【図1】図１は、第１の基板洗浄システムの概略構成を示す模式図である。

【図2A】図２Ａは、基板洗浄方法の説明図である。

【図2B】図２Ｂは、基板洗浄方法の説明図である。

【図2C】図２Ｃは、基板洗浄方法の説明図である。

【図3】図３は、第１の基板洗浄装置の構成を示す模式図である。

【図4】図４は、基板洗浄装置が実行する基板洗浄処理の処理手順を示すフローチャートである。

【図5A】図５Ａは、基板洗浄装置の動作説明図である。

【図5B】図５Ｂは、基板洗浄装置の動作説明図である。

【図5C】図５Ｃは、基板洗浄装置の動作説明図である。

【図5D】図５Ｄは、基板洗浄装置の動作説明図である。

【図5E】図５Ｅは、基板洗浄装置の動作説明図である。

【図5F】図５Ｆは、基板洗浄装置の動作説明図である。

【図6】図６は、第２の基板洗浄装置の構成を示す模式図である。

【図7】図７は、第３の基板洗浄装置の構成を示す模式図である。

【図8】図８は、第３の基板洗浄装置の動作説明図である。

【図9】図９は、第４の基板洗浄装置の構成を示す模式図である。

【図10A】図１０Ａは、第５の回転保持機構の構成を示す模式図である。

【図10B】図１０Ｂは、第５の回転保持機構の構成を示す模式図である。

【図11A】図１１Ａは、ウェハの持ち替えタイミングを示す図である。

【図11B】図１１Ｂは、ウェハの持ち替えタイミングの他の例を示す図である。

【図12A】図１２Ａは、本洗浄方法と２流体洗浄との比較条件の説明図である。

【図12B】図１２Ｂは、本洗浄方法と２流体洗浄との比較条件の説明図である。

【図13】図１３は、本洗浄方法と２流体洗浄との比較結果を示す図である。

【図14】図１４は、本洗浄方法と薬液洗浄との比較結果を示す図である。

【図15】図１５は、本洗浄方法と薬液洗浄との比較結果を示す図である。