(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
表面に複数のデバイスが分割予定ラインに区画されて形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを有し該デバイス領域に対応する裏面に凹部が形成され外周部に環状凸部が設けられたウェーハを、該分割予定ラインに沿って複数のデバイスに分割を行うウェーハの分割方法であって、
上面に粘着層を有しウェーハの外径よりも大径の粘着シートの中央に、ウェーハの該凹部の内径よりも小径で両面が平坦な剛性板を貼着したサポート部材を準備するサポート部材準備工程と、
平坦なステージ上に該剛性板を露呈させて該サポート部材の該粘着シート側を載置して、該剛性板上に外的刺激により硬化する液状樹脂を供給し、ウェーハの該凹部を該液状樹脂に対面させて該ステージ及び該ウェーハを相互に押圧させて、該凹部内に該剛性板を挿入しつつ該凹部と該剛性板との隙間に該液状樹脂を広げて該粘着シート上面に至るまで行き渡らせ、外部刺激を与えて硬化させ、ウェーハに該サポート部材を貼着するウェーハ貼着工程と、
該ウェーハ貼着工程の後に、ウェーハの表面側を露呈させて該粘着シート側を保持テーブルに保持し、切削ブレードを該液状樹脂の途中まで切り込みつつ該分割予定ラインに沿ってウェーハを切削し該デバイス領域を複数のデバイスに分割する分割工程と、
該分割工程を実施した後に、該複数のデバイスから該液状樹脂と該環状凸部と該サポート部材とを剥離する剥離工程と、
から構成されるウェーハの分割方法。
【背景技術】
【0002】
近年、電機機器の軽量化や小型化を達成するためにウェーハの厚さをより薄く、例えば、50μm以下にすることが要求されている。このように薄く形成されたウェーハは剛性が低下する上、反りが発生するため取り扱いが困難となり、搬送等において破損する恐れがある。そこで、ウェーハのデバイスが形成されるデバイス領域に対応する裏面のみを研削することで、デバイス領域を囲繞する外周余剰領域に対応する裏面に補強用の環状凸部を形成する研削方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
このように環状凸部が形成されたウェーハを分割予定ラインに沿って分割する前に、ウェーハから環状凸部を除去する方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2に記載の方法では、裏面研削によって形成された円形凹部と円形凹部を囲繞する環状凸部との界面が切削ブレードによって円形に分断され、ウェーハから環状凸部が切り離される。その後、ウェーハの表面側から分割予定ラインに沿って切削ブレードで切削されて、ウェーハが個々のデバイスに分割される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、特許文献2に記載の方法では、切削ブレードによって円形凹部と環状凸部との界面が円形に切削されるため、この円形の切削領域の近傍にはデバイスを形成することができない。このため、環状凸部を有さない通常のウェーハと比較して、円形の切削領域が形成される分だけデバイス領域を狭くしなければならならなかった。
【0006】
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、デバイス領域を狭くすることなく、ウェーハを個々のデバイスに良好に分割することができるウェーハの分割方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明のウェーハの分割方法は、表面に複数のデバイスが分割予定ラインに区画されて形成されたデバイス領域とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを有しデバイス領域に対応する裏面に凹部が形成され外周部に環状凸部が設けられたウェーハを、分割予定ラインに沿って複数のデバイスに分割を行うウェーハの分割方法であって、上面