有マイグレーション抑制剤＞
Ｆ含有マイグレーション抑制剤（Ｆ含有マイグレーション防止剤）は、フッ素原子を含有し、金属イオンのイオンマイグレーションを抑制する化合物である。
Ｆ含有マイグレーション抑制剤中のフッ素原子の含有率（フッ素含有率）は使用される金属粒子の種類などに応じて適宜調整されるが、形成される導電膜間でのイオンマグレーション抑制能がより優れると共に、導電膜の導電特性にもより優れる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、２０質量％以上６５質量％未満であることが好ましく、２５〜６０質量％がより好ましく、３０〜５５質量％がさらに好ましい。
なお、フッ素含有率とは、マイグレーション抑制剤の全分子量中におけるフッ素原子の占める質量の割合（含有率）を表したものである。

【0014】

Ｆ含有マイグレーション抑制剤の種類は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、一般式（１）〜（５）で表される化合物、一般式（２２）で表される化合物、一般式（２３）で表される化合物、一般式（２４）で表される基と一般式（２５）で表される基とを有する化合物が好ましい。
以下、これらの化合物について詳述する。

【0015】

（一般式（１）で表される化合物）
まず、一般式（１）で表される化合物について説明する。
Ｐ−（ＣＲ₁＝Ｙ）_n−Ｑ 一般式（１）
一般式（１）中、ＰおよびＱは、それぞれ独立に、ＯＨ、ＮＲ₂Ｒ₃またはＣＨＲ₄Ｒ₅を表す。ただし、ｎが０であるとき、ＰおよびＱの両方がＣＨＲ₄Ｒ₅であることはなく、ＰおよびＱの両方がＯＨであることもない。Ｙは、ＣＲ₆または窒素原子を表す。

【0016】

一般式（１）中、Ｒ₂およびＲ₃は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。
窒素原子に置換可能な基としては窒素原子に置換できる基であれば特に制限されないが、例えば、アルキル基（シクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、またはこれらの組み合わせなどが挙げられる。

【0017】

さらに詳しくは、アルキル基〔直鎖、分岐、環状の置換または無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１．２．２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イル）、さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。〕、アルケニル基〔直鎖、分岐、環状の置換または無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２．２．２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。〕、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、複素環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３から３０の５または６員の芳香族の複素環基である。例えば、２−フラニル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリニル）、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換または無置換の炭素原子でカルボニル基と結合している複素環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）を好ましい例として挙げることができる。
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに置換されていてもよい。

【0018】

一般式（１）におけるＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基は、直鎖、分岐、環状の置換または無置換のアルケニル基を表し、好ましくは炭素数１〜５０、さらに好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０である。
好ましい例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、シクロペンチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、エイコシル、ドコシル、トリアコンチルなどを挙げることができる。さらに好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルであり、特に好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルである。
なお、アルキル基には、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、またはこれらを組み合わせた基などの連結基が含まれていてもよい。なお、アルキル基中に上記連結基が含まれる場合、その位置は特に制限されず、末端であってもよい。例えば、−Ｓ−Ｒ_x（Ｒ_x：アルキル基）であってもよい。

【0019】

Ｒ₂およびＲ₃で表されるアルキル基は、さらに置換基を有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよび複素環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、またはこれらの組み合わせが挙げられる。

【0020】

さらに詳しくは、置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基〔（直鎖、分岐、環状の置換または無置換のアルキル基を表す。それらは、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１．２．２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−３−イル）、さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。〕、

【0021】

アルケニル基〔直鎖、分岐、環状の置換または無置換のアルケニル基を表す。それらは、アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２．２．２］オクト−２−エン−４−イル）を包含するものである。〕、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基）、

【0022】

アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、複素環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３から３０の５員または６員の芳香族の複素環基である。例えば２−フラニル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリニル）、

【0023】

シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、複素環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換の複素環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、

【0024】

アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、

【0025】

メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換または無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ）、複素環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換または無置換の複素環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、

【0026】

アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換または無置換の炭素原子でカルボニル基と結合している複素環カルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、

【0027】

カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換または無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリールおよび複素環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換または無置換の複素環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）を表わす。

【0028】

上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基などが挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル、アセチルアミノスルホニル、ベンゾイルアミノスルホニル基などが挙げられる。

【0029】

Ｒ₂およびＲ₃で表されるアルケニル基は、直鎖、分岐、環状の置換または無置換のアルケニル基を表し、好ましくは炭素数２〜５０、さらに好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０である。好ましい例としては、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２．２．２］オクト−２−エン−４−イル）などを挙げることができる。さらに好ましくは、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、であり、特に好ましくは、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルである。
Ｒ₂およびＲ₃で表されるアルケニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、アルケニル基には、上記アルキル基と同様に、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−またはこれらを組み合わせた基などの連結基が含まれていてもよい。

【0030】

Ｒ₂およびＲ₃で表されるアルキニル基は、直鎖、分岐、環状の置換または無置換のアルキニル基を表し、好ましくは炭素数２〜５０、さらに好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０である。好ましい例としては、エチニル、プロパルギルなどを挙げることができる。
Ｒ₂およびＲ₃で表されるアルキニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、アルキニル基には、上記アルキル基と同様に、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−またはこれらを組み合わせた基などの連結基が含まれていてもよい。

【0031】

Ｒ₂およびＲ₃で表されるアリール基は、置換または無置換のアリール基を表し、好ましくは炭素数６〜５０、さらに好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０である。好ましい例としては、フェニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２−エチルフェニル、４−エチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−クロロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、２−ベンジルフェニル、４−ベンジルフェニル、２−メチルカルボニルフェニル、４−メチルカルボニルフェニルなどを挙げることができる。
さらに好ましくは、フェニル、２−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２−エチルフェニル、４−エチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、２−ベンジルフェニル、４−ベンジルフェニルなどを挙げることができ、特に好ましくは、フェニル、２−メチルフェニル、４−メチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−クロロフェニル、４−クロロフェニル、２−メトキシフェニル、４−メトキシフェニル、２−ベンジルフェニル、４−ベンジルフェニルなどを挙げることができる。
Ｒ₂およびＲ₃で表されるアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0032】

Ｒ₄およびＲ₅は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
Ｒ₄およびＲ₅で表される置換基としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、これらを組み合わせた基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₄およびＲ₅で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0033】

Ｒ₁およびＲ₆は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
Ｒ₁およびＲ₆で表される置換基としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、これらを組み合わせた基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₁およびＲ₆で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0034】

ｎは０〜５の整数を表す。ただし、ｎが０であるとき、ＰおよびＱの両者が共にＯＨであることはなく、ＣＨＲ₄Ｒ₅であることもない。ｎが２以上の数を表すとき、（ＣＲ₁＝Ｙ）で表される複数の原子群は、同一であっても異なっていてもよい。

【0035】

一般式（１）で表される化合物は、鎖状であっても環状であってもよく、環状である場合は、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、またはＲ₆で表される基のうちの少なくとも二つの基が互いに結合して環を形成していてもよい。
なお、二つの基が結合する際には、単結合、二重結合および三重結合のいずれかの結合形式が含まれていてもよい。

【0036】

なお、Ｒ₁〜Ｒ₆の少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。なお、フッ素原子は、フッ素含有率が上述した範囲となるように含有されることが好ましい。フッ素原子は、一般式（１）で表される化合物の任意の炭素原子に置換してもよい。
なお、Ｒ₁〜Ｒ₆の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）は、フッ素原子で置換されていることが好ましい。なかでも、フッ素原子は、フルオロアルキル基（以下、Ｒ_f基もいう）またはＲ_f基で置換された基として含まれることが好ましい。つまり、Ｒ₁〜Ｒ₆の少なくとも一つの基中には、フルオロアルキル基が含まれることが好ましい。
Ｒ_f基は、炭素原子数１ないし１４の直鎖もしくは分岐のパーフルオロアルキル基、または、炭素原子数１ないし１４の直鎖もしくは分岐のパーフルオロアルキル基で置換された、炭素原子数２ないし２０の置換基であることが好ましい。
炭素原子数１ないし１４の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキル基の例としては、ＣＦ₃−、Ｃ₂Ｆ₅−、Ｃ₃Ｆ₇−、Ｃ₄Ｆ₉−、Ｃ₅Ｆ₁₁−、（ＣＦ₃）₂−ＣＦ−（ＣＦ₂）₂−、Ｃ₆Ｆ₁₃−、Ｃ₇Ｆ₁₅−、（ＣＦ₃）₂−ＣＦ−（ＣＦ₂）₄−、Ｃ₈Ｆ₁₇−、Ｃ₉Ｆ₁₉−、Ｃ₁₀Ｆ₂₁−、Ｃ₁₂Ｆ₂₅−およびＣ₁₄Ｆ₂₉−を挙げることができる。
炭素原子数１ないし１４のパーフルオロアルキル基により置換された炭素原子数２ないし２０の置換基の例としては、（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄（ＣＨ₂）₂−、Ｃ₉Ｆ₁₉ＣＨ₂−、Ｃ₈Ｆ₁₇ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、Ｃ₈Ｆ₁₇ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＣ＝ＯＣＨ₂−、（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄（ＣＨ₂）₂ＯＣ＝ＯＣＨ₂−、Ｃ₈Ｆ₁₇ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂ＯＣ＝Ｏ（ＣＨ₂）₂−、（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄（ＣＨ₂）₂ＯＣ＝Ｏ（ＣＨ₂）₂−、（ＣＦ₃）₂ＣＦＯＣ₂Ｆ₄−、ＣＦ₃ＣＦ₂ ＣＦ₂Ｏ〔ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ〕₄−ＣＦ（ＣＦ₃）−、などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
Ｒ_f基は分子中に１ないし４個含まれることが好ましい。
なお、上述した一般式（１）で表される化合物は、２種以上使用してもよい。

【0037】

一般式（１）で表される化合物は、一般式（６）〜一般式（２１）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
なお、一般式（６）〜一般式（２１）で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。

