特許6172683含フッ素化合物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法、化合物

発明の名称　含フッ素化合物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法、化合物

出願人　学校法人神奈川大学　（識別番号 592218300）

　　　　特許公開件数ランキング 1140 位（7件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 1152 位（6件）（共同出願を含む）

出願人　株式会社ニコン　（識別番号 4112）

　　　　特許公開件数ランキング 104 位（93件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 119 位（67件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6172683

公報発行日　2017年8月2

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6172683

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