特許 6019591 組成物及び光学フィルム

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6019591

(24)【登録日】2016年10月14日

(45)【発行日】2016年11月2日

(54)【発明の名称】組成物及び光学フィルム

(51)【国際特許分類】

   C09K 19/54 20060101AFI20161020BHJP

   C09K 19/38 20060101ALI20161020BHJP

   C09K 19/34 20060101ALI20161020BHJP

   C09K 19/32 20060101ALI20161020BHJP

   G02B 5/30 20060101ALI20161020BHJP

   G02F 1/1335 20060101ALI20161020BHJP

   G02F 1/13363 20060101ALI20161020BHJP

   G02F 1/1337 20060101ALI20161020BHJP

   C08F 220/30 20060101ALI20161020BHJP

【ＦＩ】

   C09K19/54 Z

   C09K19/38

   C09K19/34

   C09K19/32

   G02B5/30

   G02F1/1335 510

   G02F1/13363

   G02F1/1337 520

   C08F220/30

【請求項の数】12

【全頁数】91

(21)【出願番号】特願2012-10754(P2012-10754)

(22)【出願日】2012年1月23日

(65)【公開番号】特開2013-147607(P2013-147607A)

(43)【公開日】2013年8月1日

【審査請求日】2014年12月22日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002093

【氏名又は名称】住友化学株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100113000

【弁理士】

【氏名又は名称】中山 亨

(74)【代理人】

【識別番号】100151909

【弁理士】

【氏名又は名称】坂元 徹

(72)【発明者】

【氏名】小林 忠弘

【審査官】 西澤 龍彦

(56)【参考文献】

【文献】 特開平１１−３４９９４７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−００８５２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−２５６３０４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１５０３１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２４１９１９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０３１２２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１３／０５１８３１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００７−３３２２９１（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０９Ｋ １９／００− １９／６０

Ｃ０８Ｆ ２２０／００−２２０／７０

Ｇ０２Ｆ １／００− １／３９

Ｇ０２Ｂ ５／００− ５／３２

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

以下の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む組成物。
（Ａ）重合性液晶化合物
（Ｂ）下記式（Ｘ）で表される化合物
（Ｃ）光重合開始剤

［式（X）中、
ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ^１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ^２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方がＮ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’で示される基である。Ｒ^３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｘ）中のＲ^３’のうち、少なくとも１つのＲ^３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］

【請求項2】

前記（Ａ）が、式（Ａ）で表される化合物である請求項１に記載の組成物。

［式（Ａ）中、
Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ^３及びＱ^４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^２Ｒ^３又は−ＳＲ^２を表すか、Ｑ^３及びＱ^４が互いに結合して、これらがそれぞれ結合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成している。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＲ^６Ｒ^７−、−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−又は−ＮＲ^４−ＣＲ^５Ｒ^６−又は−ＣＯ−ＮＲ^４−を表す。
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２のうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。］

【請求項3】

前記（Ａ）は、
前記式（Ａ）のＬ^１が式（Ａ１）で表される基であり、かつＬ^２が式（Ａ２）で表される基の化合物である請求項２記載の組成物。
Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１− （Ａ１）
Ｐ^２−Ｆ^２−（Ｂ^２−Ａ^２）_ｌ−Ｅ^２− （Ａ２）

［式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−Ｓ−ＣＨ_２−又は単結合を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｆ^１及びＦ^２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ^１は、重合性基を表す。
Ｐ^２は、水素原子又は重合性基を表す。
Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。］

【請求項4】

請求項１〜３のいずれか記載の組成物に含まれる重合性成分を重合して形成される光学フィルム。

【請求項5】

以下の（１）及び（２）を含む光学フィルムの製造方法。
（１）請求項１〜３のいずれか記載の組成物を、基材上に塗布する工程；
（２）（１）により基材上に塗布された塗布膜中に含まれる重合性成分を重合することにより光学フィルムを形成する工程。

【請求項6】

前記基材が、水酸基を有する材料からなる請求項５記載の光学フィルムの製造方法。

【請求項7】

前記水酸基を有する材料が、トリアセチルセルロースをケン化して得られる材料である請求項６記載の光学フィルムの製造方法。

【請求項8】

前記基材が、その表面に光配向性ポリマーから形成された配向膜が設けられたものである請求項５〜７のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。

【請求項9】

前記配向膜は、前記光配向性ポリマーが光照射により架橋構造を形成して設けられたものである請求項８記載の光学フィルムの製造方法。

【請求項10】

位相差性を有する請求項４記載の光学フィルム。

【請求項11】

請求項１０記載の光学フィルムを含む偏光板。

【請求項12】

請求項４記載の光学フィルム、又は請求項１０記載の光学フィルムを備えたフラットパネル表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、組成物及び光学フィルムに関する。

【背景技術】

【0002】

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板及び位相差板などの光学フィルムを含む部材が用いられている。このような光学フィルムとして、重合性液晶化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む組成物を基材上に塗布することにより製造されたものが知られている。例えば、特許文献１には、配向処理を施した基材上に該組成物を塗布してなる塗布膜に含まれる重合性液晶化合物を配向させた後、該重合性液晶化合物を重合させることで形成された光学フィルムが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２００７−１４８０９８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

配向処理を施した基材上に組成物を塗布することで光学フィルムを製造する場合、当該基材と、得られる光学フィルムとの間の密着性はより高いと、加工時の剥離などが生じないことから高品質の光学フィルムが得られやすいため好ましい。しかしながら、該光学フィルムの製造プロセスにより密着性を向上することには制限があるため、組成物自身が高密着性の光学フィルムを形成し得ると製造プロセスの簡略化が図れる点では好ましく、かかる特性を備えた組成物の実現が求められていた。

【課題を解決するための手段】

【0005】

かかる状況下、本発明者は鋭意検討した結果、本発明に至った。すなわち、本発明は以下の発明を含む。
〔１〕以下の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含む組成物。
（Ａ）重合性液晶化合物
（Ｂ）分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有する化合物
（Ｃ）光重合開始剤
〔２〕前記（Ｂ）が、活性水素反応性基としてイソシアナト基を有する化合物である、〔１〕記載の組成物。
〔３〕前記（Ｂ）が、下記式（Ｘ）で表される化合物である、〔１〕記載の組成物。

［式（X）中、
ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ^１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ^２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方がＮ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’で示される基である。Ｒ^３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｘ）中のＲ^３’のうち、少なくとも１つのＲ^３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］
〔４〕前記（Ａ）が、式（Ａ）で表される化合物である、〔１〕〜〔３〕のいずれか記載の組成物。

［式（Ａ）中、
Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ^３及びＱ^４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^２Ｒ^３又は−ＳＲ^２を表すか、Ｑ^３及びＱ^４が互いに結合して、これらがそれぞれ結合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成している。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＲ^６Ｒ^７−、−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−又は−ＮＲ^４−ＣＲ^５Ｒ^６−又は−ＣＯ−ＮＲ^４−を表す。
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２のうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。］
〔５〕前記（Ａ）は、
前記式（Ａ）のＬ^１が式（Ａ１）で表される基であり、かつＬ^２が式（Ａ２）で表される基の化合物である、〔４〕記載の組成物。
Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１− （Ａ１）
Ｐ^２−Ｆ^２−（Ｂ^２−Ａ^２）_ｌ−Ｅ^２− （Ａ２）

［式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−Ｓ−ＣＨ_２−又は単結合を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｆ^１及びＦ^２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ^１は、重合性基を表す。
Ｐ^２は、水素原子又は重合性基を表す。
Ｒ^１、Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。］
〔６〕〔１〕〜〔５〕のいずれか記載の組成物に含まれる重合性成分を重合して形成される光学フィルム。
〔７〕以下の（１）及び（２）を含む光学フィルムの製造方法。
（１）〔１〕〜〔５〕のいずれか記載の組成物を、基材上に塗布する工程；
（２）（１）により基材上に塗布された塗布膜中に含まれる重合性成分を重合することにより光学フィルムを形成する工程。
〔８〕前記基材が、水酸基を有する材料からなる、〔７〕記載の光学フィルムの製造方法。
〔９〕前記水酸基を有する材料が、トリアセチルセルロースをケン化して得られる材料である、〔８〕記載の光学フィルムの製造方法。
〔１０〕前記基材が、その表面に光配向性ポリマーから形成された配向膜が設けられたものである、〔７〕〜〔９〕のいずれか記載の光学フィルムの製造方法。
〔１１〕前記配向膜は、前記光配向性ポリマーが光照射により架橋構造を形成して設けられたものである、〔１０〕記載の光学フィルムの製造方法。
〔１２〕〔７〕〜〔１１〕のいずれか記載の製造方法により得られる光学フィルム。
〔１３〕位相差性を有する、〔６〕又は〔１２〕記載の光学フィルム。
〔１４〕〔１３〕記載の光学フィルムを含む偏光板。
〔１５〕〔６〕、〔１２〕又は〔１３〕記載の光学フィルムを備えたフラットパネル表示装置。

【発明の効果】

【0006】

本発明によれば、密着性に優れた光学フィルム製造用の組成物及び該組成物を塗布してなる光学フィルムが提供できる。

【図面の簡単な説明】

【0007】

【図1】本発明に係る偏光板の一例を示す断面模式図である。

【図2】本発明に係る液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。

【図3】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0008】

１．組成物（以下、本発明の組成物を場合により、「本組成物」といい、本組成物から製造される光学フィルムを場合により、「本光学フィルム」という。）
本組成物は、（Ａ）重合性液晶化合物、（Ｂ）分子内に、炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有する化合物（以下、場合により「化合物（Ｂ）」という。）及び（Ｃ）光重合開始剤を含む。本発明は、本組成物、本光学フィルム等を提供するものであり、以下、必要に応じて図面を参照しながら、本発明を詳細に説明する。なお、図面中の寸法等は見易さのために任意になっている。

【0009】

１−１．化合物（Ｂ）
化合物（Ｂ）は上述のとおり、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有する。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ_２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアナト基、チオイソシアナト基、無水マレイン酸基等がその代表例である。化合物（Ｂ）が有する、炭素−炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、それぞれ１〜２０個、好ましくは１〜１０個である。