【0038】

【化1】

【0039】

上記一般式（６）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＯＨであり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが２であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して二重結合を形成して環を形成した場合の化合物である。
一般式（６）において、Ｖ₆は置換基を表す。ａは、１〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。なお、Ｖ₆のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。つまり、Ｖ₆が１つの場合、その置換基にはフッ素原子が含まれ、Ｖ₆が２つ以上の場合、少なくとも１つのＶ₆にフッ素原子が含まれていればよい。フッ素原子は、少なくとも１つのＶ₆で表される基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）に置換して導入されることが好ましい。なかでも、Ｖ₆中に上述したＲ_f基が含まれることが好ましい。
Ｖ₆で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（６）に複数のＶ₆が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
以下に、一般式（６）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下、化合物の構造式に併記した百分率表示は、フッ素原子の質量含率（フッ素含有率）を示すものである。

【0040】

【化2】

【0041】

上記一般式（７）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＯＨであり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが１であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（７）において、Ｖ₇は置換基を表す。ａは、１〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。なお、Ｖ₇のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。つまり、Ｖ₇が１つの場合、その置換基にはフッ素原子が含まれ、Ｖ₇が２つ以上の場合、少なくとも１つのＶ₇にフッ素原子が含まれていればよい。フッ素原子は、少なくとも１つのＶ₇で表される基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）に置換して導入されることが好ましい。なかでも、Ｖ₇中に上述したＲ_f基が含まれることが好ましい。
Ｖ₇で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（７）に複数のＶ₇が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
以下に、一般式（７）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0042】

【化3】

【0043】

上記一般式（８）で表される化合物は、一般式（１）において、ＰがＯＨ、ＱがＮＲ₂Ｒ₃であり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが２であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して二重結合を形成して環を形成した場合の一例である。
一般式（８）において、Ｖ₈は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₈で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（８）に複数のＶ₈が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0044】

Ｒ₈₁およびＲ₈₂は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。
Ｖ₈、Ｒ₈₁およびＲ₈₂のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₈、Ｒ₈₁およびＲ₈₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₈、Ｒ₈₁およびＲ₈₂のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₈が複数ある場合、複数のＶ₈、Ｒ₈₁およびＲ₈₂のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0045】

以下に、一般式（８）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0046】

【化4】

【0047】

一般式（９）で表される化合物は、一般式（１）において、ＰがＯＨ、ＱがＮＲ₂Ｒ₃であり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが１であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（９）において、Ｖ₉は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₉で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（９）に複数のＶ₉が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0048】

Ｒ₉₁およびＲ₉₂は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。
Ｖ₉、Ｒ₉₁およびＲ₉₂のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₉、Ｒ₉₁およびＲ₉₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₉、Ｒ₉₁およびＲ₉₂のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₉が複数ある場合、複数のＶ₉、Ｒ₉₁およびＲ₉₂のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0049】

以下に、一般式（９）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0050】

【化5】

【0051】

一般式（１０）で表される化合物は、一般式（１）において、ＰがＯＨ、ＱがＣＨＲ₄Ｒ₅であり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが２であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して二重結合を形成して環を形成した場合の一例である。
一般式（１０）において、Ｖ₁₀は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₀で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１０）に複数のＶ₁₀が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0052】

Ｒ₁₀₁およびＲ₁₀₂は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
Ｒ₁₀₁およびＲ₁₀₂で表される置換基としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₁₀₁およびＲ₁₀₂が置換基を表す場合、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0053】

Ｖ₁₀、Ｒ₁₀₁およびＲ₁₀₂のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₀、Ｒ₁₀₁およびＲ₁₀₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。なかでも、Ｖ₁₀、Ｒ₁₀₁およびＲ₁₀₂のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることが好ましい。
なお、Ｖ₁₀が複数ある場合、複数のＶ₁₀、Ｒ₁₀₁およびＲ₁₀₂のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0054】

以下に、一般式（１０）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0055】

【化6】

【0056】

一般式（１１）で表される化合物は、一般式（１）において、ＰがＯＨ、ＱがＣＨＲ₄Ｒ₅であり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが１であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１１）において、Ｖ₁₁は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₁で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１１）に複数のＶ₁₁が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0057】

Ｒ₁₁₁およびＲ₁₁₂は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
Ｒ₁₁₁およびＲ₁₁₂で表される置換基としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₁₁₁またはＲ₁₁₂が置換基を表す場合、これらの基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0058】

Ｖ₁₁、Ｒ₁₁₁およびＲ₁₁₂のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₁、Ｒ₁₁₁およびＲ₁₁₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₁、Ｒ₁₁₁およびＲ₁₁₂のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₁が複数ある場合、複数のＶ₁₁、Ｒ₁₁₁およびＲ₁₁₂のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0059】

以下に、一般式（１１）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0060】

【化7】

【0061】

一般式（１２）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＮＲ₂Ｒ₃であり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが２であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して二重結合を形成して環を形成した場合の一例である。
一般式（１２）において、Ｖ₁₂は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₂で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１２）に複数のＶ₁₂が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0062】

Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃およびＲ₁₂₄は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。

【0063】

Ｖ₁₂、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃およびＲ₁₂₄のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₂、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃およびＲ₁₂₄の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₂、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃およびＲ₁₂₄のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₂が複数ある場合、複数のＶ₁₂、Ｒ₁₂₁、Ｒ₁₂₂、Ｒ₁₂₃およびＲ₁₂₄のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0064】

以下に、一般式（１２）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0065】

【化8】

【0066】

一般式（１３）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＮＲ₂Ｒ₃であり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが１であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１３）において、Ｖ₁₃は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₃で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１３）に複数のＶ₁₃が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0067】

Ｒ₁₃₁、Ｒ₁₃₂、Ｒ₁₃₃およびＲ₁₃₄は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。

【0068】

Ｖ₁₃、Ｒ₁₃₁、Ｒ₁₃₂、Ｒ₁₃₃およびＲ₁₃₄のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₃、Ｒ₁₃₁、Ｒ₁₃₂、Ｒ₁₃₃およびＲ₁₃₄の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₃、Ｒ₁₃₁、Ｒ₁₃₂、Ｒ₁₃₃およびＲ₁₃₄のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₃が複数ある場合、複数のＶ₁₃、Ｒ₁₃₁、Ｒ₁₃₂、Ｒ₁₃₃およびＲ₁₃₄のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0069】

以下に、一般式（１３）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0070】

【化9】

【0071】

一般式（１４）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＯＨであり、ＹがＣＲ_６であり、ｎが１であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１４）において、Ｖ₁₄は置換基を表す。ｃは、１〜２の整数（好ましくは１１）を表す。なお、Ｖ₁₄のうち少なくとも一つにはフッ素原子が含まれる。つまり、Ｖ₁₄が１つの場合、その置換基にはフッ素原子が含まれ、Ｖ₁₄が２つ以上の場合、少なくとも１つのＶ₁₄にフッ素原子が含まれていればよい。フッ素原子は、少なくとも１つのＶ₁₄で表される基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）に置換して導入されることが好ましい。なかでも、Ｖ₁₄中に上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
Ｖ₁₄で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１４）に複数のＶ₁₄が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0072】

以下に、一般式（１４）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0073】

【化10】

【0074】

一般式（１５）で表される化合物は、一般式（１）において、ＰがＯＨ、ＱがＮＲ₂Ｒ₃であり、ＹがＣＲ₆であり、ｎが１であり、Ｐに隣接する炭素原子上のＲ₁およびＱに隣接する炭素原子上のＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１５）において、Ｖ₁₅は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₅で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１５）に複数のＶ₁₅が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0075】

Ｒ₁₅₁およびＲ₁₅₂は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。

【0076】

Ｖ₁₅、Ｒ₁₅₁およびＲ₁₅₂のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₅、Ｒ₁₅₁およびＲ₁₅₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₅、Ｒ₁₅₁およびＲ₁₅₂のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₅が複数ある場合、複数のＶ₁₅、Ｒ₁₅₁およびＲ₁₅₂のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0077】

以下に、一般式（１５）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0078】

【化11】

【0079】

一般式（１６）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＮＲ₂Ｒ₃であり、ｎが０であり、Ｒ₂およびＲ₃が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１６）において、Ｖ₁₆は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₆で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１６）に複数のＶ₁₆が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0080】

Ｒ₁₆₁およびＲ₁₆₂は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。

【0081】

Ｖ₁₆、Ｒ₁₆₁およびＲ₁₆₂のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₆、Ｒ₁₆₁およびＲ₁₆₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₆、Ｒ₁₆₁およびＲ₁₆₂のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₆が複数ある場合、複数のＶ₁₆、Ｒ₁₆₁およびＲ₁₆₂のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0082】

以下に、一般式（１６）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0083】

【化12】

【0084】

一般式（１７）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＮＲ₂Ｒ₃であり、ｎが０であり、Ｒ₂およびＲ₃が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１７）において、Ｖ₁₇は置換基を表す。ｄは、０または１を表す。Ｖ₁₇で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１７）に複数のＶ₁₇が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0085】

Ｒ₁₇₁、Ｒ₁₇₂およびＲ₁₇₃は、それぞれ独立に、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。

【0086】

Ｖ₁₇、Ｒ₁₇₁、Ｒ₁₇₂およびＲ₁₇₃のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₇、Ｒ₁₇₁、Ｒ₁₇₂およびＲ₁₇₃の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₇、Ｒ₁₇₁、Ｒ₁₇₂およびＲ₁₇₃のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₇が複数ある場合、複数のＶ₁₇、Ｒ₁₇₁、Ｒ₁₇₂およびＲ₁₇₃のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0087】

以下に、一般式（１７）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0088】

【化13】

【0089】

一般式（１８）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＯＨであり、ＹがＣＲ₆および窒素原子であり、ｎが３であり、Ｒ₁およびＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１８）において、Ｖ₁₈は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₈で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１８）に複数のＶ₁₈が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0090】

Ｒ₁₈₁は、水素原子または置換基を表す。Ｒ₁₈₁で表される置換基としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₁₈₁が置換基を表す場合、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0091】

Ｖ₁₈およびＲ₁₈₁のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₈およびＲ₁₈₁の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₈およびＲ₁₈₁のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₈が複数ある場合、複数のＶ₁₈およびＲ₁₈₁のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0092】

