特許6027798荷電粒子ビーム描画装置及び多重描画用の荷電粒子ビームの照射時間振り分け方法

発明の名称　荷電粒子ビーム描画装置及び多重描画用の荷電粒子ビームの照射時間振り分け方法

出願人　株式会社ニューフレアテクノロジー　（識別番号 504162958）

　　　　特許公開件数ランキング 412 位（25件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 673 位（10件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6027798

公報発行日　2016年11月16

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6027798

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