に粘着層を有しウェーハの外径よりも大径の粘着シートの中央に、ウェーハの凹部の内径よりも小径で両面が平坦な剛性板を貼着したサポート部材を準備するサポート部材準備工程と、平坦なステージ上に剛性板を露呈させてサポート部材の粘着シート側を載置して、剛性板上に外的刺激により硬化する液状樹脂を供給し、ウェーハの凹部を液状樹脂に対面させてステージ及びウェーハを相互に押圧させて、凹部内に剛性板を挿入しつつ凹部と剛性板との隙間に液状樹脂を広げて粘着シート上面に至るまで行き渡らせ、外部刺激を与えて硬化させ、ウェーハにサポート部材を貼着するウェーハ貼着工程と、ウェーハ貼着工程の後に、ウェーハの表面側を露呈させて粘着シート側を保持テーブルに保持し、切削ブレードを液状樹脂の途中まで切り込みつつ分割予定ラインに沿ってウェーハを切削しデバイス領域を複数のデバイスに分割する分割工程と、分割工程を実施した後に、複数のデバイスから液状樹脂と環状凸部とサポート部材とを剥離する剥離工程と、から構成される。
【0008】
この構成によれば、ウェーハの裏面にサポート部材が貼着され、ウェーハの凹部内に剛性板とともに樹脂が入り込むことで、サポート部材を介してウェーハの裏面全体を保持テーブル上に支持させることができる。よって、事前にウェーハから環状凸部を除去する必要がなく、環状凸部を有さない通常のウェーハと同様に、切削ブレードによって分割予定ラインに沿って切削することで、ウェーハを個々のデバイスに分割することができる。凹部と環状凸部との界面に沿って円形に切削されることがないため、この円形の切削領域によってデバイス領域が狭くなることがなく、通常のウェーハと同様な広さのデバイス領域を設けることができる。特に、小チップ、大口径のウェーハで有効である。
【発明の効果】
【0009】
本発明によれば、ウェーハを分割する前に、ウェーハの凹部内に剛性板とともに樹脂が入り込むようにウェーハの裏面にサポート部材を貼着することで、デバイス領域を狭くすることなく、ウェーハを個々のデバイスに良好に分割することができる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係るウェーハの分割方法について説明する。本実施の形態に係るウェーハの分割方法は、ウェーハの裏面の外周部分だけを残し、その内側だけを研削して形成された、いわゆるTAIKOウェーハに対して実施される。まず、
図1及び
図2を参照してTAIKOウェーハの形成過程について簡単に説明する。
図1は、本実施の形態に係るウェーハの斜視図である。
図2は、本実施の形態に係るウェーハの裏面研削工程の一例を示す図である。
【0012】
図1に示すように、ウェーハWは、略円板状に形成されており、表面11に配列された格子状の分割予定ライン(不図示)によって複数の領域に区画されている。ウェーハWの中央には、分割予定ラインに区画された各領域にデバイスDが形成されている。ウェーハWの表面11は、複数のデバイスDが形成されたデバイス領域A1と、デバイス領域A1を囲繞する外周余剰領域A2とに分けられている。また、ウェーハWの外縁13には、結晶方位を示すノッチ14が形成されている。ウェーハWは、表面11に研削テープ18が貼着された状態で研削装置21(
図2参照)に搬入される。
【0013】
図1及び
図2に示すように、研削装置21では、ウェーハWの裏面12を上に向けた状態で、研削テープ18を介してウェーハWの表面11側が保持テーブル22に保持される。そして、研削装置21の研削ホイール23がZ軸回りに回転しながら保持テーブル22に近付けられ、研削ホイール23とウェーハWの裏面12とが回転接触することでウェーハWが研削される。このとき、ウェーハWの裏面12のうち、表面11のデバイス領域A1の裏側だけが研削される。これにより、ウェーハWの裏面12には、デバイス領域A1に対応する領域に円形の凹部15が形成され、外周余剰領域A2に対応する領域に環状凸部16が形成される。
【0014】
