特許 6015838 アルコキシケイ皮酸エステル系重合体及びそれを用いた位相差フィルム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6015838

(24)【登録日】2016年10月7日

(45)【発行日】2016年10月26日

(54)【発明の名称】アルコキシケイ皮酸エステル系重合体及びそれを用いた位相差フィルム

(51)【国際特許分類】

   C08F 20/28 20060101AFI20161013BHJP

   C08F 220/28 20060101ALI20161013BHJP

   C08F 222/16 20060101ALI20161013BHJP

   G02B 5/30 20060101ALI20161013BHJP

   G02F 1/13363 20060101ALI20161013BHJP

【ＦＩ】

   C08F20/28

   C08F220/28

   C08F222/16

   G02B5/30

   G02F1/13363

【請求項の数】9

【全頁数】30

(21)【出願番号】特願2015-213440(P2015-213440)

(22)【出願日】2015年10月29日

(65)【公開番号】特開2016-108544(P2016-108544A)

(43)【公開日】2016年6月20日

【審査請求日】2016年6月22日

(31)【優先権主張番号】特願2014-239364(P2014-239364)

(32)【優先日】2014年11月26日

(33)【優先権主張国】JP

【早期審査対象出願】

(73)【特許権者】

【識別番号】000003300

【氏名又は名称】東ソー株式会社

(72)【発明者】

【氏名】藤井 靖芳

(72)【発明者】

【氏名】伊藤 正泰

(72)【発明者】

【氏名】下里 伸治

【審査官】 佐藤 のぞみ

(56)【参考文献】

【文献】 特開平１０−２７３４１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−２０５８１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／０８４１７８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１６−７９３７７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１６−９８３７１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 Karthikeyan, S.; Ramamurthy, V.，Templating Photodimerization of trans-Cinnamic Acid Esters with a Water-Soluble Pd Nanocage，Journal of Organic Chemistry，２００７年，72(2)，452-458

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０８Ｆ２０／００−２０／７０

Ｃ０８Ｆ２２０／００−２２０／７０

Ｃ０８Ｆ２２２／００−２２２／４０

Ｇ０２Ｂ５／３０

Ｇ０２Ｆ１／１３３６３

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

少なくとも一般式（１）で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。

【化1】

（ここで、Ｒ_１は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）

【請求項2】

一般式（１）で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を１０モル％以上含むことを特徴とする請求項１に記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。

【請求項3】

一般式（２）で表されるフマル酸モノエステル残基単位を含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。

【化2】

（ここで、Ｒ_３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）

【請求項4】

標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３０，０００〜５００，０００であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。

【請求項5】

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位がメトキシケイ皮酸エステル残基単位およびエトキシケイ皮酸エステル残基単位より選択される１以上の残基単位であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。

【請求項6】

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が４−メトキシケイ皮酸エステル残基単位であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。

【請求項7】

アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位および４−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位からなる群より選択されるいずれかであることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体。

【請求項8】

請求項１〜請求項７のいずれかに記載のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたことを特徴とする位相差フィルム。

【請求項9】

フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚであることを特徴とする請求項８に記載の位相差フィルム。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、新規なアルコキシケイ皮酸エステル系重合体及びそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、生産性に優れ、かつ、薄膜においても高い面外位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムに適した新規なアルコキシケイ皮酸エステル系重合体に関するものである。

【背景技術】

【0002】

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。

【0003】

液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。

【0004】

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、図１に示す屈折率楕円体で表すことができる。ここで、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚと示す。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。

【0005】

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。

【0006】

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。

【0007】

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。

【0008】

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。

【0009】

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１〜３参照）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。

【0010】

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。

【0011】

しかし、特許文献１〜４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。

【0012】

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。

【0013】

特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。

【0014】

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている（例えば、特許文献６〜１０参照）。

【0015】

また、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数１〜６のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献１１参照）。

【0016】

さらに、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数１〜６のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び２個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献１２参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0017】