以下に、一般式（１８）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0093】

【化14】

【0094】

一般式（１９）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＯＨであり、ＹがＣＲ₆および窒素原子であり、ｎが２であり、Ｒ₁およびＲ₆が互いに結合して環を形成した場合の一例である。
一般式（１９）において、Ｖ₁₉は置換基を表す。ｂは、０〜４の整数（好ましくは１〜２の整数を表し、より好ましくは１）を表す。Ｖ₁₉で表される置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。一般式（１９）に複数のＶ₁₉が存在している場合、それぞれの基は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。

【0095】

Ｒ₁₉₁は、水素原子または置換基を表す。Ｒ₁₉₁で表される置換基としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができ、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基であり、それぞれの好ましい例としては、前述のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₁₉₁が置換基を表す場合、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0096】

Ｖ₁₉およびＲ₁₉₁のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｖ₁₉およびＲ₁₉₁の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｖ₁₉およびＲ₁₉₁のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。
なお、Ｖ₁₉が複数ある場合、複数のＶ₁₉およびＲ₁₉₁のうち少なくとも１つの基に、フッ素原子が含まれる。

【0097】

以下に、一般式（１９）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0098】

【化15】

【0099】

一般式（２０）で表される化合物は、一般式（１）において、Ｐ、ＱがそれぞれＮＲ₂Ｒ₃であり、ｎが０である場合の一例である。
一般式（２０）において、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂、Ｒ₂₀₃およびＲ₂₀₄は、それぞれ独立に、水素原子、または、窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。
Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂、Ｒ₂₀₃およびＲ₂₀₄のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂、Ｒ₂₀₃およびＲ₂₀₄の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｒ₂₀₁、Ｒ₂₀₂、Ｒ₂₀₃およびＲ₂₀₄のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。

【0100】

以下に、一般式（２０）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0101】

【化16】

【0102】

一般式（２１）で表される化合物は、一般式（１）において、ＰがそれぞれＮＲ₂Ｒ₃であり、ＱがＯＨであり、ｎが０である場合の一例である。
一般式（２１）において、Ｒ₂₁₁およびＲ₂₁₂は、それぞれ独立に、水素原子、または、窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。
Ｒ₂₁₁およびＲ₂₁₂のうち少なくとも１つには、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｒ₂₁₁およびＲ₂₁₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｒ₂₁₁およびＲ₂₁₂のうち少なくとも１つには、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。

【0103】

以下に、一般式（２１）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0104】

【化17】

【0105】

また、一般式（１）で表される化合物の最好適態様としては、以下の一般式（Ｘ１）で表される化合物が挙げられる。

【0106】

【化18】

【0107】

Ｒ_x1およびＲ_x2は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基を表す。アルキル基中の炭素数は、イオンマイグレーション抑制機能がより優れる点で、好ましくは１〜８、より好ましくは１〜６、特に好ましくは１〜５である。アルキル基の好適な具体例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、イソブチル、２，２−ジメチルプロピル、ヘキシル、シクロヘキシルなどが挙げられる。

【0108】

Ａは、炭素数１〜２のアルキレン基を表す。Ａとして好ましくは、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、であり、より好ましくは、−ＣＨ₂ＣＨ₂−である。

【0109】

Ｘ₁₁は、水酸基を含んでいてもよい炭素数１〜３のアルキレン基を表す。Ｘ₁₁として好ましくは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₂ＯＨ）−であり、さらに好ましくは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−であり、特に好ましくは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−である。

【0110】

Ｙ₁₁は、炭素数４〜１２の直鎖状のパーフルオロアルキル基を表す。好ましいパーフルオロアルキル基の例としては、Ｃ₄Ｆ₉−、Ｃ₅Ｆ₁₁−、Ｃ₆Ｆ₁₃−、Ｃ₇Ｆ₁₅−、Ｃ₈Ｆ₁₇−、Ｃ₉Ｆ₁₉−、Ｃ₁₀Ｆ₂₁−、Ｃ₁₂Ｆ₂₅−が挙げられる。炭素数が上記範囲内であれば、イオンマイグレーション抑制機能がより優れる。
上記Ｒ_x1、Ｒ_x2、Ａ、およびＸ₁₁は、さらに上述した置換基を有していてもよい。

【0111】

（一般式（２）で表される化合物）
次に、一般式（２）で表される化合物について説明する。
Ｒ₇−Ｃ（＝Ｏ）−Ｈ 一般式（２）
本発明において一般式（２）で表される化合物には、アルデヒド体とヘミアセタール体との間に平衡が存在することにより還元性を示す化合物（アルドースなど）や、ロブリー・ドブリュイン−ファン エッケンシュタイン転位反応によるアルドース−ケトース間の異性化によりアルデヒド体を形成しうる化合物（フルクトースなど）も含有する。

【0112】

一般式（２）中、Ｒ₇はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。
Ｒ₇がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、または、アリール基を表すとき、それぞれの好ましい例としては、前述のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₇が複素環基を表すとき、好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数３から３０の５または６員の芳香族または、非芳香族の複素環基である。好ましい例としては、２−フラニル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、トリアゾリル、ベンゾトリアゾリル、チアジアゾリル、ピロリジニル、ピペリジニル、イミダゾリジニル、ピラゾリジニル、モルホリニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロチエニルなどを挙げることができる。
Ｒ₇としてさらに好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基であり、特に好ましくは、アルキル基、アリール基である。
Ｒ₇で表されるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、複素環基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。

【0113】

Ｒ₇で表される基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）は、フッ素原子で置換されている。なかでも、Ｒ₇中には、上述したＲ_f基が含まれることが好ましい。なお、一般式（２）で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。
また、Ｒ₇で表される基中には、ヒドロキシル基、または、−ＣＯＯ−で表される基が含まれていてもよい。

【0114】

以下に、一般式（２）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0115】

【化19】

【0116】

（一般式（３）で表される化合物）
次に、一般式（３）で表される化合物について説明する。

【0117】

【化20】

【0118】

一般式（３）中、Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀で表される基は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基および複素環基の好ましい例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₈、Ｒ₉およびＲ₁₀で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
Ｒ₈〜Ｒ₁₀の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）は、フッ素原子で置換されている。なかでも、Ｒ₈〜Ｒ₁₀の少なくとも一つの基中には、上述したＲ_f基が含まれることが好ましい。なお、一般式（３）で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。

【0119】

以下に、一般式（３）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0120】

【化21】

【0121】

（一般式（４）で表される化合物）
次に、一般式（４）で表される化合物について説明する。

【0122】

【化22】

【0123】

一般式（４）中、Ｒ₁₁およびＲ₁₂は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基および複素環基の好ましい例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｒ₁₁およびＲ₁₂で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
Ｒ₁₁〜Ｒ₁₂の少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）は、フッ素原子で置換されている。なかでも、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₂の少なくとも一つの基中には、上述したＲ_f基が含まれることが好ましい。なお、一般式（４）で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。

【0124】

以下に、一般式（４）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0125】

【化23】

【0126】

（一般式（５）で表される化合物）
次に、一般式（５）で表される化合物について説明する。
Ｚ−ＳＨ 一般式（５）
一般式（５）中、Ｚは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、または、これらの基を組み合わせた基を表す。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基および複素環基の好ましい例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃の例を挙げることができる。
Ｚで表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
Ｚで表される基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）は、フッ素原子で置換されている。なかでも、Ｚ中には、上述したＲ_f基が含まれることが好ましい。なお、一般式（５）で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。

【0127】

一般式（５）で表される化合物は、一般式（５１）ないし一般式（５４）で表される化合物であることが好ましい。

【0128】

【化24】

【0129】

一般式（５１）において、Ｒ₅₁₁は、フッ素原子が含まれる置換基を表す。
置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。Ｒ₅₁₁で表される基は、さらに置換基を有していてもよい。置換基の例としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
なお、Ｒ₅₁₁には、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｒ₅₁₁中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｒ₅₁₁には、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。

【0130】

以下に、一般式（５１）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0131】

【化25】

【0132】

一般式（５２）において、Ｒ₅₂₁およびＲ₅₂₂は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。Ｒ₅₂₃は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。また、置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。Ｒ₅₂₁、Ｒ₅₂₂およびＲ₅₂₃は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ₅₂₁、Ｒ₅₂₂、およびＲ₅₂₃のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｒ₅₂₁、Ｒ₅₂₂、およびＲ₅₂₃のうち少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｒ₅₂₁、Ｒ₅₂₂、およびＲ₅₂₃のうち少なくとも一つの基中には、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。

【0133】

以下に、一般式（５２）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0134】

【化26】

【0135】

一般式（５３）において、Ｒ₅₃₁は、水素原子または置換基を表す。Ｒ₅₃₂は、水素原子または窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。また、置換基としては、前述の一般式（１）においてＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。Ｒ₅₃₁およびＲ₅₃₂は同一であっても、異なっていてもよく、互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｒ₅₃₁およびＲ₅₃₂のうち少なくとも一つの基中には、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｒ₅₃₁およびＲ₅₃₂のうち少なくとも一つの基中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｒ₅₃₁およびＲ₅₃₂のうち少なくとも一つの基中には、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。

【0136】

以下に、一般式（５３）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0137】

【化27】

【0138】

一般式（５４）において、Ｒ₅₄₁はフッ素原子が含まれる窒素原子に置換可能な基を表す。窒素原子に置換可能な基としては、前述の一般式（１）のＲ₂およびＲ₃に例示した基を好ましく挙げることができる。
Ｒ₅₄₁には、フッ素原子が含まれる。なかでも、Ｒ₅₄₁中の一部または全部の水素原子（好ましくは、炭素原子に結合している一部または全部の水素原子）が、フッ素原子で置換されていることが好ましい。また、Ｒ₅₄₁には、上述したＲ_f基が含まれることがより好ましい。