【0010】

化合物（Ｂ）において、活性水素反応性基は少なくとも２つ存在すると好ましく、この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一でも、異なるものであってもよい。

【0011】

化合物（Ｂ）が有する炭素−炭素不飽和結合とは、炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合、あるいはそれらの組み合わせであってよいが、炭素−炭素二重結合であると好ましい。中でも、化合物（Ｂ）としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素−炭素不飽和結合を含むと好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアナト基からなる群から選ばれる少なくとも１種であるものが好ましく、アクリル基と、イソシアナト基とを有する化合物（Ｂ）が特に好ましい。

【0012】

化合物（Ｂ）の具体例としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び２０イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアナト基とを有する化合物のオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸及びビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナトエチルアクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート及び前記のオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び前記のオリゴマーが特に好ましい。

【0013】

ここで、活性水素反応性基としてイソシアナト基を有し、化合物（Ｂ）としてより好ましいものを具体的に示す。この好ましい化合物（Ｂ）は例えば、下記式（Ｘ）で表される。

［式（Ｘ）中、
ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ^１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ^２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方がＮ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’で示される基である。Ｒ^３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
式（Ｘ）中のＲ^３’のうち、少なくとも１つのＲ^３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］

【0014】

前記式（Ｘ）で表される化合物（Ｂ）の中でも、下記式（ＸＸ）で表される化合物（以下、場合により「化合物（ＸＸ）」という。）が特に好ましいものである（なお、ｎは前記と同じ意味である）。

化合物（ＸＸ）は市場から容易に入手できる市販品をそのまま又は必要に応じて精製して用いることもできる。該市販品としては、例えば、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

【0015】

本組成物における化合物（Ｂ）の含有量は、本組成物の総質量に対する含有割合で表して、０．０１〜１０質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がさらに好ましい。上記範囲内であれば、本組成物中の光配向性ポリマーの反応性を低下させることがない。

【0016】

１−２．重合性液晶化合物
本組成物に含まれる（Ａ）重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ液晶状態を示す化合物である。重合性基とは、該重合性液晶化合物の重合反応に関与する基を意味する。

【0017】

該重合性液晶化合物の好適例の１つは例えば、式（Ａ）で表されるもの（以下、場合により「化合物（Ａ）」という。）である。

［式（Ａ）中、
Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ^１−を表す。Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基、又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ^３及びＱ^４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^２Ｒ^３又は−ＳＲ^２を表すか、Ｑ^３及びＱ^４が互いに結合して、これらがそれぞれ結合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成している。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＲ^６Ｒ^７−、−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−又は−ＮＲ^４−ＣＲ^５Ｒ^６−又は−ＣＯ−ＮＲ^４−を表す。
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ^１及びＬ^２のうち少なくとも一方が、重合性基を有する有機基である。］

【0018】

Ｒ¹で表される炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基及びｓｅｃ−ブチル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基及びエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

【0019】

Ｙ¹で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基等の単環系芳香族炭化水素基；ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基及びビフェニル基等の多環系芳香族炭化水素基（縮合多環系芳香族炭化水素基を含む）が挙げられる。これらの中でも、Ｙ¹で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基及びナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
Ｙ¹で表される芳香族複素環式基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基及びチアゾリル基等の単環系芳香族複素環基；ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基等の多環系芳香族複素環基（縮合多環系芳香族複素環基を含む）等の、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含む芳香族複素環式基が挙げられる。これらの中でもフリル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基が好ましい。

【0020】

Ｙ¹で表される芳香族炭化水素基及び芳香族複素環式基は置換基（以下、場合により「置換基Ｚ¹」という）を有していてもよい。置換基Ｚ¹としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。

【0021】

置換基Ｚ¹のうち、前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子のいずれでもよいが、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が好ましい。
置換基Ｚ¹のうち、前記アルキル基の具体例は、前記Ｒ¹のアルキル基として例示したものと同じものが挙げられる。これらの中でも、メチル基及びエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

【0022】

置換基Ｚ¹のうち、前記アルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基及びヘキシルスルフィニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。

【0023】

置換基Ｚ¹のうち、前記アルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基及びヘキシルスルホニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。

【0024】

置換基Ｚ¹のうち、前記フルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基及びノナフルオロブチル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

【0025】

置換基Ｚ¹のうち、前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

【0026】

置換基Ｚ¹のうち、前記アルキルスルファニル基としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｓｅｃ−ブチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基及びヘキシルスルファニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルキルスルファニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基がより好ましく、メチルスルファニル基が特に好ましい。

【0027】

置換基Ｚ¹のうち、前記Ｎ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基及びＮ−ヘキシルアミノ基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。

【0028】

置換基Ｚ¹のうち、前記Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基及びＮ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられる。これらの中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。

【0029】

置換基Ｚ¹のうち、前記Ｎ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基及びＮ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。

【0030】

置換基Ｚ¹のうち、前記Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基及びＮ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。

【0031】

以上、置換基Ｚ¹について、その具体例及び好適例を挙げたが、これらの中でも、置換基Ｚ¹は、ハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基及び炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基及びＮ−メチルアミノ基が特に好ましい。

【0032】

Ｙ¹が、置換基を有していてもよい単環系芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい単環系芳香族複素環基である場合、その好適例は、式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）でそれぞれ表される基が挙げられる。

［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、
＊は結合手を表し、Ｚ¹は前記置換基Ｚ¹を表す。
ａ１は０〜５の整数、ａ２は０〜４の整数、ｂ１は０〜３の整数、ｂ２は０〜２の整数をそれぞれ表す。Ｒ⁸は水素原子又はメチル基を表す。
なお、ａ１、ａ２、ｂ１及びｂ２が２以上の整数である場合、同一基に存在する複数のＺ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。］

【0033】

これらの中でも、Ｙ¹は、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であると、化合物（Ａ）が容易に製造できる点やコストの点で特に好ましい。

【0034】

Ｙ¹が、置換基を有していてもよい多環系芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい多環系芳香族複素環基である場合、その好適例は、式（Ｙ¹−１）〜式（Ｙ¹−７）でそれぞれ表される基が挙げられる。

【0035】

［式（Ｙ¹−１）〜式（Ｙ¹−７）中、
＊は結合手を表し、Ｚ¹は前記置換基Ｚ¹を表す。
Ｖ¹及びＶ²は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ⁹−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ₂−を表す。Ｒ⁹は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｗ¹〜Ｗ⁵は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ¹、Ｖ²及びＷ¹〜Ｗ⁵のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅといったヘテロ原子又は該へテロ原子を含む基を表す。
ａは、０〜３の整数を表す。
ｂは、０〜２の整数を表す。
なお、ａ、ｂが２以上の整数である場合、同一基に存在する複数のＺ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。］

【0036】

Ｖ¹及びＶ²は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ⁹−又は−Ｏ−が好ましく、Ｗ¹〜Ｗ⁵は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝が好ましい。
ａは０又は１であることが好ましく、ｂは０であることが好ましい。

【0037】

さらに、Ｙ¹が、置換基を有していてもよい多環系芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい多環系芳香族複素環基である場合でいえば、式（Ｙ²−１）〜式（Ｙ²−６）で表される基であることがより好ましい。

【0038】

［式（Ｙ²−１）〜式（Ｙ²−６）中、
＊、Ｚ¹、ａ、ｂ、Ｖ¹、Ｖ²及びＷ¹は、前記と同じ意味を表す。］

【0039】

式（Ｙ²−１）〜式（Ｙ²−６）でそれぞれ表される基においては、Ｚ¹としては、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、ニトロソ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基及びＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基が特に好ましい。

【0040】

Ｑ^３及びＱ^４で表される脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、３−メチルブチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、オクチル基、１−メチルヘプチル基、ノニル基、１−メチルオクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びエイコシル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、メチル基及びエチル基が特に好ましい。

【0041】

Ｑ^３及びＱ^４で表される脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基及びシクロデシル基等が挙げられ、炭素数３〜１２の環状アルキル基が好ましい。

【0042】

Ｑ^３及びＱ^４で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−フルオレニル基、２−フルオレニル基及び３−フルオレニル基等が挙げられ、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基が好ましい。

【0043】

Ｑ^３及びＱ^４で表される脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基はそれぞれ置換基を有していてもよい。該置換基としては、前記Ｚ^１として例示したものが挙げられる。

【0044】

Ｒ²及びＲ³は炭素数１〜６のアルキル基であり、中でも炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、メチル基及びエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

【0045】

ここで、Ｑ^３及びＱ^４は、互いに結合して芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｑ^３とＱ^４が形成する環としては芳香族複素環が好ましく、例えば、化合物（Ａ）中の式（Ｑ’）

で示される部分構造が、式（Ｑ）で示される構造であるとより好ましい。

［式（Ｑ）中、
Ｘ²は、式（Ａ）中のＸ¹として例示した原子又は基と同じであり、Ｙ^２は、式（Ａ）中のＹ^１として例示した基と同じである。］

【0046】

以上、Ｘ¹、Ｙ¹、Ｑ^３及びＱ^４のそれぞれについて具体例を示しつつ説明したが、これらの組合せの具体例を、化合物（Ａ）中の式（ａｒ）

【0047】

で示される部分構造で表すと、以下の式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−１３５）からなる群より選ばれるものを挙げることができる。

【0048】

【0049】

【0050】

【0051】

【0052】

【0053】

【0054】

【0055】

【0056】

【0057】

【0058】

【0059】

【0060】

【0061】

【0062】

【0063】

【0064】

【0065】

【0066】

【0067】

【0068】

【0069】

【0070】

【0071】

【0072】

【0073】

【0074】

【0075】

以上の式（ａｒ）で示される部分構造の中では、式（ａｒ−８６）で表される構造を含む化合物（Ａ）が、該化合物（Ａ）自体の製造がより容易であり、該化合物（Ａ）を含む本組成物から形成される光学フィルムの位相差の波長分散性を制御しやすいため、好ましい。