【特許文献1】特許２８１８９８３号公報

【特許文献2】特開平５−２９７２２３号公報

【特許文献3】特開平５−３２３１２０号公報

【特許文献4】特開平６−８８９０９号公報

【特許文献5】特開２００５−１５６８６２号公報

【特許文献6】特開２００８−１１２１４１号公報

【特許文献7】特開２０１２−０３２７８４号公報

【特許文献8】ＷＯ２０１２／００５１２０号公報

【特許文献9】特開２００８−１２９４６５号公報

【特許文献10】特開２００６-１９３６１６号公報

【特許文献11】ＷＯ２０１４／０１３９８２号公報

【特許文献12】ＷＯ２０１４／０８４１７８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0018】

特許文献６〜１０で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。

【0019】

特許文献１１で提案されたフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体は、特許文献６〜１０で提案された樹脂よりも高い面外位相差を発現させるものの、より生産性に優れ、より高収率で得られる重合体が求められている。また、特許文献１１で提案された位相差フィルムは、薄膜において高い面外位相差を有するものの、さらに薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。

【0020】

特許文献１２で提案されたフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体は生産性に優れ高収率で得られるものの、フィルムとした際に特許文献１１より高い面外位相差を有するものではなく、生産性に優れ、かつ、より高い面外位相差を有する重合体が求められている。

【0021】

本発明の目的は、生産性に優れる重合体であって、薄膜においても高い面外位相差を有する光学特性に優れた位相差フィルムに適した新規なアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0022】

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

【0023】

すなわち、本発明は、一般式（１）で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とするアルコキシケイ皮酸エステル系重合体およびそれを用いた位相差フィルムに関するものである。

【0024】

【化1】

【0025】

（ここで、Ｒ_１は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
以下、本発明の位相差フィルムに適したアルコキシケイ皮酸エステル系重合体について詳細に説明する。

【0026】

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、一般式（１）で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含むアルコキシケイ皮酸エステル系重合体である。そして、本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、特定のアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含んでなることにより、より薄膜においても高い面外位相差を発現させ、かつ、重合体となる際の単量体の重合転嫁率が高く、生産性に優れるものであることを特徴とする。

【0027】

【化2】

【0028】

（ここで、Ｒ_１は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
本発明の一般式（１）におけるＲ_１は炭素数１〜１２の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、ｎは１〜５の整数である。また、本発明の一般式（１）におけるＲ_２は、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体が高い面外位相差を発現することから、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましい。

【0029】

具体的な一般式（１）で表されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位、プロポキシケイ皮酸エステル残基単位、ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位、ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い位相差を発現することから、メトキシケイ皮酸エステル残基単位、エトキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましく、４−メトキシケイ皮酸残基単位がさらに好ましい。

【0030】

本発明において、メトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、２−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

【0031】

エトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、２−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、４−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

【0032】

プロポキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、２−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

【0033】

ヘキソキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、２−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

【0034】

ドデトキシケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、２−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２−ドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−ドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−ドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２−ドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−ドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，５−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，６−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，５−ジドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，６−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，５−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４，６−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４，５−トリドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，５−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，４，６−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３，５，６−テトラドデトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、ペンタドデトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位等が挙げられる。

【0035】

これらの中でも、高い位相差を発現することから、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル単位残基、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位および４−メトキシケイ皮酸シクロヘキシル残基単位が好ましく、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位がさらに好ましい。

【0036】

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、高い面外位相差を維持しながら溶解性や相溶性の向上が可能であるため、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位等の一般式（２）で表されるフマル酸モノエステル残基単位を含むことが好ましい。

【0037】

【化3】

【0038】

（ここで、Ｒ_３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）
本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位等の一般式（２）で表されるフマル酸モノエステル残基単位以外のフマル酸エステル残基単位;Ｎ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位等のＮ−置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位より選ばれる１種または２種以上を挙げることができる。

【0039】

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性が優れたものとなることから、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０モル％以上が好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位２０モル％以上がより好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位５０モル％以上がさらに好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位６０モル％以上が特に好ましく、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位７０モル％以上が最も好ましい。

【0040】

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３０，０００〜５００，０００であることが好ましく、４０，０００〜４００，０００であることがさらに好ましい。

【0041】

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の製造方法としては、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、アルコキシケイ皮酸エステルのラジカル重合を行うことにより製造することができる。

