特許 6115309 化学処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6115309

(24)【登録日】2017年3月31日

(45)【発行日】2017年4月19日

(54)【発明の名称】化学処理装置

(51)【国際特許分類】

   C25D 17/00 20060101AFI20170410BHJP

   C25D 17/06 20060101ALI20170410BHJP

   C25D 21/12 20060101ALI20170410BHJP

   H05K 3/18 20060101ALI20170410BHJP

【ＦＩ】

   C25D17/00 G

   C25D17/06 H

   C25D17/06 E

   C25D21/12 A

   H05K3/18 N

【請求項の数】7

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2013-108029(P2013-108029)

(22)【出願日】2013年5月22日

(65)【公開番号】特開2014-227572(P2014-227572A)

(43)【公開日】2014年12月8日

【審査請求日】2015年4月6日

(73)【特許権者】

【識別番号】000183303

【氏名又は名称】住友金属鉱山株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100107766

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠重

(74)【代理人】

【識別番号】100070150

【弁理士】

【氏名又は名称】伊東 忠彦

(72)【発明者】

【氏名】長野 晋作

【審査官】 祢屋 健太郎

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１３−０７２１３１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−２５１１８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−１８０４２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０７−１５０３９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−０９５９６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−２７０１８６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭５２−０４３７００（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開平０６−１１６７９３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ２５Ｄ １７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

連続した長尺シート状のワークの表面に電気化学的処理を施す化学処理装置であって、
化学処理液を貯留可能であり、対向する側面にスリット状の前記ワークの入口と出口を有する化学処理槽と、
前記ワークの面を鉛直方向とし、前記ワークの上端を挟持して前記ワークを前記化学処理槽内の前記化学処理液に浸漬させながら搬送する搬送機構と、
前記化学処理槽内の長手方向に沿って、前記化学処理槽の前記入口からの距離に応じて分割して配置された複数の電極と、
該複数の電極毎に対応して設けられ、前記複数の電極毎に独立して前記ワークへの電気化学的処理を制御可能な複数の整流器と、を有し、
隣接する前記複数の電極同士の間には、前記化学処理槽内の内側面から内側に向かって延び、前記化学処理槽内を前記長手方向において複数の領域に分割するとともに、前記ワークを通過させる穴を有する仕切板が設けられ、
前記複数の整流器は、前記電気化学的処理を、前記複数の電極に供給する電流の電流密度の大きさで制御し、
前記複数の整流器から前記複数の電極に供給される前記電流の電流密度は、少なくとも３段階以上で前記入口から前記出口に向かうに従って大きく設定されている化学処理装置。

【請求項2】

前記電気化学的処理は、電気めっき処理である請求項１に記載の化学処理装置。

【請求項3】

前記複数の電極は、前記化学処理槽の対向する内側面に沿って、前記ワークを挟むように対向して設けられた請求項１又は２に記載の化学処理装置。

【請求項4】

前記複数の電極及び前記複数の整流器は、各々４つ以上設けられている請求項１乃至３のいずれか一項に記載の化学処理装置。

【請求項5】

前記搬送機構は、前記ワークの上端をクランプ手段により挟持し、
前記整流器は、前記クランプ手段を介して前記ワークへの通電を行う請求項１乃至４のいずれか一項に記載の化学処理装置。

【請求項6】

前記搬送機構は、更に前記ワークの下端を挟持して前記ワークを搬送する請求項１乃至５のいずれか一項に記載の化学処理装置。

【請求項7】

前記複数の電極は、アノードである請求項２に記載の化学処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、化学処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、液晶テレビ、携帯電話等の電子機器には可撓性のある絶縁性基板上に配線回路を形成したいわゆるフレキシブル回路基板が用いられることが多くなってきている。

【0003】

従来から、そのようなフレキシブル回路基板の製造に用いられるめっき装置として、ワークの面を垂直方向とし、ワークの上端を挟持して搬送するとともに給電を行うめっき装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

【0004】

図１は、上述の従来のめっき装置の一例を示した上面図である。図１に示す従来のめっき装置は、リールに巻かれた、表面に金属薄膜を形成したワーク（長尺シート状の被めっき材料）２１０を供給するためのワーク供給装置２２０と、そのワーク２１０をリールに巻き取るワーク巻取り装置２２１との間に、ワーク２１０にめっきを施すための前処理槽２３０、めっき槽２４０、後処理槽２９０を直線状に配置、構成した装置である。かかる従来のめっき装置においては、クランプを備えたエンドレスベルト３４０をプーリー３３０、３３１で回転させ、前処理槽２３０、めっき槽２４０、後処理槽２９０の各槽上部でワーク２１０の上端をクランプで挟持して給電し、ワーク２１０の面を垂直方向としてワーク供給装置２２０からワーク巻取り装置２２１へワーク２１０を連続的に搬送しながらめっきを行う。