【0076】

式（Ａ）中のＤ¹及びＤ²は、それぞれ独立に、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＮＲ⁴−ＣＲ⁵Ｒ⁶−又は−ＮＲ⁴−ＣＯ−が好ましく、より好ましくは＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、＊−ＮＲ⁴−ＣＲ⁵Ｒ⁶−又は＊−ＮＲ⁴−ＣＯ−、さらに好ましくは＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−又は＊−ＮＲ⁴−ＣＯ−（ここで、＊は、式（ａｒ）で示される部分構造における、Ｑ¹及びＱ²が結合しているベンゼン環との結合手を表わす）である。

【0077】

Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましい。

【0078】

Ｇ¹及びＧ²で表される２価の脂環式炭化水素基としては、単環式炭化水素基や、橋かけ環式炭化水素基が挙げられ、５員環又は６員環であることが好ましい。該脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。また、Ｇ¹及びＧ²で表される脂環式炭化水素基は、それを構成する−ＣＨ_２−が、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−に置き換わる場合や、それを構成するメチン基が第三級窒素原子に置き換わる場合もある。すなわち、Ｇ¹及びＧ²はヘテロ原子を含む基であってもよい。ここで、Ｇ¹及びＧ²の具体例を挙げると、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）でそれぞれ表されるものである。

【0079】

【0080】

Ｇ¹及びＧ²で表される２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、置換基（以下、場合により「置換基Ｚ²」という）で置換されていてもよい。前記置換基Ｚ²としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフルオロアルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子が挙げられる。

【0081】

Ｇ¹及びＧ²としては、式（ｇ−１）で表される２価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。中でも、Ｇ¹及びＧ²がともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがより好ましく、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。

【0082】

式（Ａ）中のＬ¹及びＬ²はそれぞれ独立して１価の有機基であり、Ｌ¹及びＬ²のうち少なくとも一方が重合性基を有する有機基である。
より好ましくは、Ｌ¹は、式（Ａ１）で表される基（以下、場合により「基（Ａ１）」という）であり、Ｌ²は式（Ａ２）で表される基（以下、場合により「基（Ａ２）」という）である。

【0083】

Ｐ¹−Ｆ¹−（Ｂ¹−Ａ¹）_k−Ｅ¹− （Ａ１）
Ｐ²−Ｆ²−（Ｂ²−Ａ²）_l−Ｅ²− （Ａ２）
［式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１及びＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−Ｓ−ＣＨ_２−又は単結合を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^１は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ^２は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｆ^１及びＦ^２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ^１は、重合性基を表す。
Ｐ^２は、水素原子又は重合性基を表す。
Ｒ^４及びＲ^５は、前記と同じ意味を表す。］

【0084】

基（Ａ１）及び基（Ａ２）において、Ａ¹及びＡ²で表される２価の脂環式炭化水素基の具体例は、前記Ｇ¹及びＧ²の２価の脂環式炭化水素基として例示したものと同じであり、その好適例も、Ｇ¹及びＧ²の好適例と同じである。Ａ¹及びＡ²で表される２価の芳香族炭化水素基としては、単環式であっても、多環式（複数の芳香環が単結合で転結されている多環式及び縮合多環式を含む）であってもよい。Ａ¹及びＡ²で表される２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、式（ａ−１）〜式（ａ−８）でそれぞれ表されるものが挙げられる。また、Ａ¹及びＡ²で表される芳香族炭化水素基としては、対称軸又は対称面がある基が好ましい。

【0085】

【0086】

Ａ¹及びＡ²で表される脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、Ｇ¹及びＧ²で表される脂環式炭化水素基が任意に有することもある置換基Ｚ²として例示したものと同じものが挙げられる。

【0087】

Ａ¹及びＡ²としては、それぞれ独立に、１，４−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイルであることが好ましく、化合物（Ａ）の製造がより容易となる点から、１，４−フェニレン基であることが好ましい。

【0088】

Ｂ¹及びＢ²は、化合物（Ａ）の製造が容易となる傾向にあることから同種類の基であることが好ましい。また、ｋ、ｌが２以上の整数である場合、２つのＡ¹の間にあるＢ¹、２つのＡ²の間にあるＢ²は、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＨ₂−又は単結合であると、化合物（Ａ）の製造がより容易になる傾向があり好ましい。高い液晶性を示す本光学フィルムを形成し易いという点から、２つのＡ¹の間にあるＢ¹、２つのＡ²の間にあるＢ²はともに、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であることが好ましい。
Ｆ¹と結合しているＢ¹、及びＦ²と結合しているＢ²は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合であることがより好ましい。

【0089】

ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は４以下がより好ましい。ｋ及びｌが上記の範囲であると、化合物（Ａ）がより液晶性を示しやすくなる傾向がある。

【0090】

Ｆ¹及びＦ²は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルカンジイル基であることが好ましく、直鎖のアルカンジイル基であることがより好ましい。特に、無置換のアルカンジイル基が好ましい。該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置き換わっていてもよい。

【0091】

Ｐ¹及びＰ²は、水素原子又は重合性基であり、少なくとも一方が重合性基である。硬度がより優れる本光学フィルムを得ようとする場合には、Ｐ^１及びＰ^２がともに重合性基である、化合物（Ａ）が好ましい。

【0092】

ここで重合性基とは、化合物（Ａ）を重合させることのできる特性基を意味し、具体的には、ビニル基、ビニルオキシ基、スチリル基、ｐ−（２−フェニルエテニル）フェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する重合性基；カルボキシ基；アセチル基；ヒドロキシ基；カルバモイル基；炭素数１〜４のアルキルアミノ基；アミノ基；オキシラニル基；オキセタニル基、ホルミル基、イソシアナト基又はイソチオシアナト基等が例示される。
重合性基としては、化合物（Ａ）を光重合させるのに適したラジカル重合性基及びカチオン重合性基が好ましく、特に、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が好ましい。中でも重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましく、特にアクリロイルオキシ基であることが好ましい。

【0093】

以上、基（Ａ１）及び基（Ａ２）について具体例を示しつつ説明したが、化合物（Ａ）の製造上の容易さを考慮すると、該基（Ａ１）と基（ａ２）とは同一であること、すなわち、Ｌ^１とＬ^２とは同一であることが好ましい。
同様に、化合物（Ａ）において、Ｄ¹とＤ²とは同一であり、Ｇ¹とＧ²とは同一であること、すなわち、化合物（Ａ）において、−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹で表される基と、−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²で表される基とが同一であると好ましい。このようにすると、化合物（Ａ）をより容易に製造することができる。

【0094】

Ｌ¹が式（Ａ１）で表される基である場合の−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹の具体例、及び、Ｌ²が式（Ａ２）で表される基である場合の−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²の具体例としては、下記式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）でそれぞれ表される基等が挙げられる。
なお、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表し、好ましくは３〜１０、さらに好ましくは４〜８である。

【0095】

【0096】

【0097】

【0098】

【0099】

【0100】

【0101】

【0102】

【0103】

【0104】

【0105】

【0106】

【0107】

Ｌ^１が基（Ａ１）であり、Ｌ^２が基（Ａ２）である化合物（Ａ）は、さらに式（１）及び式（２）の関係をともに満たすことが好ましい。
（Ｎ_π−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４ （１）
１２≦Ｎ_π≦２２ （２）
［式（１）及び式（２）中、Ｎ_πは、式（Ａ）において、−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹、−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²を除いた部分が有する芳香環に含まれるπ電子の数を表す。ｋ及びｌは、前記と同じ意味を表す。］

【0108】

化合物（Ａ）としては、例えば、下記化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｖｉｉ）が挙げられる。なお、表１中のＬ^１は、−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹を、Ｌ^２は、−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²を表す。

【0109】

【表1】

【0110】

表１において、例えば、（ｉ）で示す化合物（Ａ）（以下、この化合物（Ａ）を表１中の番号に応じて、「化合物（ｘｖｉ）」のようにいう）は、式（ａｒ）で表される部分構造が、式（ａｒ−３９）で表される構造であり、−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｌ^１で表される基が上述の（Ｒ−１）〜（Ｒ−４８）、（Ｒ−５６）〜（Ｒ−１２０）及び（Ｒ−１２９）〜（Ｒ−１３１）からなる群より選ばれる基であり、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２で表される基が上述の（Ｒ−１）〜（Ｒ−４８）及び（Ｒ−５６）〜（Ｒ−１３１）からなる群より選ばれる基である化合物を意味する。
例えば、化合物（ｘｖｉ）は、式（ａｒ）で表される部分構造が、式（ａｒ−３９）で表される構造であり、−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｌ^１で表される基が上述の（Ｒ−１）〜（Ｒ−４８）、（Ｒ−５６）〜（Ｒ−１２０）及び（Ｒ−１２９）〜（Ｒ−１３１）からなる群より選ばれる基であり、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２で表される基が上述の（Ｒ−１）〜（Ｒ−４８）及び（Ｒ−５６）〜（Ｒ−１３１）からなる群より選ばれる基である化合物と、式（ａｒ−４０）で表される構造であり、−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｌ^１で表される基が上述の（Ｒ−１）〜（Ｒ−４８）、（Ｒ−５６）〜（Ｒ−１２０）及び（Ｒ−１２９）〜（Ｒ−１３１）からなる群より選ばれる基であり、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｌ^２で表される基が上述の（Ｒ−１）〜（Ｒ−４８）及び（Ｒ−５６）〜（Ｒ−１３１）からなる群より選ばれる基である化合物との混合物、すなわち、化合物（ｘｖｉ）は２種の化合物（Ａ）の混合物を意味する。