【0139】

以下に、一般式（５４）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0140】

【化28】

【0141】

また、一般式（５）で表される化合物の最好適態様としては、以下の一般式（Ｙ）で表される化合物が挙げられる。

【0142】

【化29】

【0143】

式（１）中、Ｒ_y1およびＲ_y2は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。ｎ１は１または２を表し、好ましくは２を表す。ｎ１が２であるとき、複数のＣＲ_y1Ｒ_y2で表される単位の構造は、同一であっても異なっていてもよい。
Ｒ_y1およびＲ_y2がアルキル基を表すとき、好ましくは炭素数１〜３０、さらに好ましくは炭素数１〜１５、特に好ましくは１〜６であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、アミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−ヒドロキシエチル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、２−エチルヘキシルなどが好ましく挙げられる。
（ＣＲ_y1Ｒ_y2）_n1で表される構造として、好ましくは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、であり、さらに好ましくは−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、であり、特に好ましくは−ＣＨ₂ＣＨ₂−である。

【0144】

Ｒ_y3およびＲ_y4は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。ｍ１は１〜６の整数を表す。ｍ１が２以上であるとき、複数のＣＲ_y3Ｒ_y4で表される単位の構造は、同一であっても異なっていてもよい。また、Ｒ_y3およびＲ_y4は、互いに結合して環を形成していてもよい。なお、置換基の定義は、上述の通りである。

【0145】

（ＣＲ_y3Ｒ_y4）_m1で表される構造として、好ましくは、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₂ＯＨ）−であり、さらに好ましくは、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、であり、特に好ましくは、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、である。

【0146】

ｌ１は、１〜６の整数を表す。なかでも、フッ素系樹脂との相溶性により優れる点で、２〜５が好ましく、３〜４がより好ましい。

【0147】

ｑ１は０または１を表し、ｐ１は２または３を表し、ｐ１＋ｑ１は３を表す。なかでも、フッ素系樹脂との相溶性により優れる点で、ｑ１が１で、ｐ１が２であることが好ましい。

【0148】

Ｒ_y5は、炭素数１〜１４のパーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよい。
炭素原子数１〜１４の直鎖状または分岐鎖状のパーフルオロアルキル基の例としては、ＣＦ₃−、Ｃ₂Ｆ₅−、Ｃ₃Ｆ₇−、Ｃ₄Ｆ₉−、Ｃ₅Ｆ₁₁−、Ｃ₆Ｆ₁₃−、Ｃ₇Ｆ₁₅−、Ｃ₈Ｆ₁₇−、Ｃ₉Ｆ₁₉−、Ｃ₁₀Ｆ₂₁−、Ｃ₁₂Ｆ₂₅−、Ｃ₁₄Ｆ₂₉−などが挙げられる。

【0149】

（一般式（２２）で表される化合物）
次に、一般式（２２）で表される化合物について説明する。なお、一般式（２２）で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。

【0150】

【化30】

【0151】

一般式（２２）中、Ｒｆ₁は、エーテル性酸素原子を有してもよい水素原子の少なくとも一つがフッ素原子に置換された炭素数２２以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。
上記フルオロアルキル基中の水素原子はフッ素原子以外の他のハロゲン原子に置換されていてもよい。他のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、エーテル性酸素原子（−Ｏ−）は、フルオロアルキル基の炭素−炭素結合環に存在してもよく、フルオロアルキル基の末端に存在してもよい。また、フルオロアルキル基の構造は、直鎖構造、分岐構造、環構造、または部分的に環を有する構造が挙げられ、直鎖構造が好ましい。
Ｒｆ₁としては、ペルフルオロアルキル基または水素原子１個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、ペルフルオロアルキル基が特に好ましい（ただし、エーテル性酸素原子を有するものを含む。）。
Ｒｆ₁としては、炭素原子数が４〜６のペルフルオロアルキル基、または、エーテル性酸素原子を有する炭素原子数が４〜９のペルフルオロアルキル基が好ましい。
Ｒｆ₁の具体例としては、以下が挙げられる。
−ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＦ₃、−ＣＦ₂ＣＨＦ₂、−（ＣＦ₂）₂ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₃ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₄ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₅ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₆ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₇ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₈ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₉ＣＦ₃、−（ＣＦ₂）₁₁ＣＦ₃、−（ＣＦ2）₁₅ＣＦ₃、−ＣＦ（ＣＦ₃）Ｏ（ＣＦ₂）₅ＣＦ₃、−ＣＦ₂Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）pＣＦ₃（ｐは１〜８の整数）、−ＣＦ（ＣＦ₃）Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ（ＣＦ₃）Ｏ）qＣ₆Ｆ₁₃（ｑは１〜４の整数）、−ＣＦ（ＣＦ₃）Ｏ（ＣＦ₂ＣＦ（ＣＦ₃）Ｏ）rＣ₃Ｆ₇（ｒは１〜５の整数）。
Ｒｆ₁としては、特に−（ＣＦ₂）ＣＦ₃または−（ＣＦ₂）₅ＣＦ₃が好ましい。

【0152】

Ｘ₁は、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。なかでも、フッ素原子、トリフルオロメチル基が好ましい。

【0153】

Ｌ₁は、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表す。炭素数１〜２のアルキレン基が好ましい。
Ｌ₂は、単結合、または、水酸基若しくはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。なかでも、炭素数１〜２のアルキレン基が好ましい。
Ｌ₃は、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表す。なかでも、単結合または炭素数１〜２のアルキレン基が好ましい。

【0154】

Ｙ₁およびＺ₁は、単結合、−ＣＯ₂−、−ＣＯ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＳＯ₃−、−ＣＯＮＲ₂₂₂−、−ＮＨＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂ＮＲ₂₂₂−、または、−ＮＲ₂₂₂−を表す。Ｒ₂₂₂は、水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。
なかでも、−ＣＯ₂−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂ＮＲ₂₂₂−、または、−ＣＯＮＲ₂₂₂−が好ましい。

【0155】

Ｒ₂₂₁は、水素原子、炭素数１〜８に直鎖若しくは分岐のアルキル基、またはＲｆ₁−ＣＦＸ₁−Ｌ₁−Ｙ₁―Ｌ₂−Ｚ₁−Ｌ₃−を表す。
ただし、Ｙ₁およびＺ₁がいずれも単結合以外の場合、Ｌ₂はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。

【0156】

以下に、一般式（２２）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0157】

【化31】

【0158】

（一般式（２３）で表される化合物）
次に、一般式（２３）で表される化合物について説明する。なお、一般式（２３）で表される化合物には、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。

【0159】

【化32】

【0160】

一般式（２３）中、Ｒ₂₃₁およびＲ₂₃₂は、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ₂₃₁およびＲ₂₃₂がアルキル基を表すとき、好ましくは炭素数１〜３０、さらに好ましくは炭素数１〜１５、特に好ましくは１〜６であり、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、アミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−ヒドロキシエチル、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、２−エチルヘキシルなどが好ましく挙げられる。
（ＣＲ₂₃₁Ｒ₂₃₂）_nで表される構造として、好ましくは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、であり、さらに好ましくは−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、であり、特に好ましくは−ＣＨ₂ＣＨ₂−である。

【0161】

Ｒ₂₃₃およびＲ₂₃₄は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
（ＣＲ₂₃₃Ｒ₂₃₄）_mで表される構造として、好ましくは、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₂ＯＨ）−であり、さらに好ましくは、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−、であり、特に好ましくは、−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、である。

【0162】

Ｙ₂は、単結合、−ＣＯ−、または−ＣＯＯ−を表す。
Ｙ₂が単結合または−ＣＯ−のとき、ｎは０を表し、ｍは０〜６の整数を表す。なかでも、ｍは０〜４が好ましく、１〜２がより好ましい。
Ｙ₂が−ＣＯＯ−のとき、ｎは１または２を表し、好ましくは２を表す。ｍは１〜６の整数を表し、１〜４が好ましく、１〜２がより好ましい。

【0163】

Ｒｆ₂は、炭素数１〜２０の直鎖若しくは分岐のパーフルオロアルキレン基、または、炭素数１〜２０の直鎖若しくは分岐のパーフルオロエーテル基を表す。
パーフルオロアルキレン基の炭素数は１〜２０であるが、２〜１５が好ましく、３〜１２がより好ましい。パーフルオロアルキレン基の具体例としては、例えば、−Ｃ₄Ｆ₈−、−Ｃ₅Ｆ₁₀−、−Ｃ₆Ｆ₁₂−、−Ｃ₇Ｆ₁₄−、−Ｃ₈Ｆ₁₆−、−Ｃ₉Ｆ₁₈−、−Ｃ₁₀Ｆ₂₀−、−Ｃ₁₂Ｆ₂₄−などが挙げられる。
パーフルオロエーテル基とは、上記パーフルオロアルキレン基中の１箇所以上の炭素−炭素原子間、またはパーフルオロアルキレン基の結合末端にエーテル性酸素原子（−Ｏ−）が挿入された基を意味する。パーフルオロアルキレン基の炭素数は１〜２０であるが、２〜１５が好ましく、３〜１２がより好ましい。パーフルオロエーテル基の具体例としては、−（Ｃ_gＦ_2gＯ）_h−（式中、ｇはそれぞれ独立に１〜２０の整数であり、ｈは１以上の整数であり、ｇ×ｈ≦２０以下の関係を満たす。）で表されるパーフルオロエーテル基が挙げられる。

【0164】

ｐは２〜３の整数を表し、ｌは０〜１の整数を表し、ｐ＋ｌ＝３の関係を満たす。なかでも、ｐが３で、ｌが０であることが好ましい。

【0165】

以下に、一般式（２３）で表される化合物の具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0166】

【化33】

【0167】

（一般式（２４）で表される基と一般式（２５）で表される基とを有する化合物）
次に、一般式（２４）で表される基と一般式（２５）で表される基とを有する化合物（以後、化合物Ｘとも称する）について説明する。なお、化合物Ｘには、上述したフッ素含有率を満たすフッ素原子が含まれることが好ましい。

【0168】

【化34】

【0169】

一般式（２４）中、Ｒ₂₄₁、Ｒ₂₄₂、Ｒ₂₄₃、およびＲ₂₄₄は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。なかでも、置換基としてはアルキル基が好ましく、特に、Ｒ₂₄₂およびＲ₂₄₃がアルキル基（特に、tert−ブチル基）であることが好ましい。Ｒ₂₄₁およびＲ₂₄₄は、水素原子であることが好ましい。
＊は、結合位置を示す。

