【課題を解決するための手段】
【0012】
本発明者等は、上記課題を解決するアンモニア改質触媒を見出すべく、まず、触媒金属の種類とその担持量及び担持状態から検討を行った。触媒金属の種類は、触媒が作用する反応の種類に影響を及ぼす。ここで、アンモニア改質においては、次式のアンモニアの直接分解反応により窒素と水素からなる改質ガスを生成するのが基本である。
【0013】
・2NH
3→N
2+3H
2・・・式(1)
【0014】
上記のアンモニアの直接分解は吸熱反応である。従って、反応継続のためには熱エネルギーの付加が必要であるが、これはエネルギー効率の観点から好ましいものではない。そこで、上記分解反応に加えて、発熱反応となるアンモニア分解反応を組合せ、その自己発熱により外部からの熱エネルー供給を不要とするのが合理的である。本発明者等は、触媒金属と生じ得るアンモニア分解反応との関係を検討した結果、ロジウム(Rh)を触媒金属とすることで、下記式(2)の発熱反応による複合的作用が利用できるとした。
【0015】
・8NH
3+3O
2→4N
2+6H
2+6H
2O・・・式(2)
【0016】
ここで、本発明者等によると、触媒金属について、白金やパラジウムを触媒金属とした場合、下記式(3)の反応に対して活性を発揮する傾向がある。これらのアンモニア分解反応は、発熱反応ではあるがNOxを生成することから環境問題の観点から除外される。
【0017】
・8NH
3+5O
2→3N
2+6H
2+6H
2O+2NO
2・・・式(3)
【0018】
これに対し、ロジウムが活性を有する上記式(2)の反応では、生成するのは窒素、水素、水でありNOxの発生は無いことから最も好適な触媒金属といえる。尚、本発明者等によると、ルテニウムにもロジウムと同様、上記反応に対して高活性を有するものの、ルテニウムは高温となった場合に揮発性のルテニウム酸化物を形成するため、耐久性の観点から好ましくない。
【0019】
以上のように触媒金属としてロジウムを選定し、次に、ロジウムの担持量と担持状態について検討した。ここで、担持状態とは触媒金属粒子のサイズ(粒径)と粒子数及び粒子間の距離により定められることから、担持量と担持状態との間には密接な関連がある。本発明者等は、触媒の製造方法の段階から検討を行い、ロジウムを触媒金属とする触媒を種々試作してその活性を評価し、アンモニア分解反応におけるロジウムの状態を推察しつつ、その好適な担持状態を検討した結果、以下の知見を得た。
【0020】
(I)アンモニア分解反応中の活性温度域におけるロジウムは、メタル状態(金属状態)のロジウムではなく酸化状態にある。
(II)担体上のロジウム粒子が、アンモニア分解反応で酸化状態になるためには、粒子径が極めて微細であることが必要である。粗大なロジウム粒子は、反応雰囲気(酸化雰囲気)下でもメタル状態を維持し反応に寄与し難い。
(III)微細なロジウム粒子がその粒径を維持するためには、粒子間距離が大きくとられている必要がある。粒子間距離が小さい場合、高温下でロジウム粒子が凝集して粗大化し、酸化し難く比活性の低いメタル状態のロジウムとなる。
【0021】
上記(I)〜(III)の知見から、アンモニア改質触媒として好適な構成としては、相互に十分な粒子間距離をもって分散した高分散な状態にある微細なロジウム粒子の割合が高いことが必要である。
【0022】
ここで本発明者等は、上記のような好適な分散状態を有する微細なロジウム粒子を定義すべく更なる検討を行った。その結果、上記の微細なロジウム粒子の担持割合が高い触媒においては、一旦酸化状態にした後に、200℃以下の比較的低温の水素ガス雰囲気に晒したときに特異な酸素放出特性を有することを見出した。
【0023】
上記のように、微細かつ高分散な担持状態にあるロジウム粒子は、酸化雰囲気で酸化ロジウムとなる。本発明者等によれば、この酸化ロジウムは、水素雰囲気に晒されると酸素を放出し、メタル状態に戻るという特性がある。そして、この酸化ロジウムからの酸素放出が生じるとき、同時に担体からの酸素放出がみられる。即ち、好適な触媒においては、酸化状態から水素雰囲気にすると、酸化ロジウムからの酸素放出と担体からの酸素放出という想定外の多量の酸素が放出される。本発明者等は、この検討結果から、好適なアンモニア改質触媒を規定するにあたり、上記の酸化状態から水素雰囲気にしたときの酸素放出量を明確にすることが好適であるとして本発明に想到した。
