特許6160997循環流動層ガス化炉

発明の名称　循環流動層ガス化炉

出願人　独立行政法人産業技術総合研究所　（識別番号 301021533）

　　　　特許公開件数ランキング 187 位（258件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 141 位（269件）（共同出願を含む）

出願人　株式会社ＩＨＩ　（識別番号 99）

　　　　特許公開件数ランキング 334 位（97件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 171 位（168件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6160997

公報発行日　2017年7月12

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6160997

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