【0042】

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。

【0043】

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。

【0044】

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。

【0045】

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。

【0046】

本発明のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。

【0047】

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記ｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚを満たすことによりＳＴＮ−ＬＣＤ、ＩＰＳ−ＬＣＤ、反射型ＬＣＤや半透過型ＬＣＤ等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの３次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。

【0048】

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式（ａ）にて示される波長５５０ｎｍで測定した面外位相差（Ｒｔｈ）が−１００〜−２０００ｎｍであることが好ましく、−１００〜−５００ｎｍであることがさらに好ましく、−１８０〜−５００ｎｍであることが特に好ましい。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ （ａ）
（ここで、ｄはフィルムの厚みを示す。）
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で５．５ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）以上が好ましく、６ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）以上がさらに好ましく、８ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）以上が特に好ましい。

【0049】

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ（曇り度）は２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。

【0050】

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。

【0051】

溶液キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を溶媒に溶解した溶液（以下、ドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０〜２００００ｃＰｓが好ましく、１００〜１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。

【0052】

この際のアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後１〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは２〜１００μｍ、特に好ましくは３〜５０μｍである。

【0053】

また、溶融キャスト法は、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を押出機内で溶融し、Ｔダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。

【0054】

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。

【0055】

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール／ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。

【0056】

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成するアルコキシケイ皮酸エステル系重合体１００重量部に対して酸化防止作用に優れることから、０．０１〜１０重量部が好ましく、０．５〜１重量部がさらに好ましい。

【0057】

さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。

【0058】

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。

【0059】

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0060】

【図1】延伸による屈折率楕円体の変化

【実施例】

【0061】

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【0062】

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。

【0063】

＜アルコキシケイ皮酸エステル系重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（^１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。

【0064】

＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨ_ＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。

【0065】

＜透明性の評価方法＞
ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ５０００）を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。

【0066】

＜屈折率の測定＞
アッベ屈折率計（アタゴ製）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９８１年版）に準拠して測定した。

【0067】

＜フィルムの位相差および三次元屈折率の測定＞
全自動複屈折計（王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて測定した。

【0068】

実施例１（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（４−メトキシケイ皮酸メチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル共重合体）の合成１）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに４−メトキシケイ皮酸メチル５０ｇ（０．２６モル）、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル１５．２ｇ（０．０６５モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．３８ｇ（０．００２２モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、９６時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体１５ｇを得た（収率：２３％）。

【0069】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は４１，０００であった。

【0070】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位／４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位＝８４／１６（モル％）であることを確認した。

【0071】

実施例２（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（４−メトキシケイ皮酸エチル／フマル酸ジイソプロピル共重合体）の合成２）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに４−メトキシケイ皮酸エチル５０ｇ（０．２４モル）、フマル酸ジイソプロピル２０．８ｇ（０．１０モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．４０ｇ（０．００２３モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、９６時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体２５ｇを得た（収率：３５％）。

【0072】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は４７，０００であった。

【0073】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位／フマル酸ジイソプロピル残基単位＝５４／４６（モル％）であることを確認した。

【0074】

実施例３（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（４−メトキシケイ皮酸イソプロピル／フマル酸ジエチル共重合体）の合成３）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに４−メトキシケイ皮酸イソプロピル５０ｇ（０．２１モル）、フマル酸ジエチル４．１ｇ（０．０２４モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．２８ｇ（０．００１６モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、９６時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体１５ｇを得た（収率：２７％）。

【0075】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は４３，０００であった。

【0076】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位／フマル酸ジエチル残基単位＝９０／１０（モル％）であることを確認した。

【0077】

実施例４（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（３，４−ジメトキシケイ皮酸エチル共重合体／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体）の合成４）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに３，４−ジメトキシケイ皮酸エチル５０ｇ（０．２３モル）、Ｎ−フェニルマレイミド４．４ｇ（０．０２５モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．２９ｇ（０．００１７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体１７ｇを得た（収率：３１％）。

【0078】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は７８，０００であった。

【0079】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は３，４−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位／Ｎ−フェニルマレイミド残基単位＝８２／１８（モル％）であることを確認した。

【0080】

実施例５（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（４−エトキシケイ皮酸エチル／アクリル酸エチル共重合体）の合成５）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに４−エトキシケイ皮酸エチル５０ｇ（０．２４モル）、アクリル酸エチル１．３ｇ（０．０１３モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．３０ｇ（０．００１７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体９ｇを得た（収率：１８％）。