【0005】

図１に示す構成のめっき装置によれば、ワーク２１０に供給する電流の電流密度を均一、且つ高くすることができるとともに、めっき槽を長くして１槽とすることが可能となり、ワークに大きな張力を加えることなく長尺シート状のワーク２１０にめっきを施すことができる。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0006】

【特許文献1】特開２００６−１９３７９４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0007】

しかしながら、上述の図１に示しためっき装置であっても、さらに生産性を向上させようとして、めっき電流密度を高くすると、上端の給電部近傍の金属薄膜が溶解してしまうため、生産性の向上が困難であるという課題があった。

【0008】

そこで、本発明は、生産性向上に優れた化学処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0009】

上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る化学処理装置は、連続した長尺シート状のワークの表面に電気化学的処理を施す化学処理装置であって、
化学処理液を貯留可能であり、対向する側面にスリット状の前記ワークの入口と出口を有する化学処理槽と、
前記ワークの面を垂直方向とし、前記ワークの上端を挟持して前記ワークを前記化学処理槽内の前記化学処理液に浸漬させながら搬送する搬送機構と、
前記化学処理槽内の長手方向に沿って、前記化学処理槽の前記入口からの距離に応じて分割して配置された複数の電極と、
該複数の電極毎に対応して設けられ、前記複数の電極毎に独立して前記ワークへの電気化学的処理を制御可能な複数の整流器と、を有し、
隣接する前記複数の電極同士の間には、前記化学処理槽内の内側面から内側に向かって延び、前記化学処理槽内を前記長手方向において複数の領域に分割するとともに、前記ワークを通過させる穴を有する仕切板が設けられ、
前記複数の整流器は、前記電気化学的処理を、前記複数の電極に供給する電流の電流密度の大きさで制御し、
前記複数の整流器から前記複数の電極に供給される前記電流の電流密度は、少なくとも３段階以上で前記入口から前記出口に向かうに従って大きく設定されている。

【発明の効果】

【0010】

本発明によれば、電気化学的処理時の平均電流密度を高くすることができ、電気化学的処理の生産性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】上述の従来のめっき装置の一例を示した上面図である。

【図2】本発明の実施形態に係る化学処理装置の一例を示した斜視図である。

【図3】本実施形態に係る化学処理装置の化学処理槽の一例を示した平面図である。

【図4】安定して流せる電流密度とめっき厚の関係を示した図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。

【0013】

図２は、本発明の実施形態に係る化学処理装置の一例を示した斜視図である。図２において、本実施形態に係る化学処理装置は、ワーク供給装置２０と、ワーク巻き取り装置２１と、前処理槽３０と、めっき槽４０と、後処理槽９０と、めっき剥離槽１００と、水平ローラー１１０、１１１と、搬送方向変更ローラー１２０、１２１と、プーリー１３０、１３１と、エンドレスベルト１４０と、クランプ１４１と、低張力加熱処理装置１６０とを有する。なお、プーリー１３０，１３１、エンドレスベルト１４０及びクランプ１４１は、搬送機構１５０を構成する。また、めっき槽４０は、側面４１、４２、４３、４４を有し、側面４１には入口４５が形成され、側面４２には出口４６が形成されている。また、図２において、被処理対象であるワーク１０が示されている。

【0014】

ワーク１０は、長尺状又はシート状の被処理対象物であり、種々の材料から構成されてよい。例えば、ワーク１０は、樹脂材料で構成されてもよい。ワーク１０は、シート状の薄く細長い形状を有するので、例えば、巻き取られた状態で供給される。

【0015】

ワーク１０の表面には、金属薄膜からなるシード層が形成されていてもよい。本実施形態に係る化学処理装置においては、めっき槽４０で電気めっき処理を行う例を挙げて説明するが、電気めっき処理を行う場合には、ワーク１０をカソードとして通電することが必要なため、ワーク１０は、通電可能なように、表面に導電体からなるシード層が形成されていてよい。なお、ワーク１０の被処理面が片面の場合には、片面のみシード層が形成されていればよいが、両面が被処理面である場合には、両面にシード層が形成されたワーク１０を用いる。