【0170】

一般式（２５）中、Ｘは、水素原子、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基を表す。なかでも、フッ素原子、またはトリフルオロメチル基が好ましい。
Ｒｆは、エーテル性酸素原子を有していてもよい水素原子の少なくとも１つがフッ素原子に置換された炭素原子数２０以下のフルオロアルキル基、またはフッ素原子を表す。Ｒｆの定義は、炭素原子数が異なる点を除いて上記Ｒｆ₁と同義であり、好適態様も同義である。
＊は、結合位置を示す。

【0171】

化合物Ｘの好適態様としては、以下の一般式（２６）で表される繰り返し単位および一般式（２７）で表される繰り返し単位を有するポリマーＡが挙げられる。

【0172】

【化35】

【0173】

一般式（２６）および一般式（２７）中、Ｒ₂₆₁およびＲ₂₆₂は、それぞれ独立に、水素原子、または、炭素数１〜４の置換若しくは無置換のアルキル基を表す。
Ｚ₂は、単結合、エステル基、アミド基、またはエーテル基を表す。
Ｌ₄は、単結合または２価の有機基を表す。Ｌ₄で表される有機基としては、直鎖、分岐、若しくは環状のアルキレン基、芳香族基、またはこれらを組み合わせた基であることが好ましい態様の１つである。該アルキレン基と芳香族基とを組み合わせた基は、さらに、エーテル基、エステル基、アミド基、ウレタン基、ウレア基を介していてもよい。なかでも、Ｌ₄中の総炭素数が１〜１５であることが好ましい。なお、ここで、総炭素数とは、例えば、Ｌ₄で表される置換若しくは無置換の２価の有機基に含まれる総炭素原子数を意味する。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、フェニレン基、及びこれらの基が、メトキシ基、ヒドロキシル基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等で置換されたもの、更には、これらを組み合わせた基が挙げられる。
Ｌ₅は、単結合、または、炭素数１〜６のフッ素を有さない２価の有機基を表す。なかでも、炭素数２〜４のアルキレン基であることが好ましい。
なお、一般式（２６）および一般式（２７）中のＲ₂₄₁〜Ｒ₂₄₄、ＸおよびＲｆの定義は、上述の通りである。

【0174】

ポリマーＡ中における一般式（２６）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、５〜９０モル％が好ましく、１０〜７０モル％がより好ましい。
ポリマーＡ中における一般式（２７）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、１０〜９５モル％が好ましく、３０〜９０モル％がより好ましい。
ポリマーＡの重量平均分子量は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、３，０００〜５００，０００が好ましく、５，０００〜１００，０００がより好ましい。

【0175】

化合物Ｘの他の好適態様としては、以下の一般式（２８）で表される基がさらに含まれることが好ましい。＊は、結合位置を示す。
＊−（Ｒ₂₈₁Ｏ）_qＲ₂₈₂ 一般式（２８）
Ｒ₂₈₁は、炭素数１〜４のアルキレン基を表す。
Ｒ₂₈₂は、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表す。なかでも、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。置換基の例としては、前述のＲ₂およびＲ₃で表されるアルキル基の置換基を挙げることができる。
ｑは、１〜２１０の整数を表す。
一般式（２８）で表される基の好適態様としては、以下の一般式（２８−１）で表される基が挙げられる。
＊−（Ｒ₂₈₃Ｏ）_k（Ｒ₂₈₄Ｏ）_jＲ₂₈₂ 一般式（２８−１）
Ｒ₂₈₃は、エチレン基を表す。Ｒ₂₈₄は、炭素数３〜４のアルキレン基を表す。
ｋは、０〜１００の整数を表す。なかでも、１〜５０が好ましく、２〜２３がより好ましい。
ｊは、０〜１００の整数を表す。なかでも、０〜５０が好ましく、０〜２３がより好ましい。
なお、ｋ＋ｊは２≦ｋ＋ｊ≦１００を満たす。

【0176】

化合物Ｘの好適態様としては、上記一般式（２６）で表される繰り返し単位、上記一般式（２７）で表される繰り返し単位、および、一般式（２９）で表される繰り返し単位を有するポリマーＢが挙げられる。
一般式（２６）および一般式（２７）の説明は、上述の通りである。

【0177】

【化36】

【0178】

一般式（２９）中、Ｒ₂₆₃は、水素原子、または、炭素数１〜４の置換若しくは無置換のアルキル基を表す。
Ｌ₆は、単結合または炭素数１〜１０のフッ素原子を有しない２価の有機基である。Ｌ₆が上記有機基である場合、直鎖構造、分岐構造、環構造、部分的に環を有する構造の炭素数１〜１０のオキシアルキレン基であることが好ましい。オキシアルキレン基として具体的には、ＣＨ₂ＣＨ₁₀ＣＨ₂Ｏ（式中、Ｃ₆Ｈ₁₀は、シクロヘキシレン基である。）、ＣＨ₂Ｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ、ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）Ｏ、ＣＨ（ＣＨ₃）Ｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ、Ｃ（ＣＨ₃）₂Ｏ、ＣＨ（ＣＨ₂ＣＨ₃）ＣＨ₂Ｏ、ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ、ＣＨ（ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₃）Ｏ、ＣＨ₂（ＣＨ₂）₃ＣＨ₂Ｏ、ＣＨ（ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）₂）Ｏなどが挙げられる。なかでも、炭素数２〜４のオキシアルキレン基であることが好ましい。
なお、一般式（２９）中、Ｒ₂₈₁、Ｒ₂₈₂、ｑの定義は、上述の通りである。

【0179】

ポリマーＢ中における一般式（２６）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、５〜８０モル％が好ましく、１０〜６０モル％がより好ましい。
ポリマーＢ中における一般式（２７）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、１０〜８５モル％が好ましく、２０〜７０モル％がより好ましい。
ポリマーＢ中における一般式（２９）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、１０〜８５モル％が好ましく、２０〜７０モル％がより好ましい。
ポリマーＢの重量平均分子量は特に制限されないが、イオンマイグレーション抑制能がより優れる点で、３，０００〜５００，０００が好ましく、５，０００〜１００，０００がより好ましい。

【0180】

以下に、化合物Ｘの具体例を示す。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0181】

【化37】

【0182】

【化38】

【0183】

組成物中におけるＦ含有マイグレーション抑制剤の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、後述する金属粒子全質量に対して、０．０５〜５質量％が好ましく、０．１〜３質量％がより好ましい。

【0184】

＜金属粒子＞
組成物中に含まれる金属粒子は、導電膜を構成する金属成分となる。より具体的には、本発明の組成物を基板上に塗布して、必要に応じて加熱処理を施すことにより、金属粒子同士が融着してグレインを形成し、さらにグレイン同士が接着・融着して導電膜が形成される。
金属粒子を構成する金属原子の種類は特に制限されず、用途に応じて適宜最適な金属の種類が選択される。なかでも、プリント配線基板などの配線回路としての点から、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケルまたはこれらの合金などが挙げられる。

【0185】

金属粒子の平均粒径は特に制限されず、主に、マイクロオーダーの平均粒径を有する金属微粒子（以後、金属マイクロ粒子とも称する）、または、ナノオーダーの平均粒径を有する金属微粒子（以後、金属ナノ粒子とも称する）の２種が使用される。
金属マイクロ粒子の平均粒径は特に制限されず、導電膜の導電特性がより優れる点で、０．５〜１０μｍが好ましく、１〜５μｍがより好ましい。
金属ナノ粒子の平均粒径は特に制限されず、導電膜の導電特性がより優れる点で、５〜１００ｎｍが好ましく、１０〜２０ｎｍがより好ましい。
なお、金属粒子の平均粒径は、金属粒子を電子顕微鏡（ＳＥＭ若しくはＴＥＭ）により観察して、２０個以上の金属粒子の一次粒径（直径）を測定して、それらを算術平均して得られる平均値である。

【0186】

なお、必要に応じて、金属粒子の表面は保護剤により被覆されていてもよい。保護剤により被覆されることにより、組成物中での金属粒子の保存安定性が向上する。
使用される保護剤の種類は特に制限されず、公知のポリマー（例えば、ポリビニルピロリドンなど側鎖に自由電子を有する官能基を有するポリマー）や、公知の界面活性剤などが挙げられる。
なかでも、金属ナノ粒子の場合、その表面が保護剤で覆われていることが好ましく、特に、熱重量測定（ＴＧＡ）において１６０℃まで加熱した際の重量減少率が３０％以上である保護剤を使用することが好ましい。このような保護剤であれば、加熱処理を施して導電膜を形成した際に、保護剤が導電膜中に残存しにくく、導電特性に優れた導電膜が得られる。

【0187】

組成物中における金属粒子の含有量は特に制限されないが、塗布性および組成物の保存安定性の点から、組成物全質量に対して、３０〜８５質量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。

【0188】

＜その他の成分＞
組成物には、必要に応じて、Ｆ含有マイグレーション抑制剤および金属粒子以外に他の成分が含まれていてもよい。
例えば、組成物には、樹脂バインダーが含まれていてもよい。樹脂バインダーが含まれることにより、機材と導電膜との密着性がより向上する。使用される樹脂バインダーの種類は特に制限されないが、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルピロリドン、またはシランカップリング剤の反応物などが挙げられる。

【0189】

また、組成物には、溶媒が含まれていてもよい。使用される溶媒の種類は特に制限されず、水または有機溶媒が挙げられる。
なお、使用される有機溶媒としては、例えば、アルコール系溶媒（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、sec-ブタノール、カルビトール、２−ヘプタノール、オクタノール、２−エチルヘキサノール、α―テルピネオール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル）、ケトン系溶媒（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン）、炭化水素系溶媒（例えば、ヘプタン、オクタン、ドデカン）芳香族炭化水素溶媒（例えば、トルエン、キシレン）、アミド系溶媒（例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルプロピレンウレア）、ニトリル系溶媒（例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル）、エステル系溶媒（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル）、カーボネート系溶媒（例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート）、エーテル系溶媒、ハロゲン系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒を、２種以上混合して使用してもよい。
組成物中に溶媒が含まれる場合、溶媒の含有量は、組成物の塗布性および保存安定性に優れる点で、組成物全質量に対して、１０〜７０質量％が好ましく、１５〜５５質量％がより好ましい。