【0024】
即ち、本発明は、支持体と前記支持体上に形成される触媒層とからなるアンモニアから改質ガスを生成するためのアンモニア改質触媒において、前記触媒層は、無機酸化物からなる担体と、前記担体上に担持されたロジウムからなり、ロジウム担持量が支持体の体積基準で2g/L以下であり、酸化状態とした後に、200℃以下の水素ガス雰囲気に暴露したときの酸素放出量がロジウム1mol当たり75mol以上であることを特徴とするアンモニア改質触媒である。
【0025】
以下、本発明についてより詳細に説明する。上記の通り、本発明に係るアンモニア改質触媒は、ロジウム担持量を制限すると共に、酸化状態から水素雰囲気にしたときの酸素放出量を規定するものである。以下、それぞれの構成について詳細に説明する。
【0026】
まず、本発明に係るアンモニア改質触媒は、ロジウム担持量について支持体の体積基準で2g/Lとする。このようにロジウム担持量の上限を設定するのは、好適なロジウム粒子の分散状態を発現させるためには担持量が多すぎることは好ましくないからである。上述の通り、ロジウム担持量と分散状態との間には密接な関連があるが、ロジウム量が多すぎる場合、微小粒径のロジウム粒子を形成することが難しくなる。また、仮にロジウム粒子を微小にすることができても、その分、粒子数が増大し粒子間距離は小さくなる。このようなバランスの元、ロジウム担持量を制限することで、ロジウム粒子を微小とすると共に、相互に離隔して担持させることとしている。尚、ロジウム担持量の下限としては、活性を発揮させるため、0.05g/L以上とすることが好ましい。
【0027】
本発明は、酸化状態から200℃以下の水素ガス雰囲気にしたときの触媒からの酸素放出量を規定するものである。この酸素放出量は、担持されたロジウム粒子のうち、その雰囲気に応じて酸化・水素放出をするロジウム粒子からの酸素放出量と、ロジウム粒子からの酸素放出に伴い担体から放出される酸素量との合計量である。
【0028】
本発明に係るアンモニア改質触媒は、ロジウム1molあたりの酸素放出量を75mol以上とする。75mol未満の場合、これまで述べたように、好適な触媒粒子の割合が低いことを意味し、アンモニア分解率に乏しいものとなるからである。この酸素放出量は高い方が好ましく、酸素放出量100mol以上が好ましい。また、この上限については、特に限定されるものではないが、上記の通り制限されたロジウム担持量を考慮すると140molが上限になると予測される。尚、上記の通り、酸素放出量の基準はロジウム量(mol)であり、これは触媒層における全てのロジウム担持量を示す。また、この酸素放出量は、飽和的な酸素放出量であり、触媒を200℃以下の水素ガス雰囲気に5分以上曝露したときの酸素放出量である。この曝露温度は、固定された状態でも良いが、200℃以下の範囲で連続的或いは段階的に温度変化させたものでも良い。
【0029】
ここで、酸素放出量測定のための原理について説明する。
図1は、本発明に係るアンモニア改質触媒を酸化状態にしたときと、これを水素ガス雰囲気に暴露したときの挙動を説明するための模式図である。
図1(a)において、製造後の触媒は、担体表面に金属状態のロジウムが分散する。この触媒においては、全てのロジウム粒子が好適な微小状態にあるわけではなく、部分的に粗大粒子も担持されている。この触媒が酸化すると、微小なロジウム粒子は酸化して酸化ロジウム(Rh
2O
3)となるが、粗大粒子は金属状態を維持する。この酸化処理の結果、酸化ロジウムと金属ロジウムが担体上で混在した状態となる。尚、触媒の酸化状態は、触媒を650〜750℃の酸化雰囲気(例えば、酸素含有ガス(大気、酸素))にすることで再現できる。
【0030】
そして、本発明に係るアンモニア改質触媒は、酸化処理後に200℃以下の比較的低温の水素ガス雰囲気(還元雰囲気)に曝露されたとき、
図1(b)のように、微小な酸化ロジウム粒子から酸素が放出され、担体から酸素が大量に放出される。このとき放出された酸素は、水素と反応し水を生成するが、この水素消費量を測定することで、触媒からの酸素放出量を算出する事ができる。ロジウムの分散性が高ければ高いほど微小ロジウム粒子の割合が高いため、酸素放出量(水素消費量)は比例して大きくなり、その度合いからアンモニア改質活性を予測することができる。