【0016】

ワーク供給装置２０は、ワーク１０を化学処理装置で行われる化学処理ラインに供給するための供給手段であり、円筒状に巻き取られた状態のワーク１０を回転により送り出すようにして供給してよい。

【0017】

ワーク巻き取り装置２１は、化学処理装置による化学処理が終了したワーク１０を巻き取るための回収手段であり、ワーク供給装置２０とは逆に、ワーク１０を円筒状に巻き取るようにして回収してよい。

【0018】

水平ローラー１１０、１１１は、ワーク供給装置２０及びワーク巻き取り装置２１の巻き出しローラー及び巻き取りローラーが水平に設置されている場合に、ワーク１０を水平に送り出すために水平に設置されたローラーである。

【0019】

搬送方向変更ローラー１２０、１２１は、水平ローラー１１０、１１１による水平方向でのワーク１０の搬送と、搬送機構１５０による垂直方向（鉛直方向）でのワーク１０の搬送とを切り替えるためのローラーである。よって、搬送方向変更ローラー１２０、１２１は、設置方向としては、水平と鉛直の中間である斜め（例えば、４５度の傾き）となっている。なお、搬送方向進行ローラー１２０は、水平ローラー１１０から水平に送り出されるワーク１０を、搬送機構１５０が搬送可能なように垂直に変換して送り出す。また、搬送方向進行ローラー１２１は、搬送機構１５０が垂直に搬送しているワーク１０を、ワーク巻き取り装置２１が巻き取り可能なように水平にして水平ローラー１１１に送り出す。

【0020】

前処理槽３０は、ワーク１０にめっき処理を行う前の前処理を施すための処理槽であり、例えば、ワーク１０の表面を清浄するような処理や、ワーク１０の表面の濡れ性を高めるような処理が行われてもよい。前処理槽３０は、垂直に立った状態で搬送されているワーク１０をそのままの状態で受け入れるための縦長のスリット状の入口３１と、垂直のまま送り出すための出口３２を有する。

【0021】

めっき槽４０は、ワーク１０にめっき処理を行うための化学処理槽である。めっき槽４０は、めっき液を貯留可能であり、めっき液にワーク１０を浸漬させてめっき処理を行うことにより、ワーク１０の表面に金属薄膜が形成される。本実施形態においては、電極を用いた電気めっき処理を行う例を挙げて説明する。なお、本実施形態においては、電気めっき処理を行うめっき槽４０を化学処理槽として設置している例を挙げて説明するが、化学処理槽は、他の電気化学的処理を行う槽であってもよい。例えば、めっき槽４０の代わりに、電解エッチング等を行う電解エッチング槽を設置してもよい。

【0022】

めっき槽４０は、例えば、ワーク１０の進行方向に沿って長く延びた形状を有してもよい。これにより、めっき処理の時間を長くとることができ、一槽で十分なめっき処理を行うことにより生産性を高めることができる。めっき槽４０は、例えば、直方体形状を有し、側面４１〜４４を有する。ワーク１０の進行方向が、図２において左側から右側の場合、入口側の側面４１と、出口側の側面４２と、長手方向の側面４３、４４を有する。入口側の側面４１には、ワーク１０の面を垂直方向としたときに通過することができる縦長のスリット状の入口４５が形成され、出口側の側面４２には、やはりワーク１０の面を垂直方向としたときに通過可能な縦長のスリット状の出口４６が形成される。入口４５をワーク１０が通過すると、ワーク１０がめっき槽４０内に貯留されためっき液に浸漬されてめっき処理が行われ、出口４６を通過すことによりめっき処理が終了する。

【0023】

後処理槽９０は、めっき処理が施されたワーク１０の後処理を行うための処理槽であり、例えば、洗浄等が行われてもよい。後処理槽９０で洗浄を行う場合には、洗浄は水洗であってもよいし、所定の薬液を用いた薬液洗浄であってもよい。後処理槽９０も、縦長のスリット状の入口９１と出口９２とを有する。

【0024】

後処理槽９０を通過したワーク１０は、クランプ１４１による保持が解放され、直進して搬送方向変更ローラー１２１に向かう。一方、ワーク１０を保持していない開いた状態のクランプ１４１は、進路を変更してめっき剥離槽１００を通過する。

【0025】

めっき剥離槽１００は、クランプ１４１に付着しためっき膜を剥離するための槽である。よって、めっき剥離槽１００には、例えば、めっきを剥離するためのめっき剥離液がめっき剥離槽１００に貯留され、めっき剥離処理を行われてもよい。めっき剥離処理は、めっき剥離液への浸漬によってのみ行われてもよいし、めっき剥離液を電解エッチング液とし、電解エッチングにより行われてもよい。

