【図1】ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置の概略図である。

【図2】投影露光装置の結像光学系の実施形態の子午断面図である。

【図3】図２による結像光学系の物体視野の拡大図である。

【図4】図２による結像光学系のその物体平面領域内の選択された視野点の結像光線を通り、かつその光軸を通る断面図である。

【図5】図２の平面Ｖ−Ｖを通る図４による結像光線を通した断面図である。

【図6】図２の平面ＶＩ−ＶＩを通る図４による結像光線を通した断面図である。

【図7】図２による結像光学系を用いた構造像の部分的にコヒーレントな空中像の計算結果を結像光線の相対強度を結像光学系の像視野内の変位の関数として示す図式の形態で示す図である。

【図8】図７と比較して小さい構造幅を有する構造像の部分的にコヒーレントな空中像の計算結果の図７と類似の図である。

【図9】図１による投影露光装置のための結像光学系の更に別の実施形態の図２と類似の図である。

【図10】図９による結像光学系の選択された視野点の結像光線の貫通点の図４と類似の図である。

【図11】図９の平面ＸＩ−ＸＩを通る図１０による結像光線を通した断面図である。

【図12】図９の平面ＸＩＩ−ＸＩＩを通る図１０による結像光線を通した断面図である。

【図13】図１による投影露光装置のための結像光学系の別の実施形態の図２と類似の図である。

【図14】図１による投影露光装置のための結像光学系の別の実施形態の図２と類似の図である。

【図15】上述の実施形態と比較して物体側で非掩蔽である更に別のミラー群によって拡張された結像光学系を通した結像光路の概略図である。

【図16】上述の実施形態と比較して物体側で非掩蔽である更に別のミラー群によって拡張された結像光学系を通した結像光路の概略図である。