【0190】

＜導電膜の製造方法＞
上記組成物を用いて導電膜を製造することができる。
導電膜の製造方法は特に制限されず、上記組成物を基材上に塗布して、必要に応じて、硬化処理を施して導電膜を製造方法が挙げられる。
組成物が塗布される基材の種類は特に制限されず、使用目的に応じて最適な基材が選択される。例えば、樹脂基材、ガラス基材、セラミック基材などが挙げられる。配線基板への応用の点からは、絶縁性の基材（絶縁性基材）を使用することが好ましい。

【0191】

組成物との塗布方法は特に制限されず、インクジェット法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、グラビアオフセット印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法など公知の方法が挙げられる。
なお、組成物の塗布後、必要に応じて、溶媒を除去するために、塗布後に乾燥処理を実施してもよい。乾燥処理の際の加熱条件は特に制限されないが、生産性の点から、５０〜１５０℃（好ましくは８０〜１２０℃）で５分〜２時間（好ましくは、１０分〜１時間）程度加熱することが好ましい。

【0192】

組成物を塗布して得られる塗膜に対して施される硬化処理の方法は特に制限されず、例えば、加熱処理または光照射処理が実施される。
加熱処理の条件は、使用される金属粒子の種類によって適宜最適な条件が選択される。なかでも、短時間で、導電性により優れる導電膜を形成することができる点で、加熱温度は１５０〜４００℃が好ましく、１５０〜２５０℃がより好ましく、また、加熱時間は５〜１２０分が好ましく、１０〜６０分がより好ましい。
なお、加熱手段は特に制限されず、オーブン、ホットプレート等公知の加熱手段を用いることができる。

【0193】

光照射処理は、上述した加熱処理とは異なり、室温にて塗膜が付与された部分に対して光を短時間照射することで焼結が可能となり、長時間の加熱による基板の劣化が起こらず、導電膜の基板との密着性がより良好となる。
光照射処理で使用される光源は特に制限されず、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線などがある。また、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用される。
具体的な態様としては、赤外線レーザーによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光、赤外線ランプ露光などが好適に挙げられる。
光照射は、フラッシュランプによる光照射が好ましく、フラッシュランプによるパルス光照射であることがより好ましい。高エネルギーのパルス光の照射は、塗膜を付与した部分の表面を、極めて短い時間で集中して加熱することができるため、基材への熱の影響を極めて小さくすることができる。
パルス光の照射エネルギーとしては、１〜１００Ｊ／ｃｍ²が好ましく、１〜３０Ｊ／ｃｍ²がより好ましく、パルス幅としては１μ秒〜１００ｍ秒が好ましく、１０μ秒〜１０ｍ秒がより好ましい。パルス光の照射時間は、１〜１００ｍ秒が好ましく、１〜５０ｍ秒がより好ましく、１〜２０ｍ秒が更に好ましい。

【0194】

上記加熱処理および光照射処理は、単独で実施してもよく、両者を同時に実施してもよい。また、一方の処理を施した後、さらに他方の処理を施してもよい。

【0195】

＜導電膜＞
上記の手順によって形成された導電膜においては、Ｆ含有マイグレーション抑制剤が導電膜の表層部分に偏在する。以下、図１を用いてより詳細に詳述する。
図１は、配線基板の第１の実施態様の模式的断面図を示し、配線基板１０は、基材１２と、基材１２上の全面に渡って配置された導電膜１４とを備える。なお、後述するように、導電膜１４の形状は図１の態様に限定されず、パターン状（例えば、ストライプ状、格子状）に配置されていてもよい。
導電膜１４は、基材１２上に配置される層で、導体部として機能する。
導電膜１４は、上述したように金属粒子に由来する金属で構成される共に、Ｆ含有マイグレーション抑制剤が含有される。

【0196】

図１に示すように、導電膜１４は、内部領域１４ａと、内部領域１４ａ上に配置された表層領域１４ｂとを有する。表層領域１４ｂは、内部領域１４ａの基材１２と接していない表面を覆っている。なお、表層領域１４ｂとは、導電膜１４の露出表面から導電膜１４の全体厚みの１／１０に相当する深さ位置までの領域に該当する。つまり、表層領域１４ｂの厚みは、導電膜１４の厚みＴ２の１／１０に相当する。なお、導電膜１４の全体厚みは、５箇所以上の任意点の導電膜１４の全体厚みを測定して、それらを算術平均したものである。
上記Ｆ含有マイグレーション抑制剤は、図１中の表層領域１４ｂ内に偏在して存在する。より具体的には、導電膜１４にはＦ含有マイグレーション抑制剤が含まれ、表層領域１４ｂに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量Ｙは、内部領域１４ａに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量Ｘよりも大きい。つまり、質量Ｙ＞質量Ｘの関係（質量Ｘ／質量Ｙが１未満の関係）を満たす。上記関係を満たしていれば、導電膜１４からのイオンマイグレーションが抑制されると共に、導電膜１４の導電特性も優れる。なかでも、イオンマイグレーション抑制機能と導電特性とのバランスがより優れる点で、内部領域１４ａに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量Ｘと、表層領域１４ｂに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量Ｙとの比（Ｘ／Ｙ）は０．２０以下がさらに好ましく、０．１０以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０が最も好ましく、実用上は０．００１以上であってもよい。
比（Ｘ／Ｙ）の測定方法は特に制限されず、例えば、基材１２表面に対して垂直な方向の導電膜１４の垂直断面を電子顕微鏡（ＳＥＭまたはＴＥＭ）で観察して、内部領域１４ａに相当する領域と表層領域１４ｂに相当する領域とに含まれる成分の元素分析を行い、Ｆ含有マイグレーション抑制剤由来の元素の量を比較して、比（Ｘ／Ｙ）を求めることができる。

【0197】

導電膜１４全体に含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の含有量は特に制限されないが、導電膜１４の導電特性の観点から、導電膜１４全質量に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。
表層領域１４ｂに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の含有量は特に制限されないが、導電膜１４の導電特性の観点から、マイグレーション抑制剤全質量に対して、５０〜１００質量％が好ましく、７０〜１００質量％がより好ましい。

【0198】

導電膜１４には、本発明の効果を損なわない範囲で、金属とマイグレーション抑制剤以外の成分が含まれていてもよい。例えば、バインダー樹脂（エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルピロリドンなど）が含まれていてもよい。

【0199】

次に、本発明の配線基板の第２の実施態様について、図面を参照して詳述する。
図２は、配線基板の第２の実施態様の模式的断面図を示し、配線基板１００は、基材１２と、基材１２上に配置された２つの細線状の導電膜１１４とを備える。図２に示すような、パターン状の導電膜の製造方法は特に制限されず、上述したインクジェット法により基材上の所定の位置に導電膜形成用組成物を吐出する方法が挙げられる。
導電膜１１４は、内部領域１１４ａと内部領域１１４ａの基材１２と接していない表面を覆う表層領域１１４ｂとを有する。
導電膜１１４は、図１に示す配線基板１０中の導電膜１４に相当して同様の構成を有し、その形状のみが異なる。つまり、内部領域１１４ａは図１に示す配線基板１０中の内部領域１４ａに相当し、表層領域１１４ｂは図１に示す配線基板１０中の表層領域１４ｂに相当する。
より具体的には、導電膜１１４を構成する金属の種類の好適態様は、上述した第１の実施形態の場合と同じである。
また、表層領域１１４ｂの厚みＴ１は、上述した第１の実施形態の場合と同様に、導電膜１１４の全体厚みＴ２の１／１０の厚みに相当する。
また、表層領域１１４ｂに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量Ｙは、第１の実施形態の場合と同様に、内部領域１１４ａに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量Ｘより大きく、その好適態様も同じである。
さらに、導電膜１１４全体に含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量の好適範囲、および、表層領域１１４ｂに含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量の好適範囲は、上述した第１の実施形態の場合と同じである。

【0200】

図２において、内部領域１１４ａは細線状であり、内部領域１１４ａを覆うように（内部領域の上面部分１６と２つの側面部分１８を覆うように）表層領域１１４ｂが存在する。
なお、図２においては、導電膜１１４は垂直断面が矩形状の層であるが、特にその形状は制限されず任意の形状であってもよい。

【0201】

図２において、２つの導電膜１１４がストライプ状に配置されているが、その数および配置パターンは特に制限されない。
導電膜１１４の幅Ｗは、配線基板の高集積化の点から、０．１〜１００００μｍが好ましく、０．１〜３００μｍがより好ましく、０．１〜１００μｍがさらに好ましく、０．２〜５０μｍが特に好ましい。
導電膜１１４間の間隔Ｄは、配線基板の高集積化の点から、０．１〜１０００μｍが好ましく、０．１〜３００μｍがより好ましく、０．１〜１００μｍがさらに好ましく、０．２〜５０μｍが特に好ましい。
導電膜１１４の厚みＴ２は、配線基板の高集積化の点から、０．００１〜１００μｍが好ましく、０．０１〜３０μｍがより好ましく、０．０１〜２０μｍがさらに好ましい。

【0202】

上述した導電膜を備える配線基板は、種々の用途および構造に対して使用することができる。例えば、プリント配線基板、プラズマディスプレイパネル用パネル基板、太陽電池電極用基板、メンブレン配線板、タッチパネル電極用基板などが挙げられる。
また、配線基板は、電子機器に含まれることが好ましい。電子機器とは、タッチパネルもしくはメンブレンスイッチやそれらを搭載したテレビ・モバイル通信機器・パーソナルコンピューター・ゲーム機器・車載表示機器・ネット通信機器、照明・表示用ＬＥＤ、太陽電池制御に関する電子配線機器、ＲＦＩＤなどの無線通信デバイス、あるいは半導体配線基板や有機ＴＦＴ配線基板で駆動制御された機器類を指す。