【0026】

搬送機構１５０は、ワーク１０を搬送し、前処理槽３０、めっき槽４０、後処理槽９０等の各槽に順次浸漬させて一連の各処理を行わせるための機構である。搬送機構１５０は、プーリー１３０、１３１と、エンドレスベルト１４０と、クランプ１４１とを備える。

【0027】

プーリー１３０は、ワーク１０の搬送を行うための回転機構であり、ワーク１０に接触し、ワーク１０を送り出すとともに、ワーク１０の方向付けをする。図２においては、ワーク１０の搬送経路中の４つの角に設けられている。

【0028】

プーリー１３１は、エンドレスベルト１４０を送り出すための回転機構であり、エンドレスベルト１４０に接触し、回転することにより、摩擦力でエンドレスベルト１４０を送り出す。プーリー１３１は、エンドレスベルト１４０が方向を変える箇所に設けられる。なお、本来的には、プーリー１３０の上方の４つの角にもプーリー１３１が設けられるが、プーリー１３０を見易くするため、図２においては、４つの角のプーリー１３１は省略されている。

【0029】

エンドレスベルト１４０は、ワーク１０を垂直に立てた状態で搬送するための手段である。エンドレスベルト１４０には、所定間隔で複数のクランプ１４１が設けられ、各クランプ１４１が垂直に立てられた状態のワーク１０の上端を保持する。そして、プーリー１３１が回転し、エンドレスベルト１４０を送り出すことにより、クランプ１４１で保持されたワーク１０がエンドレスベルト１４０の移動とともに移動し、搬送される。かかる機構により、ワーク１０は、幅方向における面が垂直に立てられた状態で、長手方向に沿って搬送され、めっき槽４０を含む各処理槽を順次通過して各処理が施される。エンドレスベルト１４０は、例えば、ステンレス等の金属ベルトから構成されてもよい。

【0030】

クランプ１４１は、ワーク１０の上端部を挟持することによりワーク１０を保持する保持治具である。クランプ１４１には、種々の挟持機構が用いられてよく、用途に応じて種々のクランプ機構を用いることができる。

【0031】

クランプ１４１は、例えば金属等の導電体で構成され、ワーク１０に通電を行う電極の機能を有していてもよい。例えば、電気めっき処理を行う場合には、ワーク１０をカソードとし、めっき槽４０内にアノードを設置して電着処理を行うので、クランプ１４１を、カソード電極又はカソード通電機構として機能するように構成してよい。

【0032】

なお、図２においては、ワーク１０の上端のみを保持する搬送機構１５０を示したが、ワーク１０の下端を挟持する搬送機構を用いてもよい。この場合、ワーク１０のしわ等の発生を抑制することができるので、更に均一なめっき処理を行うことが可能となる。ワーク１０の下端の挟持は、上端のクランプ１４１と同様の機構を用いてもよいし、異なるクランプ機構を用いてもよい。また、クランプまで行わずに、ワーク１０の下端をガイドする溝を設けるような構成であってもよい。

【0033】

低張力加熱処理装置１６０は、後処理されたワーク１０を加熱してアニールする熱処理を行うための加熱処理装置である。

【0034】

図２に示す化学処理装置における動作は、以下の通りとなる。まず、ワーク供給装置２０から供給されたワーク１０は、水平ローラー１１０で水平に搬送され、搬送方向変更ローラー１２０により面が垂直方向になり、搬送機構１５０に供給される。搬送機構１５０のクランプ１４１で上端が保持されたワーク１０は、プーリー１３１の回転によるエンドレスベルト１４０の移動に伴って移動し、前処理槽３０、めっき槽４０、後処理槽９０を経て、低張力加熱処理装置１６０により加熱処理される。そして、加熱後のワーク１０は、搬送方向変更ローラー１２１で水平方向の搬送に変換され、水平ローラー１１１を経てワーク巻き取り装置２１に巻き取られ、化学処理が終了する。このような一連の処理を、本実施形態に係る化学処理装置は行う。

【0035】

図３は、本実施形態に係る化学処理装置の化学処理槽の一例を示した平面図である。なお、図３においても、化学処理槽をめっき槽として構成した例を挙げて説明する。よって、図２と同様の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略する。