【0031】
ここで、
図1(b)の水素ガス雰囲気下における酸素放出(水素消費)の現象は、200℃以下の特定の温度でのみ生じるものではなく、200℃以下の温度域で累積的に生じるものである。
図2は、酸化処理後の本発明に係るアンモニア改質触媒を、水素ガス雰囲気中で50℃以下から200℃を経過して、更に200℃以上に加熱したときの水素消費速度を模式的に示したものである。
図2のように、本発明に係るアンモニア改質触媒では、水素ガス雰囲気温度が200℃以下で水素消費速度のピークが見られる。そして、この温度域でロジウム酸化物粒子からの酸素放出、及び、ロジウムによる担体からの酸素放出が完了する。水素消費量は、このピーク部分の積分値として算出でき、水素消費量[mol]/(Rh担持量[g]/Rh分子量)の式から、ロジウム1molあたりの水素消費量が算出できる。そして、ロジウム1molあたりの水素消費量から、ロジウム1molあたりの酸素放出量を算出できる。尚、この処理における水素消費量を測定するときの温度の低温側端点は、50℃に設定するのが好ましい。50℃未満でも水素放出は生じると考えられるが、極めてわずかな量であり、測定の便宜を考慮すると50℃を端点とするのが好ましいからである。また、このようにして水素消費量(酸素放出量)を算出するときの昇温速度は、1〜40℃/minとするのが好ましい。
【0032】
本発明に係るアンモニア改質触媒においては、触媒金属であるロジウム粒子の担持状態を最適にするものであるが、担体である無機酸化物に関しても一定の制限を加えることが好ましい。本発明者等によれば、無機酸化物担体にロジウムを担持するアンモニア改質触媒は、水素吸着能を有する。この水素吸着能は、担体となる無機酸化物の種類によって相違する。本発明者等の検討によれば、アンモニア分解反応の活性と水素吸着量との間については相関がある。その理由については必ずしも明確ではないが、水素吸着量を一定以上とすることで触媒活性の上昇がみられる。
【0033】
本発明では、Rh1g当たりの水素吸着量として5〜38.8mmol/Rh・gとするのが好ましい。水素吸着量として5mmol/Rh・g未満のものは、アンモニア分解反応の活性が低い。一方、水素吸着量の上限については、Rh1gに吸着可能な水素吸着量の理論値(38.8mmol)を考慮するものである。より好ましい水素吸着量は、6〜38mmol/Rh・gである。尚、水素吸着量の測定方法としては、予め、水素吸着させた触媒を不活性ガス雰囲気でパージして触媒表面に吸着している水素を除去し、その後、水素を再導入して排出された水素の水素減量に基づき測定できる。
【0034】
好ましい無機酸化物担体の具体的な例としては、セリウム、プラセオジム、ランタンの少なくともいずれかの酸化物を含む無機酸化物や、アルミナ、ジルコニアからなる無機酸化物である。特に、セリウム、プラセオジム、ランタンの酸化物は、酸素吸蔵放出能を有することが知られており、その作用によりロジウム粒子の酸化能力を好適なものとする。また、これらの担体にロジウム粒子を担持した触媒は水素吸着量も良好である。その結果、好適な触媒活性を有する。
【0035】
尚、無機酸化物担体の好適な量は、支持体の体積基準で40〜160g/Lとするのがこのましい。40g/L未満では、無機酸化物担体の量が少なすぎると反応ガスとの接触面積が少なく性能が低下する。また、160g/Lを超えると、無機酸化物担体の量が多すぎると積層部分が形成され反応ガスと接触できず性能が低下してしまうためである。
【0036】
本発明に係るアンモニア改質触媒は、担体と触媒金属とからなる触媒層が適宜の支持体上に形成されてなるものである。この支持体としては、セラミックハニカム、メタルハニカム等の構造体、セラミック、不織布、メタルからなるフィルター等が挙げられる。
【0037】
以上説明したように本発明に係るアンモニア改質触媒は、ロジウム粒子の分散状態を適切にしたことでアンモニアの分解率に優れる。また、耐久性にも優れ、繰り返しの反応による活性低下も低減されている。本発明は、アンモニア改質ガスを適用する内燃機関の他、アンモニアからの水素製造においても有効性を有する。