このように、凹部15によってウェーハWの中央部分だけが薄化されて、凹部15を囲む環状凸部16によってウェーハWの剛性が高められている。よって、ウェーハWのデバイス領域A1が薄化されると共に、環状凸部16によってウェーハWの反りが抑えられて搬送時の破損等が防止される。研削後のウェーハWは、表面11から研削テープ18が剥離された状態で後段の工程に向けて搬送される。なお、ウェーハWは、シリコン、ガリウム砒素等の半導体ウェーハでもよいし、セラミック、ガラス、サファイア系の光デバイスウェーハでもよい。
【0015】
ところで、ウェーハWを表面11の分割予定ラインに沿って分割する場合、ウェーハWの裏面12に凹部15が形成されていると、ウェーハWの裏面12側をテーブルに保持させることができない。このため通常は、ウェーハWから環状凸部16を切り離したり、凹部15を樹脂のみで埋めたりして、ウェーハWの裏面12が平坦化される。しかしながら、ウェーハWを円形に切削して環状凸部16を切り離す場合には、凹部15と環状凸部16との間に円形の切削領域を設ける分だけデバイス領域A1を狭くしなければならない。また、ウェーハWの凹部15を樹脂のみで埋める場合には、樹脂表面の平坦化作業が必要になると共に、樹脂硬化時の収縮によりウェーハWの破損が生じるおそれがある。
【0016】
そこで、本実施の形態に係るウェーハWの分割方法では、ウェーハWの環状凸部16を切り離したり、凹部15を樹脂のみで埋める代わりに、ウェーハWの裏面12側にサポート部材25(
図3参照)を貼着して、ウェーハWを個々のデバイスDに分割している。本実施の形態に係るウェーハWの分割方法では、サポート部材準備工程、ウェーハ貼着工程、分割工程、剥離工程を経て、ウェーハWが個々のデバイスDに分割される。サポート部材準備工程では、ウェーハWの外径よりも大径の粘着シート26の中央に、ウェーハWの凹部15の内径よりも小径の剛性板27を貼着したサポート部材25が準備される(
図3参照)。
【0017】
ウェーハ貼着工程では、サポート部材25の剛性板27上に液状樹脂36が供給され、ウェーハWの凹部15内に剛性板27が挿入されて液状樹脂36が粘着シート26に至るまで広げられる。そして、液状樹脂36が硬化されて、ウェーハWの裏面12にサポート部材25が貼着される(
図4参照)。分割工程では、サポート部材25を介して保持テーブル41に保持されたウェーハWが、切削ブレード42によって表面11側の分割予定ラインに沿って切削されて、複数のデバイスDに分割される(
図5参照)。剥離工程では、複数のデバイスDから液状樹脂36、環状凸部16、サポート部材25が剥離される(
図6参照)。
【0018】
以下、
図3から
図6を参照して、本実施の形態に係るウェーハWの分割方法について詳細に説明する。
図3はサポート部材準備工程、
図4はウェーハ貼着工程、
図5は分割工程、
図6は剥離工程のそれぞれ一例を示す図である。
【0019】
図3に示すように、まずサポート部材準備工程が実施される。サポート部材準備工程では、ウェーハWの外径よりも大径の粘着シート26とウェーハWの凹部15の内径よりも小径の剛性板27が用意される。粘着シート26は、PET(polyethylene terephthalate)等でシート状に形成され、上面には粘着層が設けられている。剛性板27は、ガラス等の紫外線を透過する材質で上下両面が平坦な板状に形成されている。そして、粘着シート26と剛性板27との間に気泡が入らないように、粘着シート26の上面中央に剛性板27が貼着されることでサポート部材25が形成される。なお、サポート部材準備工程は、オペレータによる手作業で実施されてもよいし、サポート部材25の製造装置(不図示)によって行われてもよい。
【0020】
図4に示すように、サポート部材準備工程の後にはウェーハ貼着工程が実施される。
図4Aに示すように、ウェーハ貼着工程では、ウェーハ貼着装置(不図示)のステージ31に粘着シート26を下に向けた状態でサポート部材25が載置され、平坦なステージ31上に剛性板27が露呈される。サポート部材25の上方には、ウェーハ貼着装置のプレス機32にウェーハWの表面11が保持されており、ウェーハWの裏面12側の凹部15が下方に向けられている。このため、プレス機32に保持されたウェーハWの凹部15とステージ31上のサポート部材25の剛性板27とが上下方向で対面されている。