【0036】

図３において、本実施形態に係る化学処理装置は、めっき槽４０と、めっき液噴流ノズル５０と、アノード６０と、整流器７０、７１、７２と、仕切板８０とを有する。

【0037】

めっき槽４０は、図２で説明したように、長手方向に延在する直方体形状を有し、幅方向の側面４１には、スリット状の入口４５が形成されている。めっき槽４０の内部には、長手方向で所定の長さで分割された複数のアノード６０が設置される。アノード６０は、めっき槽４０の長手方向の側面４３、４４に沿って、幅方向において互いに対向するように配置される。また、長手方向に隣接する複数のアノード７０同士の間には、側面４３、４４からめっき槽４０の内側に向かって延びる仕切板８０が配置される。アノード７０の内側には、やはり長手方向に沿って、複数のめっき液噴流ノズル５０が配置される。めっき槽の外部には、複数に分割されたアノード６０、６１、６２に対応した複数の整流器７０、７１、７２が設けられる。

【0038】

めっき槽４０の入口４５は、側面４１の中央に、鉛直方向に延びたスリット状に形成される。よって、クランプ１４１により上端を挟持されたワーク１０は、入口４５を通過して搬送されることにより、めっき槽４０の幅方向の中央を通って搬送される。

【0039】

複数のめっき液噴流ノズル５０は、中央を通過するワーク１０に両面からめっき液を噴射できるように、中央を向いて対向して配置されるとともに、所定の距離を有して長手方向に沿って配置される。例えば、各々のめっき液噴流ノズルは、鉛直方向に延在し、延在方向に沿って中央を向いたノズルが複数形成され、ワーク１０の上端から下端までほぼ均一にめっき液の噴流を供給できるように構成される。かかる構成により、長手方向にも、鉛直方向にも、ほぼ均一にめっき液の噴流を供給することができる。

【0040】

複数のアノード６０、６１、６２は、上述のように、めっき槽４０の内側面４３、４４に沿って配置されるが、各々が所定の領域をカバーするように、長手方向に沿って所定の長さを有するとともに、隣接するアノード６０、６１、６２とは、互いに電気的に独立して、分割して構成される。また、複数のアノード６０〜６２は、中央を通過するワーク１０を挟むように、側面４３、４４に沿って対向して配置される。対向するアノード６０〜６２は、長手方向において同じ位置で分割され、アノード６０同士が対向する領域で独立したゾーンを形成できるように構成される。かかるゾーンは、めっき槽４０の長手方向に沿って形成されるので、入口４５からの距離に応じて各ゾーンが形成されることになる。

【0041】

複数の整流器７０〜７２は、アノード６０〜６２に電力を供給するための電源であり、分割して設けられた電極６０〜６２に対応して設けられる。複数の整流器７０〜７２は、各々がアノード６０〜６２に供給する電流を調整可能に構成され、複数のアノード６０〜６２の各々に異なる電流を供給し、ゾーン毎に異なる電気化学的処理を行うことが可能である。具体的には、アノード６０に、整流器７０が第１の電流を供給し、アノード６１に、整流器７１が第１の電流と異なる第２の電流を供給し、アノード６２に、整流器７２が第１及び第２の電流と異なる第３の電流を供給することが可能である。

【0042】

なお、整流器７０〜７２は、複数の正極端子７３及び負極端子７４を有し、アノード６０〜６２及びカソードに複数点から電力を供給可能に構成されてよい。図２においては、側面４３側のアノード６０、６１、６２に各々２つの導通機構７６、側面４４側のアノード６０、６１、６２にも各々２つの導通機構７６が設けられているので、各ゾーンの整流器７０〜７２は、各々４つの正極端子７３を備えている。また、カソードは、ワーク１０に通電可能であれば、種々の構成の接点を設けてよいが、例えば、クランプ１４１をカソード接点とし、クランプ１４１に負極端子７２が接続されるような配線構成としてもよい。なお、図２においては、負極端子７２も４つとした例が示されているが、これらの端子数は、用途に応じて変更することができる。

【0043】

ここで、整流器７０〜７２からアノード６０〜６２に供給される第１〜第３の電流密度は、各々が用途に応じた適切な電流に設定されてよいが、例えば、第１の電流密度＜第２の電流密度＜第３の電流密度の関係を満たすように、入口４５から離れるに従って、電流密度の値が増加するような設定としてもよい。これにより、めっき処理が進行するにつれて電流密度を段階的に増加させることができるので、ステップアップめっきを１つのめっき槽４０で行うことができ、複数のめっき槽４０を用意することなく、めっき処理の生産性を高めることができる。