【0203】

本発明の配線基板の導電膜側上には、必要に応じて、さらに絶縁層を設けてもよい。
例えば、図３に示すように、上述した配線基板１００の導電膜１１４側上には、必要に応じて、さらに導電膜１１４を覆うように絶縁層２０を設けて、絶縁層付き配線基板２００を形成してもよい。絶縁層２０を設けることにより、導電膜１１４間の絶縁特性がより向上する。
絶縁層２０の材料としては、公知の絶縁性の材料を使用することができる。例えば、エポキシ樹脂、アラミド樹脂、結晶性ポリオレフィン樹脂、非晶性ポリオレフィン樹脂、フッ素含有樹脂（ポリテトラフルオロエチレン、全フッ素化ポリイミド、全フッ素化アモルファス樹脂など）、ポリイミド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、アクリレート樹脂など挙げられる。
また、絶縁層２０として、いわゆる光学用透明粘着シート（ＯＣＡ）を使用してもよい。ＯＣＡは市販品を用いてもよく、例えば、３Ｍ（株）製８１７１ＣＬシリーズ、８１４６シリーズなどが挙げられる。
また、絶縁層２０として、いわゆるソルダーレジスト層を使用してもよい。ソルダーレジストは市販品を用いてもよく、例えば、太陽インキ製造（株）製ＰＦＲ８００、ＰＳＲ４０００（商品名）、日立化成工業（株）製 ＳＲ７２００Ｇなどが挙げられる。

【実施例】

【0204】

以下、実施例により、本発明について更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0205】

＜比較例１：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物Ａ−１＞
Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−ジアミノプロパン（東京化成、特級）２．０４ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）と、ｎ−オクチルアミン（花王、純度９８％）１．９４ｇ（１５．０ｍｍｏｌ）と、ｎ−ドデシルアミン（関東化学、特級）０．９３ｇ（５．０ｍｍｏｌ）とを混合し、この混合溶液にシュウ酸銀〔硝酸銀（関東化学、一級）とシュウ酸アンモニウム一水和物またはシュウ酸二水和物（関東化学、特級）から合成したもの〕６．０８ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）を加え、３分間撹拌し、シュウ酸イオン・アルキルアミン・アルキルジアミン・銀錯化合物を調製した。これを９５℃で２０〜３０分加熱撹拌すると、二酸化炭素の発泡を伴う反応が完結し、青色光沢を呈する懸濁液へと変化した。これにメタノール（関東化学、一級）１０ｍＬを加え、遠心分離により得られた沈殿物を自然乾燥すると、青色光沢の被覆銀超微粒子の固体物４．６２ｇ（銀基準収率９７．０％）が得られた。この固体物をｎ−ブタノール（関東化学、特級）とｎ−オクタン（関東化学、特級）の混合溶媒（４／１：ｖ／ｖ）に６．９３ｇに分散し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物Ａ−１を得た。

【0206】

＜比較例２：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物Ａ−２＞
Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物Ａ−２として、ポリマー型導電性ペーストＬＳ−４５０−７Ｈ（アサヒ化学研究所製）を用いた。

【0207】

＜比較例３：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電性インクＡ−３＞
Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物Ａ−３として、フローメタルＳＷ−１０２０（バンドー化学製）を用いた。

【0208】

＜比較例４：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物Ｂ−９＞
比較例１で得られた導電膜形成用組成物Ａ−１（１１．５５ｇ）に対し、ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５（ＢＡＳＦ製）（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、導電膜形成用組成物Ｂ−９を得た。
なお、導電膜形成用組成物Ｂ−９には、Ｆ含有マイグレーション抑制剤は含まれない。

【0209】

＜比較例５：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物Ｂ−１０＞
比較例２の導電膜形成用組成物Ａ−２（１０ｇ）に対し、ベンゾトリアゾール（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、導電膜形成用組成物Ｂ−１０を得た。
なお、導電膜形成用組成物Ｂ−１０には、Ｆ含有マイグレーション抑制剤は含まれない。

【0210】

（合成例１：化合物Ｍ−１）
反応容器に、３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸（３．５ｇ，１２．６ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（２０ｍｌ）、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデカン−１−オール（６．３ｇ，１２．６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１０ｍｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２．４ｇ，１２．６ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．０５ｇ，０．４ｍｍｏｌ）をこの順に加えた。
反応溶液を室温で３時間攪拌した後、反応溶液に１Ｎ塩酸（５０ｍｌ）を加え、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。固形分をろ別した後、減圧濃縮し、白色の粗結晶を得た。メタノールで再結晶を行い、化合物Ｍ−１を６．０ｇ得た（収率６３％）。
得られた化合物Ｍ−１の¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム、基準：テトラメチルシラン）
６．９８（２Ｈ，ｓ）、５．０９（１Ｈ，ｓ）、４．５９（２Ｈ，ｔ）、２．９０（２Ｈ，ｔ）、２．７１（２Ｈ，ｔ）、１．４３（９Ｈ，ｓ）
¹Ｈ−ＮＭＲのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、化合物Ｍ−１であると同定した。

【0211】

【化39】

【0212】

（合成例２：化合物Ｍ−２）
反応容器に、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジチオール（和光純薬製）（４．０ｇ，２６．６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（８０ｍｌ）を加えて完溶させた。その後、アクリル酸３，３，４，４，５，５，６，６，７，８，８，８−ドデカフルオロ−７−（トリフルオロメチル）オクチル（１２．５ｇ，２６．６ｍｍｏｌ）を、滴下漏斗から０．５時間かけて反応溶液に滴下した。反応溶液を６５℃で６時間攪拌後、室温まで冷却し、反応溶液を減圧濃縮した。反応溶液にヘキサン２００ｍＬを添加し、氷浴にて冷却して、粗結晶１６ｇを得た。粗結晶のうち８ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）にて精製し、本発明の化合物Ｍ−２を６ｇ得た（収率７２％）。
得られた化合物Ｍ−２の¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム、基準：テトラメチルシラン）
１１．１（１Ｈ，ｂｒ）、４．４４（２Ｈ，ｔ）、３．４０（２Ｈ，ｔ）、２．８５（２Ｈ，ｔ）、２．４９（２Ｈ，ｔ）、２．４９（２Ｈ，ｍ）
¹Ｈ−ＮＭＲのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、化合物Ｍ−２であると同定した。

【0213】

【化40】

【0214】

（合成例３：化合物Ｍ−３）
反応容器に、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸（１．５ｇ，９．１９ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２７ｍｌ）、ジメチルホルムアミド（３ｍｌ）、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−１−オクタノール（３．３５ｇ，９．１９ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１．７６ｇ，９．１９ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．１１ｇ，０．９１ｍｍｏｌ）をこの順に加えた。７０℃で２４時間攪拌した後、水５０ｍｌを加え、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。固形分をろ別した後、溶液を減圧濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）にて精製し、化合物Ｍ−３を３．１ｇ得た（収率６６％）。

【0215】

【化41】

【0216】

（合成例４：化合物Ｍ−４）
下記スキームに従って、化合物Ｍ−４Ａを合成した。

【0217】

【化42】

【0218】

反応容器に、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジチオール（和光純薬製）（４．０ｇ，２６．６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（８０ｍｌ）を加えて完溶させた。アクリル酸３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル（１１．１３ｇ，２６．６ｍｍｏｌ）を、滴下漏斗から０．５時間掛けて滴下した。６５℃で６時間攪拌後、室温まで冷却し、溶液を減圧濃縮した。反応混合物にヘキサン２００ｍＬを添加し、氷浴にて冷却して、粗結晶１５ｇを得た。粗結晶のうち７．５ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）にて精製し、化合物Ｍ−４Ａを６ｇ得た（収率７９％）。

【0219】

次に、得られた化合物Ｍ−４Ａを用いて、下記スキームに従って、化合物Ｍ−４を合成した。

【0220】

【化43】

【0221】

反応容器に、化合物Ｍ−４Ａ（３．０ｇ，５．２８ｍｍｏｌ）、酢酸エチル（２０ｍｌ）を加えて完溶させた。ヨウ化ナトリウム（７９．１ｍｇ，０．５２８ｍｍｏｌ）と３０％過酸化水素（２２．１１ｍｍｏｌ，２．３９ｇ）をこの順で加えて、室温で１時間撹拌した。析出した結晶を１００ｍｌの水で洗浄し、得られた粗結晶２．７ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）にて精製し、化合物Ｍ−４を２．４ｇ得た（収率８０％）。
得られた本発明の化合物Ｍ−４のＮＭＲスペクトルは以下の通りであった。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：重クロロホルム、基準：テトラメチルシラン）：４．４３（２Ｈ，ｔ）、３．６０（２Ｈ，ｔ）、２．９５（２Ｈ，ｔ）、２．４９（２Ｈ，ｍ）
¹Ｈ−ＮＭＲのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、化合物Ｍ−４であると同定した。

【0222】

【化44】

【0223】

（合成例５：化合物Ｍ−５）
３００ｍＬの三口フラスコに、４−メチル−２−ペンタノン（和光純薬工業（株）製）２７．３ｇを入れ、窒素気流下、８０℃まで加熱した。そこへ、アクリル酸３，３，４，４，５，５，６，６，７，７,８，８，８−トリデカフルオロ−オクチル３７．６ｇ、グリシジルメタクリレート（東京化成工業（株）製）１．４２ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬工業（株）製）０．９２ｇ、４−メチル−２−ペンタノン（和光純薬工業（株）製）６３．８ｇ溶液を、４時間かけて滴下した。滴下終了後、２時間撹拌後、９０℃に昇温し、さらに２時間攪拌した。上記の反応溶液に、３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸３．３４ｇ、ジメチルドデシルアミン（和光純薬工業（株）製）０．２１ｇを加え、１２０℃に加熱し２４時間反応させた。反応終了後、ヘキサン５００ｍｌ、酢酸エチル５００ｍｌを加え、有機層を５％クエン酸水溶液３００ｍｌで洗浄後、５％アンモニア水溶液３００ｍｌで洗浄した。さらに５％クエン酸水溶液３００ｍｌで洗浄後、水３００ｍｌで洗浄した。有機層を減圧濃縮後、ヘキサンで再沈を行い、減圧化で乾燥し、化合物Ｍ−５（Ｍｗ＝７，０００）を３０ｇ得た。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法で測定されたポリスチレン換算値である。重量平均分子量のＧＰＣ法による測定は、ポリマーをテトラヒドロフランに溶解させ、東ソー（株）製高速ＧＰＣ（ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００（ＴＯＳＯＨ製、４．６ｍｍＩ．Ｄ．×１５ｃｍ）を用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いて行った。
化合物Ｍ−５は、一般式（２４）で表される基と一般式（２５）で表される基とを有する化合物に該当する。

