【図1】本発明の実施の形態に関わる液処理モジュールを備えた基板処理装置の横断平面図である。

【図2】ウエハを支持する支持部の洗浄機構を備えた液処理モジュールの縦断側面図である。

【図3】前記液処理モジュールの横断平面図である。

【図4】前記支持部を備えた搬送アームの平面図である。

【図5】前記支持部の洗浄機構の側面図である。

【図6】前記液処理モジュールの第１の動作説明図である。

【図7】前記液処理モジュールの第２の動作説明図である。

【図8】前記洗浄機構の第１の動作説明図である。

【図9】前記洗浄機構の第２の動作説明図である。

【図10】前記洗浄機構の第３の動作説明図である。

【図11】前記洗浄機構の他の構成例を示す側面図である。

【図12】第２の実施の形態に関わる液処理モジュールの縦断側面図である。

【図13】前記液処理モジュールに設けられている囲み部材の構成例を示す説明図である。

【図14】前記囲み部材の他の構成例を示す説明図である。

【図15】第２の実施の形態に関わる液処理モジュールの他の例を示す縦断側面図である。

【図16】ＵＶランプを用いた洗浄機構の構成例を示す側面図である。