【0111】

表１の化合物（Ａ）の具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。表１で示した化合物（Ａ）の中では、化合物（ｉ）、化合物（ｉｉｉ）、化合物（ｉｖ）、化合物（ｖ）、化合物（ｖｉｉｉ）、化合物（ｉｘ）、化合物（ｘ）、化合物（ｘｖ）、化合物（ｘｖｉｉ）、化合物（ｘｖｉｉｉ）、化合物（ｘｉｘ）、化合物（ｘｘ）、化合物（ｘｘｉｉ）、化合物（ｘｘｉｉｉ）、化合物（ｘｘｉｖ）及び化合物（ｘｘｖ）の代表的な構造式を例示する。以下の化学式は、全ての立体異性体を含むものとする。また、化合物（ｉ）〜（xxv）は、シクロヘキサン−１，４−ジイル基が、全てｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましい。

【0112】

【0113】

【0114】

【0115】

【0116】

【0117】

【0118】

【0119】

【0120】

【0121】

【0122】

【0123】

【0124】

【0125】

さらに、化合物（Ａ）としては、式（Ａ１）〜式（Ａ６１）でそれぞれ表されるものも挙げられる。

【0126】

（式（Ａ１）中の２つの＊は、（Ａ１−１）〜（Ａ１−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0127】

（式（Ａ２）中の２つの＊は、（Ａ２−１）〜（Ａ２−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0128】

（式（Ａ３）中の２つの＊は、（Ａ３−１）〜（Ａ３−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0129】

（式（Ａ４）中の２つの＊は、（Ａ４−１）〜（Ａ４−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0130】

（式（Ａ５）中の２つの＊は、（Ａ５−１）〜（Ａ５−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0131】

（式（Ａ６）中の２つの＊は、（Ａ６−１）〜（Ａ６−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0132】

（式（Ａ７）中の２つの＊は、（Ａ７−１）〜（Ａ７−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0133】

（式（Ａ８）中の２つの＊は、（Ａ８−１）〜（Ａ８−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0134】

（式（Ａ９）中の２つの＊は、（Ａ９−１）〜（Ａ９−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0135】

（式（Ａ１０）中の２つの＊は、（Ａ１０−１）〜（Ａ１０−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0136】

（式（Ａ１１）中の２つの＊は、（Ａ１１−１）〜（Ａ１１−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0137】

（式（Ａ１２）中の２つの＊は、（Ａ１２−１）〜（Ａ１２−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0138】

（式（Ａ１３）中の２つの＊は、（Ａ１３−１）〜（Ａ１３−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0139】

（式（Ａ１４）中の２つの＊は、（Ａ１４−１）〜（Ａ１４−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0140】

（式（Ａ１５）中の２つの＊は、（Ａ１５−１）〜（Ａ１５−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0141】

（式（Ａ１６）中の２つの＊は、（Ａ１６−１）〜（Ａ１６−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0142】

（式（Ａ１７）中の２つの＊は、（Ａ１７−１）〜（Ａ１７−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0143】

（式（Ａ１８）中の２つの＊は、（Ａ１８−１）〜（Ａ１８−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0144】

（式（Ａ１９）中の２つの＊は、（Ａ１９−１）〜（Ａ１９−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0145】

（式（Ａ２０）中の２つの＊は、（Ａ２０−１）〜（Ａ２０−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0146】

（式（Ａ２１）中の２つの＊は、（Ａ２１−１）〜（Ａ２１−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0147】

（式（Ａ２２）中の２つの＊は、（Ａ２２−１）〜（Ａ２２−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0148】

（式（Ａ２３）中の２つの＊は、（Ａ２３−１）〜（Ａ２３−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0149】

（式（Ａ２４）中の２つの＊は、（Ａ２４−１）〜（Ａ２４−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0150】

（式（Ａ２５）中の２つの＊は、（Ａ２５−１）〜（Ａ２５−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0151】

（式（Ａ２６）中の２つの＊は、（Ａ２６−１）〜（Ａ２６−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0152】

（式（Ａ２７）中の２つの＊は、（Ａ２７−１）〜（Ａ２７−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0153】

（式（Ａ２８）中の２つの＊は、（Ａ２８−１）〜（Ａ２８−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0154】

（式（Ａ２９）中の２つの＊は、（Ａ２９−１）〜（Ａ２９−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0155】

（式（Ａ３０）中の２つの＊は、（Ａ３０−１）〜（Ａ３０−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0156】

（式（Ａ３１）中の２つの＊は、（Ａ３１−１）〜（Ａ３１−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0157】

（式（Ａ３２）中の２つの＊は、（Ａ３２−１）〜（Ａ３２−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0158】

（式（Ａ３３）中の２つの＊は、（Ａ３３−１）〜（Ａ３３−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0159】

（式（Ａ３４）中の２つの＊は、（Ａ３４−１）〜（Ａ３４−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0160】

（式（Ａ３５）中の２つの＊は、（Ａ３５−１）〜（Ａ３５−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0161】

（式（Ａ３６）中の２つの＊は、（Ａ３６−１）〜（Ａ３６−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0162】

（式（Ａ３７）中の２つの＊は、（Ａ３７−１）〜（Ａ３７−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0163】

（式（Ａ３８）中の２つの＊は、（Ａ３８−１）〜（Ａ３８−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0164】

（式（Ａ３９）中の２つの＊は、（Ａ３９−１）〜（Ａ３９−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0165】

（式（Ａ４０）中の２つの＊は、（Ａ４０−１）〜（Ａ４０−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0166】

（式（Ａ４１）中の２つの＊は、（Ａ４１−１）〜（Ａ４１−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0167】

（式（Ａ４２）中の２つの＊は、（Ａ４２−１）〜（Ａ４２−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0168】

（式（Ａ４３）中の２つの＊は、（Ａ４３−１）〜（Ａ４３−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0169】

（式（Ａ４４）中の２つの＊は、（Ａ４４−１）〜（Ａ４４−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0170】

（式（Ａ４５）中の２つの＊は、（Ａ４５−１）〜（Ａ４５−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0171】

（式（Ａ４６）中の２つの＊は、（Ａ４６−１）〜（Ａ４６−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0172】

（式（Ａ４７）中の２つの＊は、（Ａ４７−１）〜（Ａ４７−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0173】

（式（Ａ４８）中の２つの＊は、（Ａ４８−１）〜（Ａ４８−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0174】

（式（Ａ４９）中の２つの＊は、（Ａ４９−１）〜（Ａ４９−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0175】

（式（Ａ５０）中の２つの＊は、（Ａ５０−１）〜（Ａ５０−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0176】

（式（Ａ５１）中の２つの＊は、（Ａ５１−１）〜（Ａ５１−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0177】

（式（Ａ５２）中の２つの＊は、（Ａ５２−１）〜（Ａ５２−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0178】

（式（Ａ５３）中の２つの＊は、（Ａ５３−１）〜（Ａ５３−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0179】

（式（Ａ５４）中の２つの＊は、（Ａ５４−１）〜（Ａ５４−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0180】

（式（Ａ５５）中の２つの＊は、（Ａ５５−１）〜（Ａ５５−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0181】

（式（Ａ５６）中の２つの＊は、（Ａ５６−１）〜（Ａ５６−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0182】

（式（Ａ５７）中の２つの＊は、（Ａ５７−１）〜（Ａ５７−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0183】

（式（Ａ５８）中の２つの＊は、（Ａ５８−１）〜（Ａ５８−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0184】

（式（Ａ５９）中の２つの＊は、（Ａ５９−１）〜（Ａ５９−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0185】

（式（Ａ６０）中の２つの＊は、（Ａ６０−１）〜（Ａ６０−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0186】

（式（Ａ６１）中の２つの＊は、（Ａ６１−１）〜（Ａ６１−８）のいずれかの＊と結合している。）

【0187】

また、化合物（Ａ）としては、以下のものも使用できる。

【0188】

【0189】

【0190】

【0191】

【0192】

【0193】

【0194】

【0195】

【0196】

【0197】

化合物（Ａ）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応等を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。

【0198】

Ｄ^１及びＤ^２が＊−Ｏ−ＣＯ−である場合の化合物（Ａ）を例にとり、その製造方法を簡単に説明する。まず、式（１−１）で表される化合物（化合物（１−１））及び式（１−２）で表される化合物（化合物（１−２））をそれぞれ準備し、この化合物（１−１）と化合物（１−２）とを反応させることにより、式（１−３）で表される化合物（化合物（１−３））を得る。

【0199】

［式中、Ｘ¹、Ｙ¹、Ｑ¹、及びＱ²は、式（Ａ）中と同一の意味を表わす。］

【0200】

［式中、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは前記と同じ意味を表わす。］

【0201】

［式中、Ｘ¹、Ｙ¹、Ｑ¹、Ｑ²、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは前記と同じ意味を表わす。］

【0202】

次いで、得られた化合物（１−３）と、式（１−４）で表される化合物（化合物（１−４））とを反応させることにより化合物（Ａ）を製造できる。

【0203】

［式中、Ｇ^２、Ｅ^２、Ａ^２、Ｂ^２、Ｆ^２、Ｐ^２及びｌは前記と同じ意味を表わす。］

【0204】

化合物（１−１）と、化合物（１−２）との反応、及び、化合物（１−３）と、化合物（１−４）との反応は、エステル化剤の存在下に実施することが好ましい。

【0205】

エステル化剤（縮合剤）としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：Water Soluble Carbodiimideとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド等のカルボジイミド；２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１、２、４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラートルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステ等が挙げられる。中でも、反応性、コスト、広範の溶媒が使用可能である点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールが好ましい。

【0206】

本組成物が、（Ａ）として化合物（Ａ）を含む場合、その含有量は、本組成物の固形分に対する含有割合で表して、１０〜９９．９質量％の範囲が好ましく、２０〜９９質量％の範囲がより好ましく、５０〜９７質量％の範囲がさらに好ましく、８０〜９５質量％の範囲が特に好ましい。化合物（Ａ）の含有量が前記の範囲であれば、得られる光学フィルムは、広い波長域において一様の偏光変換が可能なものとなる。ここで、固形分とは、本組成物から後述する溶剤を除く量をいう。なお、本組成物においては、化合物（Ａ）は単独で用いても、表１の化合物（ｘｖｉ）で表したように、２種以上の化合物（Ａ）を併用してもよい。