【0224】

（合成例６：化合物Ｍ−６）
３００ｍＬの三口フラスコに、１−メトキシ−２−プロパノール（和光純薬工業（株）製）１４．３ｇを入れ、窒素気流下、８０℃まで加熱した。そこへ、アクリル酸３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロ−オクチル４．８１ｇ、グリシジルメタクリレート（東京化成工業（株）製）１．５６ｇ、ブレンマーＡＥ−４００(日本油脂社製)１４．０９ｇ、Ｖ−６０１（和光純薬工業（株）製）０．４６ｇ、１−メトキシ−２−プロパノール（和光純薬工業（株）製）３３．４ｇ溶液を、４時間かけて滴下した。滴下終了後、２時間撹拌後、９０℃に昇温し、さらに２時間攪拌した。上記の反応溶液に、３−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸３．６７ｇ、ジメチルドデシルアミン（和光純薬工業（株）製）０．２３ｇ、を加え、１２０℃に加熱し２４時間反応させた。反応終了後、減圧濃縮後し水２００ｇで希釈した。反応液をフィルターろ過した後、６０℃に加熱し、分離したポリマー溶液を取り出し、化合物Ｍ−６（Ｍｗ＝８，０００）の３５ｗ％水溶液４５ｇ得た。
重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法で測定されたポリスチレン換算値である。重量平均分子量のＧＰＣ法による測定は、ポリマーをテトラヒドロフランに溶解させ、東ソー（株）製高速ＧＰＣ（ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００（ＴＯＳＯＨ製、４．６ｍｍＩ．Ｄ．×１５ｃｍ）を用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いて行った。
化合物Ｍ−６は、一般式（２４）で表される基と、一般式（２５）で表される基と、一般式（２８）で表される基とを有する化合物に該当する。

【0225】

＜実施例１：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−１＞
比較例１で得られた導電膜形成用組成物Ａ−１（１１．５５ｇ）に対し、合成例１で得られた化合物Ｍ−１（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−１を得た。

【0226】

＜実施例２：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−２＞
比較例１で得られた導電膜形成用組成物Ａ−１（１１．５５ｇ）に対し、合成例２で得られた化合物Ｍ−２（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−２を得た。

【0227】

＜実施例３：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−３＞
比較例１で得られた導電膜形成用組成物Ａ−１（１１．５５ｇ）に対し、合成例３で得られた化合物Ｍ−３（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−３を得た。

【0228】

＜実施例４：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−４＞
比較例１で得られた導電膜形成用組成物Ａ−１（１１．５５ｇ）に対し、合成例４で得られた化合物Ｍ−４（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−４を得た。

【0229】

＜実施例５：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−５＞
比較例１で得られた導電膜形成用組成物Ａ−１（１１．５５ｇ）に対し、合成例５で得られた化合物Ｍ−５（高分子型）（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−５を得た。

【0230】

＜実施例６：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−６＞
比較例２の導電膜形成用組成物Ａ−２（１０ｇ）に対し、合成例１で得られた化合物Ｍ−１（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−６を得た。

【0231】

＜実施例７：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−７＞
比較例２の導電膜形成用組成物Ａ−２（１０ｇ）に対し、合成例３で得られた化合物Ｍ−３（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−７を得た。

【0232】

＜実施例８：Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−８＞
比較例３の導電膜形成用組成物Ａ−３（１０ｇ）に対し、合成例６で得られた化合物Ｍ−６（０．１２ｇ）を添加して、攪拌し、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含有する導電膜形成用組成物Ｂ−８を得た。

【0233】

＜インクジェットによる配線形成＞
マテリアルプリンターＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製）を用い、吐出量：１０ｐＬ、吐出間隔：５０μｍの条件で、ガラス基板上へ導電膜形成用組成物をＬ／Ｓ＝７５／７５μｍの櫛形状に描画を行い、これを２層分重ねて描画を行った。その後、オーブンで２３０℃、１時間ベークを行い、試験用配線基板を作製した。本方法は、表１の「配線形成方法」欄において「ＩＪ」と表記する。

【0234】

＜スクリーン印刷による配線形成＞
ＤＰ―３２０型スクリーン印刷機（ニューロング精密工業株式会社製）を用いて、ガラス基板上へ導電膜形成用組成物をＬ／Ｓ＝７５／７５μｍの櫛形状に印刷を行い（３００メッシュスクリーンを使用）、その後、オーブンで２３０℃、１時間ベークを行い、試験用配線基板を作製した。本方法は、表１の「配線形成方法」欄において「スクリーン」と表記する。

【0235】

＜試験用配線膜厚測定方法＞
作製した試験用配線基板をエポキシ樹脂で包埋し、研磨による断面出しを行った後、Ｓ−３０００Ｎ（ＨＩＴＡＣＨＩ社製ＳＥＭ）を用いて断面を観察、導電膜の厚みの測定を行った。結果を表１にまとめて示す。
なお、各試験用配線基板中の導電膜の露出表面から導電膜の全体厚みの１／１０に相当する深さ位置までの領域を表層領域として、残りの部分を内部領域とした。

【0236】

＜内部領域に含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤の質量Ｘと、表層領域に含まれるＦ含有マイグレーション抑制剤との質量Ｙとの比（Ｘ／Ｙ）の測定方法＞
前述のＳＥＭ写真と、ＩＮＣＡ ＰｅｎｔａＦＥＴｘ３（ＯＸＦＯＲＤ社製ＥＤＸ）を用い、Ｆ含有マイグレーション抑制剤の存在部の検出を行い、内部領域と表層領域における検出強度、面積比より質量Ｘと質量Ｙの比（Ｘ／Ｙ）を求めた。結果を表１にまとめて示す。

【0237】

＜導電性評価方法＞
得られた試験用配線基板の導電性評価を抵抗率計ロレスタＥＰ ＭＣＰ−Ｔ３６０（三菱化学アナリテック社製）を用いて行った。
評価方法として、作製した試験用配線基板の抵抗測定値をＲ１、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物のみで作製した比較用配線基板の抵抗測定値をＲ２とし、その変化割合Ｒ１／Ｒ２を計算した。以下の基準に従って、評価した。結果を表１にまとめて示す。尚、実用上はＣ以上が使用可能であり、Ｂ以上が好ましい。
「Ａ」：Ｒ１／Ｒ２≦１．１の場合
「Ｂ」：１．１＜Ｒ１／Ｒ２≦１．２５の場合
「Ｃ」：１．２５＜Ｒ１／Ｒ２≦２．０の場合
「Ｄ」：２．０＜Ｒ１／Ｒ２の場合
なお、実施例１〜５並びに比較例１および４では、導電膜形成用組成物Ａ−１を用いて上記インクジェットにて作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行った。
また、実施例６〜７並びに比較例２および５では、導電膜形成用組成物Ａ−２を用いて上記スクリーン印刷にて作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行った。
また、実施例８および比較例３では、導電膜形成用組成物Ａ−３を用いて上記インクジェットにて作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行った。

【0238】

＜絶縁信頼性評価方法＞
得られた試験用配線基板を用いて、湿度８５％、温度８５度、圧力１．０ａｔｍ、電圧８０Ｖの条件で寿命測定（使用装置：エスペック（株）社製、ＥＨＳ−２２１ＭＤ）を行った。
評価方法としては、まず、作製した試験用配線基板上に高透明性接着剤転写テープ８１４６−２（３Ｍ社製）貼り合せて、逆側にガラス基板を張り合わせて作製された絶縁信頼性試験用基板を用いて上記条件で寿命測定を行い、配線層間の抵抗値が１×１０⁵Ωになるまでの時間Ｔ１を測定した。
次に、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない導電膜形成用組成物のみで作製した比較用配線基を用いて同様の方法で絶縁信頼性試験用基板を作製し、上記条件で寿命測定を行い、配線層間の抵抗値が１×１０⁵Ωになるまでの時間Ｔ２を測定した。
得られた時間Ｔ１および時間Ｔ２を用いて寿命の改善効果（Ｔ１／Ｔ２）を計算した。以下の基準に従って、評価した。結果を表１にまとめて示す。尚、実用上はＣ以上が使用可能であり、Ｂ以上が好ましい。
「Ａ」：Ｔ１／Ｔ２≧５の場合
「Ｂ」：５＞Ｔ１／Ｔ２≧２の場合
「Ｃ」：２＞Ｔ１／Ｔ２＞１の場合
「Ｄ」：１≧Ｔ１／Ｔ２の場合
なお、実施例１〜５並びに比較例１および４では、導電膜形成用組成物Ａ−１を用いて上記インクジェットにて作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行った。
また、実施例６〜７並びに比較例２および５では、導電膜形成用組成物Ａ−２を用いて上記スクリーン印刷にて作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行った。
また、実施例８および比較例３では、導電膜形成用組成物Ａ−３を用いて上記インクジェットにて作製した比較用配線基板を用いて、上記評価を行った。

【0239】

【表1】

【0240】

【表2】

【0241】

表１に示すように、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を使用した実施例１〜８においては、導電膜中においてＦ含有マイグレーション抑制剤が表層領域に偏在していることが確認され、導電膜が導電特性に優れると共に、絶縁信頼性（イオンマイグレーション抑制能）も優れていた。
一方、Ｆ含有マイグレーション抑制剤を含まない比較例１〜５においては、導電性、または、絶縁信頼性（イオンマイグレーション抑制能）に劣っていた。例えば、マイグレーション抑制剤が含まれない比較例１〜３においては、導電特性は優れるが、絶縁信頼性（イオンマイグレーション抑制能）が劣っていた。また、フッ素原子を含有しないマイグレーション抑制剤を含む比較例４〜５においては、絶縁信頼性（イオンマイグレーション抑制能）は優れるものの、マイグレーション抑制剤の偏在化が起こらないため導電特性に劣っていた。

【符号の説明】

【0242】

１０，１００ 配線基板
１２ 基材
１４，３４，１１４ 導電膜
１４ａ，１１４ａ 内部領域
１４ｂ，１１４ｂ 表層領域
１６ 上面部分
１８ 側面部分
２０ 絶縁層
２００ 絶縁層付き配線基板

【図1】

【図2】

【図3】