特許6065862パターン形成方法、レジスト組成物、高分子化合物及び単量体

発明の名称　パターン形成方法、レジスト組成物、高分子化合物及び単量体

出願人　信越化学工業株式会社　（識別番号 2060）

　　　　特許公開件数ランキング 65 位（396件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 64 位（380件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6065862

公報発行日　2017年1月25

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6065862

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