【0207】

以上、本組成物に含まれる（Ａ）重合性液晶化合物として好ましい化合物（Ａ）を、その具体例を示して説明したが、本組成物は、化合物（Ａ）とは異なる液晶化合物（以下、場合により「化合物（Ａ’）」という）を含んでいてもよい。かかる化合物（Ａ’）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報及び特開２０１１−２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。

【0208】

前記化合物（Ａ’）としては、例えば、式（３）で表される化合物（以下、場合により「化合物（３）」という）等が挙げられる。

【0209】

Ｐ¹¹−Ｅ¹¹−（Ｂ¹¹−Ａ¹¹）_t−Ｂ¹²−Ｇ （３）
［式（３）中、
Ａ¹¹は、置換基を有していてもよい芳香族複素環、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。
Ｂ¹¹及びＢ¹²は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−Ｏ−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−Ｏ−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−ＮＲ¹³−ＣＲ¹⁴Ｒ¹⁵−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ¹⁶−、−ＯＣＨ₂−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−又は単結合を表す。Ｒ¹³〜Ｒ¹⁶は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のＮ−アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基又は−Ｅ¹²−Ｐ¹²を表す。
Ｅ¹¹及びＥ¹²は、炭素数１〜１８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイルきに含まれるメチレン基は、酸素原子又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
Ｐ¹¹及びＰ¹²は、重合性基を表す。
ｔは、１〜５の整数を表す。ｔが２以上の整数である場合、複数のＢ¹¹は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＡ¹¹は、互いに同一であっても異なっていてもよい。］

【0210】

Ａ¹¹で表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフェナンスロリン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環及びベンゾチアゾール環等が挙げられる。中でも、ベンゼン環、チアゾール環及びベンゾチアゾール環が好ましい。Ａ¹¹で表される芳香族炭化水素環又は芳香族複素環としては、例えば式（Ａｒａ−１）〜式（Ａｒａ−１１）でそれぞれ表される２価の基が挙げられる。

【0211】

［式（Ａｒａ−１）〜式（Ａｒａ−１１）中、
Ｘ³は、式（Ａ）中のＸ^３と同じ意味を表す。同一基中に存在する複数のＸ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｙ³は、式（Ａ）中のＹ¹として例示した基と同じものを表す。
Ｚ³は、式（Ａ）中のＺ¹として例示した基と同じものを表す。
Ｗ^ａ及びＷ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜４の整数を表す。
ｏは、０〜２の整数を表す。
ｍ、ｎ及びｏが２以上の整数である場合、同一基中に存在する複数のＺ³は互いに同一であっても異なっていてもよい。］

【0212】

Ａ¹¹で表される芳香族炭化水素環又は芳香族複素環としては、式（Ａｒａ−１）及び式（Ａｒａ−７）でそれぞれ表される基が好ましく、具体的には下記の基が例示される。

【0213】

Ａ¹¹で表される脂環式炭化水素基の炭素数は、例えば３〜１８の範囲であり、５〜１２の範囲であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ¹¹で表される脂環式炭化水素基としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等が挙げられる。該脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基及びシアノ基が挙げられる。

【0214】

Ｐ¹¹及びＰ¹²で表される重合性基としては、化合物（Ａ）のＰ¹及びＰ²で表される重合性基として例示したものと同じ基が挙げられる。より低温で重合できる（硬化できる）ことから光重合性基が好ましく、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基がさらに好ましく、特に取り扱いが容易な上、化合物（３）の製造も容易であることから、Ｐ¹¹及びＰ¹²で表される重合性基としては、式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）でそれぞれ表される基が好ましい。

【0215】

［式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）中、
Ｒ¹⁷〜Ｒ²¹はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は水素原子を表す。＊は、Ｂ¹¹との結合手を表す。］

【0216】

Ｅ¹¹及びＥ¹²は、炭素数１〜１８のアルカンジイル基であり、直鎖状であるか分岐点が１箇所である炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。

【0217】

化合物（３）としては、例えば、以下のものが挙げられる。

【0218】

【0219】

本組成物が、（Ａ）として化合物（３）を含む場合、その含有量は、例えば、化合物（Ａ）と化合物（３）との合計量１００質量部に対して、化合物（３）が９０質量部以下であり、好ましくは７０質量部以下である、さらに好ましくは４０質量部以下である。なお、本組成物により形成される光学フィルムの波長分散特性は、本組成物が化合物（Ａ）とともに化合物（３）を含むことにより制御できる。具体的には、本光学フィルムに含まれる重合体（化合物（Ａ）の重合体、又は化合物（Ａ）と化合物（３）との（共）重合体）において、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量及び化合物（３）に由来する構造単位の含有量により所望の波長分散特性を有する本光学フィルムを形成できる。本光学フィルム中にある前記重合体の化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を増加させると、より逆波長分散特性を示す傾向がある。所望の波長分散特性を有する本光学フィルムを形成するためには、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量が異なる本組成物を２〜５種類程度調製し、それぞれの本組成物について、同じ膜厚の光学フィルムを製造してその位相差値を求める。そして、結果から、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量と光学フィルムの位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における光学フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を決定すればよい。

【0220】

１−３．光重合開始剤
本組成物は光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、光の作用により活性ラジカルを発生し、化合物（Ａ）の重合を開始しうる化合物である。光重合開始剤としては、アルキルフェノン化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物及びオキシム化合物等が挙げられる。

【0221】

前記アルキルフェノン化合物としては、α−アミノアルキルフェノン化合物、α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物及びα−アルコキシアルキルフェノン化合物が挙げられる。

【0222】

前記α−アミノアルキルフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン等が挙げられる。前記α−アミノアルキルフェノン化合物は、イルガキュア（登録商標）３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、及びセイクオール（登録商標）ＢＥＥ（精工化学社製）等の市販品を用いてもよい。

【0223】

前記α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。前記α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物は、イルガキュア１８４、２９５９、１２７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、及びセイクオールＺ（精工化学社製）等の市販品を用いてもよい。

【0224】

前記α−アルコキシアルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。前記α−アルコキシアルキルフェノン化合物は、イルガキュア６５１（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等の市販品を用いてもよい。

【0225】

前記アルキルフェノン化合物としては、α−アミノアルキルフェノン化合物が好ましく、式（Ｃ−１）で表される化合物がより好ましい。本組成物に含まれる光重合開始剤が、これらの化合物であると、得られる光学フィルムの耐熱性及び耐湿熱性に優れる傾向がある。

【0226】

［式（Ｃ−１）中、Ｑ³は、水素原子又はメチル基を表す。］

【0227】

前記ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。

【0228】

前記ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド及び３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。

【0229】

前記オキシム化合物としては、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン及びＮ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−｛２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン等が挙げられる。前記オキシム化合物としては、イルガキュアＯＸＥ−０１、ＯＸＥ−０２（以上、ＢＡＳＦジャパン社製）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。

【0230】

前記光重合開始剤は、前記アセトフェノン化合物、前記ベンゾイン化合物、前記ベンゾフェノン化合物、前記オキシム化合物等を、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも光重合開始剤としてアセトフェノン化合物を用いることが好ましい。前記アセトフェノン化合物の使用量は、光重合開始剤全量に対して、９０質量部以上であることが好ましく、光重合開始剤全量がアセトフェノン化合物であることがより好ましい。

【0231】

本組成物における光重合開始剤の含有量は、本組成物の固形分に対する含有割合で表して、好ましくは０．１質量％〜３０質量％の範囲であり、より好ましくは０．５質量％〜１０質量％の範囲である。上記範囲内であれば、本組成物に含まれる重合性成分を重合する際に、化合物（Ａ）の配向を乱すことをより抑制できる。なお、固形分とは後述する溶剤（有機溶剤）等を含む本組成物から、有機溶媒等の低揮発成分を除いた合計をいう。

【0232】

１−４．有機溶剤
本組成物は、光学フィルム製造の操作性を良好にするために溶剤、特に有機溶剤を含むことが好ましい。有機溶剤としては、（Ａ）［重合性液晶化合物］、化合物（Ｂ）、光重合開始剤等、本組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、さらには化合物（Ａ）等の重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びフェノール等のアルコール系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル系溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素系溶剤；等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。これら有機溶剤の中でも、アルコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系脂肪族炭化水素溶剤及び非塩素系芳香族炭化水素溶剤が好ましい。特に、本組成物を構成する構成成分が相溶性に優れ、アルコール系溶剤、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系脂肪族炭化水素溶剤及び塩素系芳香族炭化水素溶剤等にも溶解し得ることから、クロロホルム等の塩素系溶剤を用いなくとも、適当な基材上に塗布して本光学フィルムを製造できる本組成物を得ることができる。

【0233】

なお、本組成物が有機溶剤を含む場合、その含有量は、固形分１００質量部に対して１０質量部〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは１００質量部〜５０００質量部である。また、本組成物中の固形分濃度は、好ましくは２質量％〜５０質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％である。この固形分の定義は上述のとおりである。

【0234】

また、本組成物は、必要に応じて、光増感剤、レベリング剤及びカイラル剤等の添加剤を含んでいてもよい。以下、本組成物が任意に含むことがある、これらの添加剤について説明する。

【0235】

１−５．光増感剤
光増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントン等のキサントン類；アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンを挙げることができる。
光増感剤を用いることにより、化合物（Ａ）等の重合を高感度化することができる。また、光増感剤の使用量としては、重合性液晶化合物、特に化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

【0236】

１−６．レベリング剤
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤等が挙げられる。具体的には、例えば、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（fluorinert）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３、ＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。これらレベリング剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

【0237】

レベリング剤を用いることにより、得られる光学フィルムをより平滑化することができる。さらに光学フィルムの製造過程で、組成物（Ａ）の流動性を制御したり、化合物（Ａ）等を重合して得られる光学フィルムの架橋密度を調整したりすることができる。またレベリング剤の使用量は、重合性液晶化合物、特に化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．１質量部〜１０質量部である。