【0044】

仕切板８０は、分割された複数の電極６０、６１、６２同士の間に設置され、隣接したゾーン間で電流が干渉しないようにする役割を果たす。仕切板８０は、めっき槽４０の長手方向の側面４３、４４から、当該側面４３、４４に略垂直に、中央領域に向かって延びている。ワーク１０の通過する穴が必要であるので、仕切板８０で各ゾーンを完全に仕切る構成とすることはできないが、各ゾーン間での金属イオンの拡散が防止され、各ゾーンで目的に応じた処理量のめっきを行うことができる。つまり、例えば、入口４５から離間してめっき処理が進行するにつれて電流密度を増加させるステップアップめっきを行う場合には、各ゾーンで電流密度の設定に応じためっき処理を行うことができ、生産性を確実に高めることができる。

【0045】

なお、仕切板８０は、必要に応じて設けるようにしてよく、その形状も、用途に応じて種々変更してよい。

【0046】

このように、本実施形態に係る化学処理装置によれば、めっき処理の進行に応じてアノード６０〜６２を複数に分割し、これに対応して複数の整流器７０〜７２を設け、各電極６０〜６２及び各整流器７０〜７２に対応したゾーン毎に所望のめっき処理を行うことにより、めっき処理の生産性を向上させることができる。

【0047】

なお、本実施形態においては、めっき処理を例にして説明したが、アノード６０〜６２をカソード６０〜６２とし、ワーク１０がアノードとなるように構成すれば、各ゾーンで異なる電解エッチング処理を行うことが可能である。

【実施例】

【0048】

以下、図２及び図３で説明した本実施形態に係る化学処理装置を実施した実施例について説明する。なお、理解の容易のため、今まで説明した構成要素に対応する構成要素については、対応する参照符号を付して説明する。

【0049】

まず、めっき処理長１４．５ｍ、装置全周に処理工程を設けることで基板搬送が２回Ｕターンする図２に示す化学処理装置を作製した。本装置の給電と搬送を兼ねる上端治具１４１には、治具１個あたり給電部とワーク１０との接触面積が１８ｍｍ^２で、給電部表面に１０μｍの厚みで白金をコーティングしたものを用いた。これら上端治具１４１を７５ｍｍピッチで等間隔配置し、ワーク１０を挟持し搬送と給電とを行った。本化学処理装置のめっき槽４０には、硫酸１２０ｇ／Ｌ、硫酸銅１２０ｇ／Ｌ、塩素５０ｍｇ／Ｌ、クックソンエレクトロニクス社製のめっき光沢剤を２０ｍｇ／Ｌで建浴し、ステップアップ部の整流器分割数と生産性との関係を検証した。

【0050】

表１にステップアップ部の整流器分割数と生産性との関係を示す。

【0051】

【表1】

表１に示される通り、ステップアップ部の整流器分割幅を狭くし、分割数を増やすことで生産性が向上し、０．５ｍ幅の８分割とすることで、１．６ｍ幅の４分割制御に比べて１０％以上生産性が向上した。かかる結果から、アノード６０〜６２及び整流器７０〜７２を複数とすることにより、単数のものよりも生産性を向上させることができるが、更にその数を増加させることにより、生産性を一層向上させることができることが分かる。

【0052】

図４は、安定して流せる電流密度とめっき厚の関係を示した図である。図４は、めっき厚に対応した電流密度以上の電流を流すと、給電部で皮膜が溶解してしまうことを示している。本実施例に係る化学処理装置では、ステップアップ部の整流器を細かく分割することで、より効率的に速く高電流密度へとステップアップできるため、生産性を向上させることができる。

【0053】

このように、本実施形態及び本実施例に係る化学処理装置によれば、めっき処理槽を複数台の整流器によりゾーン制御することで、生産性を向上させることができる。より具体的には、ステップアップゾーンを複数台の整流器によりさらに細かく分割制御することで、より早く、効率よく最大電流密度へと導くことができる。

【0054】

以上、本発明の好ましい実施形態及び実施例について詳説したが、本発明は、上述した実施形態及び実施例に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態及び実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。

【符号の説明】

【0055】

１０ ワーク
４０ めっき槽
４１、４２、４３、４４ 側面
４５ 入口
４６ 出口
６０、６１、６２ アノード
７０、７１、７２ 整流器
８０ 仕切板
１３０、１３１ プーリー
１４０ エンドレスベルト
１４１ クランプ
１５０ 搬送機構

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】