【0021】
ステージ31の上面は平坦な透光性板33で構成されており、ステージ31の内部には透光性板33を通じてステージ31から紫外線を照射する紫外線照射器34が設けられている。この状態で、剛性板27上には、外部刺激によって硬化する液状樹脂36が供給される。本実施の形態においては、液状樹脂36として、紫外線により硬化し、温風の熱(例えば、80℃以上)によって軟化する樹脂が用いられる。
【0022】
次に、
図4Bに示すように、プレス機32がステージ31に近づけられ、プレス機32に保持されたウェーハWがステージ31上のサポート部材25に押し付けられる。このとき、ウェーハWの凹部15内にサポート部材25の剛性板27が入り込むことによって、凹部15と剛性板27との隙間に液状樹脂36が広げられる。粘着シート26の上面に至るまで液状樹脂36が行き渡り、ウェーハWの外縁13から液状樹脂36がはみ出ると、プレス機32の下降が停止される。このとき、粘着シート26に剛性板27が貼着されているため、粘着シート26と剛性板27との間に液状樹脂36が入り込むことがなく、サポート部材25の下面28が平坦に保たれる。
【0023】
そして、紫外線照射器34から紫外線が照射され、透光性板33、粘着シート26、剛性板27を透過した紫外線によって液状樹脂36に外部刺激が加えられて、ウェーハWにサポート部材25が貼着される。このとき、液状樹脂36がウェーハWの環状凸部16(R形状下部)と粘着シート26の上面との間からはみ出ているため、液状樹脂36の硬化によってウェーハWの外縁13からの保持力も強化されている。このように、平坦なステージ31を基準に液状樹脂36が広がるため、サポート部材25の下面28にウェーハWの表面11と平行な平坦面が形成される。
【0024】
この場合、ウェーハWの凹部15が液状樹脂36だけで埋められる構成と比較して、ウェーハWの凹部15内に剛性板27が入っている分だけ、液状樹脂36の供給量が抑えられている。よって、液状樹脂36の硬化時の収縮による影響が抑えられ、液状樹脂36の収縮によってウェーハWが破損することがない。
【0025】
図5に示すように、ウェーハ貼着工程の後には分割工程が実施される。分割工程では、ウェーハWの表面11側が露呈されるように、切削装置(不図示)の保持テーブル41上にサポート部材25を介してウェーハWが保持される。切削ブレード42は、ウェーハWの径方向外側で分割予定ラインに対して位置合わせされ、この位置において液状樹脂36の途中まで切り込み可能な高さに下降される。そして、高速回転する切削ブレード42に対して保持テーブル41上のウェーハWが切削送りされることで、分割予定ラインに沿ってウェーハWが切削される。
【0026】
一本の分割予定ラインに沿ってウェーハWが切削されると、隣接する分割予定ラインに切削ブレード42が位置合わせされて切削される。この動作が繰り返されてウェーハWが一方向の全ての分割予定ラインに沿って切削される。ウェーハWの一方向の全ての分割予定ラインに沿って切削されると、保持テーブル41が90度回転されて、同様にして一方向の分割予定ラインに直交する他方向の分割予定ラインに沿ってウェーハWが切削される。この結果、凹部15によって薄化されたデバイス領域A1だけが分割予定ラインに沿ってフルカットされて、ウェーハWが複数のデバイスDに分割される。
【0027】
この分割工程では、ウェーハWの裏面12に凹部15が形成されている場合でも、ウェーハWの裏面12側にサポート部材25が貼着されることで、ウェーハWが保持テーブル41に全体的に支持される。このため、ウェーハWから環状凸部16を除去したり、ウェーハWの裏面12側を平坦にする必要がない。よって、ウェーハWの外周に環状凸部16を有さない通常のウェーハWと同様に、切削ブレード42によって分割予定ラインに沿って切削することで、ウェーハWを個々のデバイスDに分割することができる。