【0238】

１−７．カイラル剤
カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）を用いることができる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が挙げられる。
例えば、特開２００７−２６９６４０号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−１７６８７０号公報、特開２００３−１３７８８７号公報、特表２０００−５１５４９６号公報、特開２００７−１６９１７８号公報、特表平９−５０６０８８号公報に記載されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏr（登録商標） ＬＣ７５６が挙げられる。
カイラル剤の使用量は、たとえば化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは１．０質量部〜２５質量部である。上記範囲内であれば、本組成物に含まれる重合性成分を重合する際に、化合物（Ａ）の配向を乱すことをより抑制できる。

【0239】

２．光学フィルム
続いて、本組成物から形成される光学フィルム（本光学フィルム）について説明する。
本光学フィルムは、上述した本組成物に含まれる重合性成分（重合性液晶化合物）を重合してなるものである。本光学フィルムは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムである。光学的な機能とは、屈折、複屈折等を意味する。

【0240】

本光学フィルムの中でも、可視光領域における透明性に優れるものが、様々な表示装置用部材として使用し得るため好ましい。本光学フィルムの厚さは、本光学フィルムの用途のより適宜調節でき、例えば、その位相差値によって適宜調節すればよいが、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ〜５μｍであることがさらに好ましい。

【0241】

表示装置に本光学フィルムを用いる場合、本光学フィルムは単層で用いることもできるし、本光学フィルム複数枚を積層させて積層体としてもよいし、他のフィルムと組み合わせてもよい。他のフィルムと組み合わせて用いることにより、位相差フィルム、視野角補償フィルム、視野角拡大フィルム、反射防止フィルム、偏光フィルム、円偏光フィルム、楕円偏光フィルム及び輝度向上フィルム等に利用することができる。

【0242】

特に、本光学フィルムは、本組成物の（Ａ）として、化合物（Ａ）及び化合物（３）を合わせて用い、両者の配向状態によって光学特性を変化させることにより、ＶＡ（vertical alignment）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＯＣＢ（optically compensated bend）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super twisted nematic）モード等、種々の液晶表示装置用の位相差フィルムとして調整することができる。

【0243】

２−１．位相差フィルム
光学フィルムの一種である位相差フィルムは本光学フィルムの好適な実施態様の一つである。該位相差フィルムは、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したり、直線偏光の偏光方向を変換したりするために用いられる。

【0244】

前記位相差フィルムとしては、面内の遅相軸方向の屈折率をｎ_x、面内の遅相軸と直交する方向（進相軸方向）の屈折率をｎ_y、厚み方向の屈折率をｎ_zとした場合、以下のように分類できることが知られている。すなわち、
ｎ_x＞ｎ_y≒ｎ_zのポジティブＡプレート、
ｎ_x≒ｎ_y＞ｎ_zのネガティブＣプレート、
ｎ_x≒ｎ_y＜ｎ_zのポジティブＣプレート、
ｎ_x≠ｎ_y≠ｎ_zのポジティブＯプレート及びネガティブＯプレート
が挙げられる。

【0245】

前記位相差フィルムの位相差値は、用いられる表示装置により、３０〜３００ｎｍの範囲から適宜選択すればよい。
前記位相差フィルムを広帯域λ／４板として用いる場合は、Ｒｅ（５４９）は１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは１３０〜１５０ｎｍに調整すればよい。広帯域λ／２板として用いる場合は、Ｒｅ（５４９）は２５０〜３００ｎｍ、好ましくは２６５〜２８５ｎｍに調整すればよい。位相差値が前記の値であると、広範の波長の光に対し、一様に偏光変換できる傾向があり、好ましい。ここで、広帯域λ／４板とは、各波長の光に対し、その１／４の位相差値を発現する位相差フィルムであり、広帯域λ／２板とは、各波長の光に対し、その１／２の位相差値を発現する位相差フィルムである。ここでいうＲｅについては後述する。

【0246】

なお、本組成物に含まれる化合物（Ａ）及び化合物（３）の含有量を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調製することができる。得られる位相差フィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（４）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを適宜調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （４）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）

【0247】

２−２．本光学フィルムの製造方法
本光学フィルムは、適当な基材を準備し、該基材上に本組成物を塗布し、乾燥し、本組成物に含まれる重合性成分を重合することにより製造することができる。以下、本光学フィルムの製造方法の一例を説明する。当該重合性成分とは、すでに説明したとおり、化合物（Ａ）であるか、化合物（Ａ）及び化合物（３）の混合物であると好ましい。

【0248】

２−２−０．基材の準備
本光学フィルムの製造に用いることができる基材としては例えば、ガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム、透光性フィルムが好ましい。前記透光性フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム；ポリビニルアルコールフィルム；ポリエチレンテレフタレートフィルム；ポリメタクリル酸エステルフィルム；ポリアクリル酸エステルフィルム；セルロースエステルフィルム；ポリエチレンナフタレートフィルム；ポリカーボネートフィルム；ポリスルフォンフィルム；ポリエーテルスルホンフィルム；ポリエーテルケトンフィルム；ポリフェニレンスルフィドフィルム及びポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。

【0249】

本光学フィルムの製造に用いる基材としては、水酸基を有する材料からなるものが好ましく、水酸基を有する材料からなるフィルムであることがより好ましい。この水酸基を有する材料からなるフィルムは、水酸基を有する材料を成膜して得られるフィルムでもよく、水酸基の前駆基を有する材料を成膜してフィルム（前駆フィルム）にした後、該前駆フィルムに含まれる前駆基を水酸基に改質してもよい。かかる改質には例えば、真空下や大気圧下でのプラズマ処理、レーザー処理、オゾン処理、ケン化処理又は火炎処理等が挙げられる。また、水酸基又はその前駆基を有しない材料からなるフィルムを準備し、このフィルム表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理、水酸基を有するモノマーや水酸基を有するポリマーを表面に付着させた後、放射線、プラズマ、紫外線を照射して反応させるグラフト重合するという方法で得られたものでもよい。この場合は、フィルム表面に水酸基を有する材料を配したものとなるが、このようなフィルムであっても、本明細書では、水酸基を有する材料からなるフィルムということにする。以上のように、水酸基を有する材料からなるフィルム（基材）を用いると、該基材と、本光学フィルムとの間の密着性がより高くなる傾向がある。

【0250】

水酸基を有する材料からなるフィルム（基材）の中でも、トリアセチルセルロースフィルムを、ケン化処理を施すことによって得られるフィルムが好ましい。トリアセチルセルロースフィルムをケン化処理することにより、当該フィルム中のトリアセチルセルロースがケン化され、水酸基を有する材料からなるフィルムを容易に得ることができ、コスト、製造時の取り扱いの点においても特に好ましい。

【0251】

また、本光学フィルムの製造に用いる基材の本光学フィルムを形成する表面には、配向膜が設けられていると好ましい。このようにすると配向膜の配向方向により、本光学フィルム中の（Ａ）重合性液晶化合物を所望の方向に配向させた後、該重合性液晶化合物を重合させることができる。水酸基を有する材料からなる基材を用いる場合には、この基材上に配向膜を設ければよい。なお、この配向膜の詳細については後述する。

【0252】

２−２−１．未重合フィルムの作製
基材上に、本組成物を塗布することにより、該基材上に未重合フィルムが得られる。未重合フィルムがネマチック相等の液晶相を示す場合、モノドメイン配向による複屈折性を有する。

【0253】

本組成物の基材上への塗布方法としては、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰ（キャップ）コーティング法、ダイコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、スピンコーティング法及びバーコーターによる塗布等が挙げられる。中でも、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式で連続的に基材上に本組成物を塗布できる点で、ＣＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法及びバーコーターによる塗布が好ましい。

【0254】

本光学フィルムは、前記基材と積層した状態で取り扱うこともできる。本光学フィルムに前記基材を積層しておくことで、フィルムの運搬、保管等を行う際に、本光学フィルムが破損することが抑制され、容易に取り扱うことができる。

【0255】

上述のように、本光学フィルムを製造する際、基材をそのまま、或いは基材上に配向膜を形成してから、本組成物を塗布することについて述べたが、前記基材上には予め配向膜を形成させておいてから、該配向膜の上に本組成物を塗布することが好ましい。このように配向膜を形成した基材を用いれば、本光学フィルムに対して延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。そのため、フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）の大型化にも対応可能な大きな本光学フィルムを製造できる。

【0256】

配向膜を形成する方法としては、ラビングによって配向規制力が付与される配向性ポリマーを用いる方法（以下、場合により「ラビング法」という）、偏光を照射することにより配向規制力が付与される光配向性ポリマーを用いる方法（以下、場合により「光配向法」という）、基材表面に酸化ケイ素を斜方蒸着する方法、及びラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ法）を用いて長鎖アルキル基を有する単分子膜を形成する方法等が挙げられる。中でも、本組成物に含まれる化合物（Ａ）等の重合性液晶化合物の配向均一性、本光学フィルム製造の処理時間及び処理コストの観点から、光配向法がより好ましい。配向膜としては、その上に本組成物を塗布しても、本組成物に含まれる成分、例えば、本組成物に含まれる溶剤に溶解しない程度の耐溶剤性を有することが好ましい。また、該配向膜には、前記未乾燥フィルムからの溶剤の除去や、（Ａ）重合性液晶化合物（化合物（Ａ）又は、化合物（Ａ）及び化合物（３）の混合物）の液晶配向時の熱処理に対する耐熱性も求められる。

【0257】

配向膜が光配向法によって形成される場合、光配向法に用いられる光配向性ポリマーとしては、感光性構造を有するポリマーが挙げられる。感光性構造を有するポリマーに偏光を照射すると、照射された部分の感光性構造が異性化又は架橋することで光配向性ポリマーが配向し、光配向性ポリマーからなる膜に配向規制力が付与される。上記感光性構造としては、例えば、アゾベンゼン構造、マレイミド構造、カルコン構造、桂皮酸構造、１，２−ビニレン構造、１，２−アセチレン構造、スピロピラン構造、スピロベンゾピラン構造及びフルギド構造等が挙げられる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上併用してもよい。これらのポリマーは、感光性構造を有する単量体を用いて、脱水や脱アミン等による重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等により得ることができる。また、異なる感光性構造を有する単量体を複数種用い、それらの共重合体であってもよい。このような光配向性ポリマーとしては、特許第４４５０２６１号、特許第４０１１６５２号、特開２０１０−４９２３０号公報、特許第４４０４０９０号、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−２３２９３４号公報等に記載される光配向性ポリマーが挙げられる。