【0038】
次に、本発明に係るアンモニア改質触媒の製造方法について説明する。本発明に係るアンモニア改質触媒は、無機酸化物担体と触媒金属であるロジウムとからなる触媒層が支持体に形成されたものであり、かかる構成の触媒の製造方法としては、無機酸化物のゾル溶液を支持体に塗布、焼成し、その後にロジウム化合物溶液を含浸させ、これを還元処理及び適宜に熱処理して触媒層を形成する方法が一般的である。一方、本発明では、ロジウムが担体に対して高分散な状態で担持されていることが要求されるものであり、上記従来の製造方法からはロジウムの分散状態の観点から好適な触媒を製造することが困難である。
【0039】
本発明者等は、触媒層の形成方法に関して、ロジウムの分散性をより良好なものとする方法を見出している。この方法は、予め無機酸化物にロジウムを担持し、このロジウムが担持された無機酸化物をゾル溶液として支持体に塗布するものである。そして、この無機酸化物へのロジウム担持の工程について、一度に目的量のロジウムを担持するのではなく、複数回に分割して繰り返し行うこととする。
【0040】
即ち、本発明に係るアンモニア改質触媒の製造方法は、支持体に、ロジウムが担持された無機酸化物粉末を含むゾル溶液を塗布することにより触媒層を形成する工程を含み、前記ゾル溶液の製造工程は、下記工程からなるものである。
【0041】
(a)工程:無機酸化物粉末に、その質量基準で0.03質量%以下のロジウムを含有するロジウム化合物溶液を含浸させる工程。
(b)工程:焼成工程。
(c)工程:(a)工程及び(b)工程を、無機酸化物粉末へのロジウム担持量が、目標量のロジウム量に達するまで繰り返す工程。
(d)工程:ロジウムが担持された無機酸化物粉末をゾル化する工程。
【0042】
担体となる無機酸化物にロジウムを分割して担持させるのは、少量ずつのロジウム化合物溶液を含浸させて焼成させた方がロジウム粒子を微細にして高分散状態を得ることができるからである。このとき、1回の担持のために供給するロジウムは、無機酸化物粉末の質量基準で0.03質量%以下とし、当該量のロジウムを含むロジウム化合物溶液を使用する。1回当たりのロジウム担持量を無機酸化物粉末の質量基準で0.03質量%以下とするのは、これを超える量のロジウムを担持させると目標となる分散状態を得ることが難しくなるからである。1回当たりのロジウム担持量の下限は、特に限定されないが、この量が少なくな過ぎると担持及び焼成の繰り返し数が増大することから、製造効率を考慮すれば、無機酸化物粉末の質量基準で0.01質量%以上とするのが好ましい。各回のロジウム担持量は均等であっても良いし、相違していても良いが均等量が好ましい。
【0043】
また、(a)工程で含浸させるロジウム化合物溶液は、その液量が無機酸化物粉末に対する飽和吸水量の0.7倍以上であるものが好ましい。無機酸化物上でロジウムを均一に分散・担持させるためである。好ましくは、飽和吸水量に略等しい(略1倍)の液量とする。
【0044】
(b)工程であるロジウム化合物溶液を含浸させた後に行う焼成工程については、400〜800℃で加熱処理する。この処理は大気中で行うことができる。そして、ロジウム化合物溶液の含浸工程と焼成工程について、担持量が目標量のロジウム量に達するまで繰り返し行う。
【0045】
ロジウム化合物溶液を含浸工程と焼成工程は、ロジウム担持量が目標量になるまで繰り返す((c)工程)。ここで、目標担持量は、触媒設計の段階で、使用する支持体の体積を基に、上述したロジウム担持量の範囲内(2g/L以下)で設定される。また、繰返しの回数は、同じく触媒設計の段階で設定される無機酸化物の使用量(好適には40〜160g/L)、及び、ロジウム化合物溶液のロジウム濃度に応じて設定することができる。
【0046】
目標量のロジウムが担持された無機酸化物は、適宜の溶媒(好ましくは水)に分散させることでゾル化することができる。尚、このゾル化の前に無機酸化物粉末を粉砕するのが好ましく、これにより更に均一なゾル溶液を得ることができる。
【0047】
支持体へのゾル溶液の塗布は、吹付け、浸漬いずれによっても良い。また、ゾル溶液塗布後は、適宜に乾燥処理を行う。必要に応じて熱処理(水素還元処理)を行っても良い。