特許6176962ＣＶＤ反応室のプロセスチャンバの壁の洗浄方法

発明の名称　ＣＶＤ反応室のプロセスチャンバの壁の洗浄方法

出願人　アイクストロン、エスイー　（識別番号 502010251）

　　　　特許公開件数ランキング 2800 位（2件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 2323 位（2件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6176962

公報発行日　2017年8月9

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6176962

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