【0258】

光配向性ポリマーとしては、中でも、光照射によって架橋構造を形成する膜であることが好ましい。架橋構造を形成するものであれば、本組成物の塗布時に十分な耐久性を確保することができる点で好ましい。

【0259】

基材上に配向膜を形成するためには、上記光配向性ポリマーは、溶剤に溶解した溶液（配向膜形成用組成物）とし、該配向膜形成用組成物を該基材上に塗布する方法が簡便で好ましい。配向膜形成用組成物に用いる溶剤は、該溶剤に溶解させる配向性ポリマー及び光配向性ポリマーの種類等により適宜選択できるが、具体的には、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル又はプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン又はメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン又はキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン又はジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム又はクロロベンゼン等の塩素系溶剤；等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。

【0260】

配向膜形成用組成物から配向膜を形成するためには、上述のように、まず、前記基材上に、該配向膜形成用組成物を塗布する。塗布方法としては、すでに説明した本組成物を基材上に塗布する方法として例示したものと同じ方法が採用できる。この場合も、ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式で連続的に基材上に本組成物を塗布できる方法が商業的生産の点では好ましい。

【0261】

続いて、配向膜形成用組成物を基材上に塗布した塗布膜（配向膜形成用塗布膜）を乾燥して、該配向膜形成用組成物に含まれる溶剤などの低沸点成分を該配向膜形成用塗布膜から除去する。

【0262】

乾燥方法としては、例えば自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥又は減圧乾燥等、或いはこれらを組み合わせた方法が挙げられる。具体的な乾燥温度としては、１０〜２５０℃であることが好ましく、２５〜２００℃であることがさらに好ましい。また乾燥時間としては、用いた配向膜形成用組成物に含まれる溶剤の種類にもよるが、５秒間〜６０分間であることが好ましく、１０秒間〜３０分間であることがより好ましい。乾燥温度及び乾燥時間が上記範囲内であれば、前記の基材のいずれかを用いた場合、該基材に対する損傷を抑制することができる。

【0263】

かくして基材上に形成された配向膜形成用塗布膜に、すでに説明した方法により配向規制力を付与して配向膜を形成する。ここでは、配向規制力を付与する好ましい方法として例示した光配向法について詳述する。

【0264】

光配向法により配向規制力を付与するには、配向膜形成用塗布膜上に、偏光照射（例えば、直線偏光紫外線）を行う。偏光照射は、例えば、特開２００６−３２３０６０号公報に記載される装置を用いて行うことができる。例えば、配向膜形成用塗布膜上で、例えば所望の複数領域に対応したフォトマスクを準備し、当該領域毎にフォトマスクを介しての偏光照射（例えば、直線偏光紫外線）を繰り返し行うことにより、パターン化配向膜を形成することができる。上記フォトマスクとしては、例えば、石英ガラス、ソーダライムガラスまたはポリエステルなどのフィルム上に、遮光パターンを設けたものが挙げられる。遮光パターンで覆われている部分は露光される光が遮断され、覆われていない部分は露光される光が透過される。熱膨張の影響が小さいため、フォトマスクに用いられる基材としては石英ガラスが好ましい。

【0265】

光配向法によってパターン化配向膜を形成することができる。ここではその一例を挙げる。まず、配向膜形成用塗布膜（光配向性ポリマーを含む）に、第１のパターン領域に対応した空隙部を有する第１のフォトマスク（残りの領域は遮光パターンになっている）を介して、第１の偏光方向を有する第１の偏光を照射する（第１の偏光照射）。この第１の偏光照射によって、上記第１のパターン領域の配向規制力の方向を上記第１の偏光方向に対応させる。次いで、第２のパターン領域に対応した空隙部を有する第２のフォトマスク（残りの領域は遮光パターンになっている）を介して、上記第１の偏光方向とは異なる第２の偏光方向（例えば、第１の偏光方向に対して垂直な方向）を有する第２の偏光を照射する（第２の偏光照射）。この第２の偏光照射によって、上記第２のパターン領域の配向規制力の方向を上記第２の偏光方向に対応させる。これにより、互いに配向規制力の方向が異なる複数のパターン領域を有する配向膜が得られる。さらに、３種類以上のフォトマスクを介して偏光照射を繰り返し行うことにより、互いに配向規制力の方向が異なる３つ以上のパターン領域を有するパターン化配向膜を作成することもできる。光配向性ポリマーの反応性の点で、各偏光照射とも、照射する光は紫外線であることが好ましい。

【0266】

かくして基材上に形成される配向膜又はパターン化配向膜の膜厚は、例えば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。このような範囲とすれば、本組成物に含まれる（Ａ）重合性液晶化合物（化合物（Ａ）又は、化合物（Ａ）及び化合物（３）の混合物））を所望の角度に配向させることができる。

【0267】

２−２−２．未重合フィルムの重合
基材上又は配向膜上に形成された前記未重合フィルムに含まれる重合性液晶化合物［化合物（Ａ）、又は、化合物（Ａ）と及び化合物（３）の混合物］を重合し、硬化させることにより、本光学フィルムが得られる。本光学フィルムは、重合性液晶化合物の配向性が固定化されており、熱による複屈折の変化の影響を受けにくい。

【0268】

化合物（Ａ）を、又は、化合物（Ａ）と化合物（３）とを重合させる方法としては、光重合法が好ましい。光重合法によれば、低温で重合を実施できるため、用いる基材の耐熱性の選択幅が広がる。光重合反応は、未重合フィルムに、可視光、紫外光またはレーザー光を照射することにより行われる。取り扱いの点で、紫外光が特に好ましい。

【0269】

基材上又は配向膜上に、本組成物を塗布した形成された未重合フィルムに対し、そのまま光照射を行って、該未重合フィルムを硬化することもできるが、該未重合フィルムを乾燥して、該未重合フィルムから溶剤を除去しておくことが好ましい。
なお、溶剤の除去は、重合反応と並行して行ってもよいが、重合を行う前に、ほとんどの溶剤を除去しておくことが好ましい。その除去方法としては、配向膜の形成方法において乾燥方法として例示したものと同じ方法が採用される。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましく、自然乾燥又は加熱乾燥を行う際の温度は、０℃〜２５０℃の範囲が好ましく、５０℃〜２２０℃の範囲がより好ましく、８０℃〜１７０℃の範囲がさらに好ましい。加熱時間は、１０秒間〜６０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜３０分間である。加熱温度および加熱時間が上記範囲内であれば、基材として、耐熱性が必ずしも十分ではないものを用いることができる。

【0270】

かくして基材上に、好ましくは配向膜を設けた基材（配向膜含有基材）上に本光学フィルムを形成させたものは、位相差性を有する位相差板（以下、場合により「本位相差板」という。）となる。本位相差板は、本光学フィルム使用の好適な実施態様の一つである。該位相差板は、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したり、直線偏光の偏光方向を変換したりするために用いられる。

【0271】

また、化合物（Ａ）等を重合させて、未重合フィルムを硬化させた後、基材を剥離することにより、配向膜と本光学フィルムとが積層されたフィルム（積層フィルム）が得られる。さらに、配向膜を剥離して、単層の本光学フィルムを得ることができる。また、他の基材（フィルム又は板）を、該積層フィルムに貼合しておいてから、本光学フィルムに積層されていた基材や配向膜を剥離することにより、転写を行うこともできる。

【0272】

３．偏光板
本光学フィルムは、例えば偏光板製造に用いることができる。当該偏光板は、上述した本位相差板を少なくとも一つ有するものが好ましい。ここでは、基材／配向膜／本光学フィルムが積層された本位相差板を用いる偏光板の構成について説明する。
この偏光板としては、図１（ａ）〜図１（ｅ）に示すように、（１）本位相差板１と、偏光フィルム層２とが、直接積層された偏光板４ａ（図１（ａ））；（２）本位相差板１と偏光フィルム層２とが、接着剤層３’を介して貼り合わされた偏光板４ｂ（図１（ｂ））；（３）本位相差板１と、本位相差板１’とを積層させ、さらに、本位相差板１’と偏光フィルム層２とを積層させた偏光板４ｃ（図１（ｃ））；（４）本位相差板１と、本位相差板１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本位相差板１’上に偏光フィルム層２を積層させた偏光板４ｄ（図１（ｄ））；及び、（５）本位相差板１と、本位相差板１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本位相差板１’と偏光フィルム層２とを接着剤層３’を介して貼り合せた偏光板４ｅ（図１（ｅ））等が挙げられる。ここで接着剤とは、接着剤及び／又は粘着剤のことを総称するものである。なお、図１の説明では、配向膜を備えた基材、すなわち配向膜含有基材について記したが、当該配向膜含有基材を配向膜が設けられていない基材に置き換えることもできる。

【0273】

前記偏光フィルム層２は、偏光機能を有するフィルムであればよく、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して沃素や二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げられる。

【0274】

また、偏光フィルム層２にはさらに、必要に応じて、保護フィルムとなるフィルムを備えていてもよい。前記保護フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム及びポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。

【0275】

接着剤層３及び接着剤層３’に用いられる接着剤は、透明性が高く耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤あるいはウレタン系接着剤等が用いられる。
また、偏光板においては、図１（ｃ）〜図１（ｅ）に示すように、本光学フィルムを含む２以上の本位相差板を直接または接着剤層を介して貼り合わせてもよい。

【0276】

４．フラットパネル表示装置
本発明のフラットパネル表示装置は、本光学フィルムは、フラットパネル表示装置に係る部材として極めて有用である。例えば、本光学フィルムと、液晶パネルとが貼り合わされた液晶パネルを備える液晶表示装置や、本発明の光学フィルムと、発光層とが貼り合わされた有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」ともいう）パネルを備える有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。本発明のフラットパネル表示装置の実施形態として、液晶表示装置と、有機ＥＬ表示装置とについて、簡単に説明する。