【0028】
図6に示すように、分割工程の後には剥離工程が実施される。
図6Aに示すように、剥離工程では、ステージ45上にサポート部材25を介してウェーハWが載置される。ステージ45の上方に設けた温風噴射器46からデバイスDに向けて温風が吹き付けられることで、硬化した液状樹脂36が温風によって軟化する。これにより、液状樹脂36の保持力が弱まりサポート部材25からデバイスDが剥離し易くなる。温風が上方から吹き付けられるため、剛性板27上の液状樹脂36の保持力は弱まるが、剛性板27の側方やウェーハWの外縁13から粘着シート26上にはみ出た液状樹脂36の保持力は弱まり難くなっている。
【0029】
次に、
図6Bに示すように、デバイスDの表面11にエキスパンドテープ48が貼着される。液状樹脂36の保持力が弱まっているため、液状樹脂36よりも強くエキスパンドテープ48にデバイスDが保持される。そして、エキスパンドテープ48が端から捲り上げられることで、液状樹脂36から複数のデバイスDが剥離される。このとき、環状凸部16の外縁13がR形状に形成されているため、エキスパンドテープ48よりも、外縁13からはみ出した液状樹脂36によって広い範囲で保持される。さらに、下側の液状樹脂36は温風によって保持力が低下し難いため、デバイスDの剥離時にウェーハWの環状凸部16はサポート部材25上に残される。
【0030】
このようにして、複数のデバイスDから液状樹脂36、環状凸部16、サポート部材25が剥離される。次に、
図6Cに示すように、エキスパンドテープ48の外周にリングフレーム47が取り付けられてエキスパンド装置(不図示)に搬入され、エキスパンドテープ48の拡張によって複数のデバイスD間隔が広げられる。そして、ピッカー(不図示)によってエキスパンドテープ48から複数のデバイスDが剥離される。
【0031】
なお、剥離工程においては、
図6Aに示すように、温風によって液状樹脂36の保持力を低下させる構成の代わりに、
図6Dに示すように、温水によって液状樹脂36の保持力を低下させることも可能である。この場合、容器49内の温水中にデバイスD付きのサポート部材25が浸漬され、温水(例えば、80℃以上)によって液状樹脂36が膨潤することで、複数のデバイスDから液状樹脂36を剥離し易くしている。
【0032】
以上のように、本実施の形態に係るウェーハWの分割方法によれば、ウェーハWの裏面12にサポート部材25が貼着され、ウェーハWの凹部15内に剛性板27とともに樹脂が入り込むことで、サポート部材25を介してウェーハWの裏面12全体を保持テーブル上に支持させることができる。よって、事前にウェーハWから環状凸部16を除去する必要がなく、環状凸部16を有さない通常のウェーハWと同様に、切削ブレード42によって分割予定ラインに沿って切削することで、ウェーハWを個々のデバイスDに分割することができる。凹部15と環状凸部16との界面に沿って円形に切削されることがないため、この円形の切削領域によってデバイス領域A1が狭くなることがなく、通常のウェーハWと同様な広さのデバイス領域A1を設けることができる。特に、小チップ、大口径のウェーハWで有効である。
【0033】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
【0034】
また、上記したウェーハWの分割方法では、紫外線によって液状樹脂36を硬化させ、温風及び温水によって液状樹脂36の保持力を低下させる構成について説明したが、この構成に限定されない。液状樹脂36は、外部刺激により硬化する樹脂であればよく、例えば、熱硬化する熱硬化樹脂でもよい。ここでいう外部刺激とは、紫外線や熱だけでなく、その他放射線、電子線、電界、化学反応等の少なくともいずれかによる刺激をいう。液状樹脂36として、紫外線によって硬化される樹脂が使用されない場合には、剛性板27は紫外線を透過させる材料に限定されない。また、液状樹脂36として、温風や温水等をかけることなく剥離可能な樹脂を用いてもよい。