特許6051919IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

回転する基板へ供給された処理液を基板から排出する技術

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、液処理が行われた基板への処理液の再付着を防止することが可能な液処理装置、液処理方法及びこの方法を記憶した記憶媒体を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明に係る液処理装置は、半導体ウエハである基板を水平に保持するための基板保持部と、 この基板保持部を鉛直軸周りに回転させるための回転駆動部と、 回転する基板に処理液を供給する処理液供給部と、 前記基板保持部と共に回転し、当該基板保持部に保持された基板を囲み、且つ、互いに隙間を介して上下に重なり、基板から振り切られた処理液を案内する上側ガイドリング及び下側ガイドリングと、 前・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明は、回転する基板の周囲に上側ガイドリング及び下側ガイドリングを上下に配置し、回転する基板から側方へ向けて気流及び処理液を案内するので、基板から離れた位置に処理液が排出され、当該処理液がミストとなって基板に再付着することを抑えることができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】実施の形態に係わる液処理装置の縦断側面図である。

【図2】前記液処理装置の平面図である。

【図3】ウエハ及びこれを囲むガイドリングの平面図である。

【図4】前記回転カップ、上側ガイドリング及び下側ガイドリングの配置位置を示す縦断側面図である。

【図5】前記上側ガイドリング及び下側ガイドリングの作用を示す縦断側面図である。

【図6】他の実施の形態に係わるガイドリングの縦断側面図である。

【図7】さらに他の実施の形態に係わるガイドリングの縦断側面図である。

【図8】第2の液処理装置の縦断側面図である。

【図9】前記第2の液処理装置の平面図である。

【図10】前記第2の液処理装置に設けられている回転カップの昇降機構を示す第1の説明図である。

【図11】前記回転カップの昇降機構を示す第2の説明図である。

【図12】第3の液処理装置の縦断側面図である。

【図13】前記第3の液処理装置に設けられている円錐蓋の昇降機構を示す第1の説明図である。

【図14】前記円錐蓋の第2の説明図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

W ウエハ   144 円錐蓋   21 支持プレート   24 液供給部   411 液ノズル   412 IPAノズル   51、51a   回転カップ   510 開口部   52 上側ガイドリング   53 下側ガイドリング   7 制御部

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