【0277】

４−１．液晶表示装置
液晶表示装置としては、例えば、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すような液晶表示装置等が挙げられる。図２（ａ）に示す液晶表示装置１０ａは、本発明の偏光板４と液晶パネル６とを、接着層５を介して貼り合わせてなるものであり、図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ｂは、本発明の偏光板４と本発明の偏光板４’とを液晶パネル６の両面に接着層５及び接着層５’を介して貼り合わせたものである。上記構成によれば、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶分子の配向が変化し、白黒表示ができる。

【0278】

４−２．有機ＥＬ表示装置
有機ＥＬ表示装置としては、図３に示す有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。上記有機ＥＬ表示装置としては、本発明の偏光板４と、有機ＥＬパネル７とを、接着層５を介して貼り合わせてなる有機ＥＬ表示装置１１が挙げられる。上記有機ＥＬパネル７は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層である。上記構成によれば、図示しない電極を用いて、有機ＥＬパネルに電圧を印加することにより、有機ＥＬパネルが有する発光層に含まれる化合物が発光し、白黒表示ができる。
なお、上記有機ＥＬ表示装置１１において、偏光板４は、広帯域円偏光板として機能するものであることが好ましい。広帯域円偏光板として機能するものであると、有機ＥＬ表示装置１１の表面において外光の反射を防止することができる。

【実施例】

【0279】

以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例によって限定されるものではなく、前・後記の趣旨に適合しうる範囲で適宜変更して実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

【0280】

１．合成例
化合物（Ａ１１−１）は下記のスキームに従って合成した。

【0281】

【0282】

１−１．４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成
４，６−ジメチルサリチルアルデヒド１４６．６ｇ、炭酸カリウム３３０．７ｇをＮ，Ｎ’―ジメチルアセトアミド７００ｍＬ中に分散させた。得られた分散液を８０℃に加温した後、ブロモ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル１９０．５ｇを３０分かけて滴下した。滴下後の混合液を１３０℃で２時間反応させた。反応液を室温まで冷却後、メチルイソブチルケトン６００ｍＬを加えて、純水１２００ｍＬを用いて水洗した。さらに有機層を２回１０００ｍＬの純水で水洗し、有機層を回収した。無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて溶媒を留去した。残渣を酢酸２４０ｇに溶解させて、臭化水素酸水溶液７２ｇを加えて、４０℃で１時間攪拌した。室温まで放冷後、１Ｎ（１ｍｏｌ／Ｌ）−塩酸１５０ｇを加えて析出した白色粉末を濾取した。得られた白色粉末をさらに、１Ｎ−塩酸で洗浄した後、真空乾燥させることにより、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を８１．７ｇ黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルサリチルアルデヒド基準で４４％であった。

【0283】

１−２．化合物（１１−ａ）の合成
４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸８０ｇ、２，５−ジメトキシアニリン９６．６ｇ及びクロロホルム４００ｇを混合した。得られた懸濁液を氷浴にて冷却した後、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩８８．７ｇとクロロホルム３００ｇとの混合液を４時間かけて加えて、室温で４８時間反応させた。得られた混合液を濃縮し、１Ｎ−塩酸、水−メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿物を濾取し、水−メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えた。析出した淡黄色沈殿を濾取し、水−メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１１−ａ）を１２４．２ｇ得た。収率は４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸基準で９１％であった。

【0284】

１−３．化合物（１１−ｂ）の合成
化合物（１１−ａ）１２３ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１２００ｇを混合した。得られた混合液を１１０℃まで昇温した後、同温度で８時間反応させた。室温まで冷却後、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液を用いて洗浄した。有機層を回収し、ｎ−ヘプタン８００ｍＬを加えた。析出した黄色沈殿物を濾取、ｎ−ヘプタンで洗浄、真空乾燥させることにより鮮黄色粉末として化合物（１１−ｂ）を１０９．２ｇ得た。収率は化合物（１１−ａ）基準で８５％であった。

【0285】

１−４．化合物（１１−ｃ）の合成
化合物（１１−ｂ）６０ｇ、水酸化カリウム５３．８ｇ及び水１０００ｇを混合した。得られた混合液を氷冷下で攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム１３３ｇ、メタノール５１ｇを加え、反応させた。さらに、室温で３６時間反応させて、析出した黄色沈殿物を濾取した。濾取した沈殿をｎ−ヘプタン−トルエンの混合溶媒（ｎ−ヘプタン３体積部、トルエン１体積部）で洗浄し、得られた黄色粉末を真空乾燥して、黄色固体として化合物（１１−ｃ）を５１．３ｇ得た。収率は化合物（１１−ｂ）基準で８６％であった。

【0286】

１−５．化合物（１１−ｄ）の合成
化合物（１１−ｃ）４０ｇ及び塩化ピリジニウム４００ｇ（１０倍質量）を混合し、得られた混合物を１８０℃に昇温し、同温度で３時間反応させた。得られた混合液を氷に加え、析出した沈殿物を濾取した。水により懸濁水洗を行った後、トルエンで洗浄、真空乾燥させて、化合物（１１−ｄ）を主成分とする黄色固体３６．６ｇを得た。収率は化合物（１１−ｃ）基準で９９％であった。

【0287】

１−６．「化合物（Ｒ−１ａ）の合成」
化合物（Ｒ−１ａ）は、特開２０１０−３１２２３号公報の段落０２４４を参考に合成した。

【0288】

１−７．化合物（Ａ１１−１）の合成
化合物（１１−ｄ）３５ｇ、化合物（Ｒ−１ａ）９８．８ｇ、ジメチルアミノピリジン１．３７ｇ及びトルエン７００ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ、Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド５５．６ｇを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲルをプレコートした濾材を用いて、濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させ２．３ｇの活性炭を加えて、室温で一時間攪拌した。溶液を濾過して濾液をエバポレータにて体積が１／３になるまで減圧濃縮後、攪拌しながらメタノールを加えて、析出した白色沈殿物を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ１１−１）を白色粉末として７４．５ｇ得た。収率は化合物（１１−ｄ）基準で６０％であった。

【0289】

１−８．化合物（ｉｘ−１）の合成
化合物（ｉｘ−１）は、特開２０１０−３１２２３号公報記載の方法で合成した。

【0290】

１−９．光配向性ポリマー（Ｚ）の合成
光配向性ポリマー（Ｚ）を、Macromol. Chem. Phys. 197,1919-1935 (1996)に記載される方法で製造した。
式（Ｚ−ａ）で示されるモノマーを、得られたモノマー（Ｚ−ａ）１．５部とメタクリル酸メチル０．１部とをテトラヒドロフラン１６部中に溶解させ、６０℃で２４時間反応させた。次いで、反応液を室温まで放冷後、トルエンとメタノールとの混合液中に滴下することで、光配向性ポリマー（Ｚ）を得た。光配向性ポリマー（Ｚ）の数平均分子量は３３０００であった。光配向性ポリマー（Ｚ）において、モノマー（Ｚ−ａ）に由来する構造の含有率は７５ｍｏｌ％であった。

【0291】

【0292】

【0293】

得られた光配向性ポリマー（Ｚ）のポリスチレン換算数平均分子量（Ｍｎ）の測定は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置；ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）
カラム；ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ ＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨ_ＸＬ−Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器；ＲＩ
校正用標準物質；ＴＳＫ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ Ｆ−４０、Ｆ−４、Ｆ−２８８、Ａ−５０００、Ａ−５００

【0294】

２．組成物の調製
実施例１〜３、比較例１
表２に示す各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却して組成物を調製した。

【0295】

【表2】

表２中、光重合開始剤は、Ｉｒｇ３６９（イルガキュア３６９（ＢＡＳＦジャパン社製））、レベリング剤には、ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン製）、溶剤はトルエン及びシクロペンタノンを用いた。また、化合物（１）における、重合性液晶化合物（ＬＣ２４２）はＢＡＳＦ社製で、下記式の化合物である。

【0296】

［光学フィルムの製造例］
ケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム上に式（Ｚ）で示される光配向性ポリマーの５質量％トルエン溶液を塗布し、乾燥後、厚さ３００ｎｍの膜を形成した。続いて、面に対して垂直方向から、偏光ＵＶ照射冶具付きスポットキュア（ＳＰ−７、ウシオ電機（株）製）を用いて、照度１５ｍＷ／ｃｍ^２で５分間直線偏光を照射（偏光ＵＶ照射）した。偏光ＵＶ照射を施した面に、表１の組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１３０℃に加熱し、液晶相に配向させた膜を得た。その後、室温まで冷却した状態で紫外線をユニキュア（ＶＢ―15201ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて波長３６５ｎｍにおいて４０ｍＷ／ｃｍ^２の照度で１分間照射することにより、光学フィルムを作製した。

【0297】

［密着性評価］
ＪＩＳ−Ｋ５６００に則り、コーテック株式会社製クロスカットガイドＩシリーズ（ＣＣＩ−１、１ｍｍ間隔、２５マス用）を用いて剥離耐性を評価した。剥離試験後、本光学フィルムの残存数をカウントした結果を表３に示す。

【0298】

［光学特性の測定］
実施例１〜３及び比較例１で作成したフィルムの位相差値を測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）により測定した。位相差値Ｒｅ（λ）は、波長（λ）５４９ｎｍにおいて測定した。結果を表３に示す。

【0299】

【表3】

【0300】

本組成物（組成物１〜３）を用いた実施例１〜３の本光学フィルムは密着性に優れることが確認された。

【符号の説明】

【0301】

１、１’、１２：本位相差板、
２、２’：偏光フィルム層、
３、３’：接着剤層、
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４、４’：本発明の偏光板（本光学フィルムを有する偏光板）、
５、５’：接着層、
６：液晶パネル、
７：有機ＥＬパネル、
１０ａ、１０ｂ：液晶表示装置、
１１：有機ＥＬ表示装置、

【図1】

【図2】

【図3】