【0081】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体は、生産性に優れることから収率が高いものであり、数平均分子量は５６，０００であった。

【0082】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４−エトキシケイ皮酸エチル残基単位／アクリル酸エチル残基単位＝８９／１１（モル％）であることを確認した。

【0083】

実施例６（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル／フマル酸モノイソプロピル共重合体）の合成６）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル７ｇ（０．０３モル）、フマル酸モノイソプロピル４３ｇ（０．２７モル）および重合開始剤である１，１ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン０．４２ｇ（０．００１５モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを７０℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を得た（収率：２０％）。

【0084】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の数平均分子量は４２，０００であった。

【0085】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位／フマル酸モノイソプロピル残基単位＝１２／８８（モル％）であることを確認した。

【0086】

実施例７（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（２−メトキシケイ皮酸エチル／フマル酸ジエチル共重合体）の合成７）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに２−メトキシケイ皮酸エチル４６ｇ（０．２２モル）、フマル酸ジエチル４ｇ（０．０２モル）および重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．５３ｇ（０．００１２モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、９６時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を得た（収率：３７％）。

【0087】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の数平均分子量は４５，０００であった。

【0088】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は２−メトキシケイ皮酸エチル残基単位／フマル酸ジエチル残基単位＝８７／１３（モル％）であることを確認した。

【0089】

実施例８（アルコキシケイ皮酸エステル系重合体（２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル／フマル酸モノエチル共重合体）の合成８）
容量７５ｍＬのガラスアンプルに２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル３１ｇ（０．１２モル）、フマル酸モノエチル１９ｇ（０．１３モル）、トルエン５ｇおよび重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート０．３０ｇ（０．００１７モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、９６時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、アルコキシケイ皮酸エステル系重合体を得た（収率：２９％）。

【0090】

得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体の数平均分子量は４０，０００であった。

【0091】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成は２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位／フマル酸モノエチル残基単位＝５１／４９（モル％）であることを確認した。

【0092】

合成例１（フマル酸ジエステル系共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジｎ−ブチル共重合体）の合成１）
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１Ｌのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ−５０）１．６ｇ、蒸留水５２０ｇ、フマル酸ジイソプロピル２３０ｇ、フマル酸ジｎ−ブチル５０ｇ、および重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート２．１ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た。（収率：８０％）。

【0093】

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は１５０，０００であった。

【0094】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ジｎ−ブチル残基単位＝８７／１３（モル％）であることを確認した。

【0095】

合成例２（フマル酸ジエステル系共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ビス２−エチルヘキシル共重合体）の合成２）
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１Ｌのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ−５０）１．６ｇ、蒸留水５２０ｇ、フマル酸ジイソプロピル１９６ｇ、フマル酸ビス２−エチルヘキシル８４ｇ、及び重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート１．９ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た。（収率：６６％）。

【0096】

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は８６，０００であった。

【0097】

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ビス２−エチルヘキシル残基単位＝８４／１６（モル％）であることを確認した。

【0098】

合成例３（フマル酸ジイソプロピル単独重合体の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．２７ｇ（０．００１５モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、３６時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル単独重合体を得た（収率：７１％）。

【0099】

得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体の数平均分子量は１１８，０００であった。

【0100】

合成例４（フマル酸モノイソプロピル単独重合体の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノイソプロピル５０ｇ（０．３２モル）および重合開始剤である１，１ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン０．４０ｇ（０．００１５モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを７０℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノイソプロピル単独重合体を得た（収率：１８％）。

【0101】

得られたフマル酸モノイソプロピル単独重合体の数平均分子量は３６，０００であった。

【0102】

実施例９
実施例１で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0103】

得られたフィルムは、全光線透過率９０％、ヘーズ０．５％、屈折率１．５６４であった。

【0104】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．５６０５、ｎｙ＝１．５６０５、ｎｚ＝１．５７０４であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２９７ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は９．９ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0105】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0106】

実施例１０
実施例２で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をシクロヘキサノンに溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１５０℃で１０分乾燥することにより、厚み２０μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0107】

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．５１７であった。

【0108】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．５１３４、ｎｙ＝１．５１３４、ｎｚ＝１．５２２８であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−１８８ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は９．４ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0109】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0110】

実施例１１
実施例３で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をトルエン／メチルイソブチルケトン混合溶剤に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み２０μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0111】

得られたフィルムは、全光線透過率９１％、ヘーズ０．６％、屈折率１．５２９であった。

【0112】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．５２５９、ｎｙ＝１．５２５９、ｎｚ＝１．５３６１であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２０４ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は１０．２ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0113】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0114】

実施例１２
実施例４で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をトルエン／メチルエチルケトン混合溶剤に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１１０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0115】

得られたフィルムは、全光線透過率９０％、ヘーズ０．７％、屈折率１．５６３であった。

【0116】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．５６０２、ｎｙ＝１．５６０２、ｎｚ＝１．５６８９であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２６１ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は８．７ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0117】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0118】

実施例１３
実施例５で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をテトラヒドロフランに溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み２５μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0119】

得られたフィルムは、全光線透過率９１％、ヘーズ０．５％、屈折率１．５４５であった。

【0120】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．５４２０、ｎｙ＝１．５４２０、ｎｚ＝１．５５０６であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２１５ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は８．６ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0121】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0122】

実施例１４
実施例６で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をシクロペンタノンに溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１２０℃で１０分乾燥することにより、厚み２５μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0123】

得られたフィルムは、全光線透過率９４％、ヘーズ０．５％、屈折率１．４２７であった。

【0124】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４２４２、ｎｙ＝１．４２４２、ｎｚ＝１．４３２３であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２０３ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は８．１ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0125】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0126】

実施例１５
実施例７で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をシクロヘキサノンに溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み２５μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0127】

得られたフィルムは、全光線透過率９１％、ヘーズ０．４％、屈折率１．５４３であった。

【0128】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．５３９７、ｎｙ＝１．５３９７、ｎｚ＝１．５５０６であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２７３ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は１０．９ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0129】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0130】

実施例１６
実施例８で得られたアルコキシケイ皮酸エステル系重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み２５μｍのアルコキシケイ皮酸エステル系重合体を用いたフィルムを得た。

【0131】

得られたフィルムは、全光線透過率９３％、ヘーズ０．５％、屈折率１．４７３であった。

【0132】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４６９９、ｎｙ＝１．４６９９、ｎｚ＝１．４７９３であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２３５ｎｍと負に大きかった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は９．４ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

【0133】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

【0134】

比較例１
合成例１で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン／メチルエチルケトン＝５０／５０混合溶剤に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフィルムを得た。

【0135】

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４７２であった。

【0136】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４７１２、ｎｙ＝１．４７１２、ｎｚ＝１．４７４３であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−９３ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も３．１ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。

【0137】

比較例２
合成例２で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン／メチルエチルケトン＝５０／５０混合溶剤に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフィルムを得た。

【0138】

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４７３であった。

【0139】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４７２３、ｎｙ＝１．４７２３、ｎｚ＝１．４７３８であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−４５ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も１．５ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。

【0140】

比較例３
合成例３で得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体をテトラヒドロフランに溶解して２２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み２１μｍのフィルムを得た。

【0141】

得られたフィルムは、全光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、屈折率１．４６８であった。

【0142】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４６８９、ｎｙ＝１．４６８９、ｎｚ＝１．４７２３であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Ｒｔｈは−７１ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も３．４ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。

【0143】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜においても高い面外位相差を期待できないものであった。

【0144】

比較例４
合成例４で得られたフマル酸モノイソプロピル単独重合体をシクロペンタノンに溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１２０℃で１０分乾燥することにより、厚み２５μｍのフィルムを得た。

【0145】

得られたフィルムは、全光線透過率９４％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４１０であった。

【0146】

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４０８７、ｎｙ＝１．４０８７、ｎｚ＝１．４１２６であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Ｒｔｈは−９７ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も３．９ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。

【0147】

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜においても高い面外位相差を期待できないものであった。

【符号の説明】

【0148】

ｎｘ；フィルム面内の進相軸方向の屈折率を示す。
ｎｙ；ｎｘと直交するフィルム面内方向の屈折率を示す。
ｎｚ；フィルムの厚み方向の屈折率を示す。

【図1】