特許 6178774 定盤運搬台車

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6178774

(24)【登録日】2017年7月21日

(45)【発行日】2017年8月9日

(54)【発明の名称】定盤運搬台車

(51)【国際特許分類】

   B24B 37/34 20120101AFI20170731BHJP

   H01L 21/304 20060101ALN20170731BHJP

【ＦＩ】

   B24B37/34

   !H01L21/304 621B

【請求項の数】3

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2014-215583(P2014-215583)

(22)【出願日】2014年10月22日

(65)【公開番号】特開2016-78220(P2016-78220A)

(43)【公開日】2016年5月16日

【審査請求日】2016年9月9日

(73)【特許権者】

【識別番号】000190149

【氏名又は名称】信越半導体株式会社

(73)【特許権者】

【識別番号】000236687

【氏名又は名称】不二越機械工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100102532

【弁理士】

【氏名又は名称】好宮 幹夫

(72)【発明者】

【氏名】佐藤 三千登

(72)【発明者】

【氏名】金井 洋介

【審査官】 小川 真

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０００−１４１２０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−９６８９３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００９−１８４７７５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許第３８１３８２５（ＵＳ，Ａ）

【文献】 特開２０１５−２１７４４６（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ２４Ｂ ３７／３４

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

Ｂ６５Ｇ １／００

ＷＰＩ

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

研磨装置から取り外した定盤、又は前記研磨装置に取り付けるための前記定盤を運搬するための定盤運搬台車であって、該定盤運搬台車は、前記定盤を保持するための定盤保持部と、該定盤保持部を下側から支持する支持台と、前記定盤保持部の昇降を行う昇降機構と、前記定盤を保持した前記定盤保持部を傾ける傾け機構を具備し、
前記定盤を保持した前記定盤保持部を前記傾け機構で傾けた状態で、前記定盤を運搬できるものであることを特徴とする定盤運搬台車。

【請求項2】

前記定盤運搬台車を側面から見た時、前記定盤保持部の横方向の長さが前記支持台の横方向の長さよりも長く、前記支持台に対して上記定盤保持部が偏心して配置されたものであることを特徴とする請求項１に記載の定盤運搬台車。

【請求項3】

前記傾け機構は、前記定盤保持部の外周部に取り付けられた内側方向に収納可能な少なくとも１つの傾け板と、該傾け板の下方に配置された少なくとも１つのストッパーを有し、前記定盤保持部を下降させた時、前記ストッパーにより前記傾け板の下降を妨げることで、前記定盤保持部の前記傾け板が配置されている部分が下降せず、前記定盤保持部を傾けることができるものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の定盤運搬台車。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、半導体ウェーハなどを研磨する研磨装置から取り外した定盤、又は研磨装置に取り付けるための定盤を運搬するための定盤運搬台車に関する。

【背景技術】

【0002】

シリコンウェーハに代表される半導体ウェーハ（以下、単にウェーハともいう）の研磨は、ウェーハの両面を同時に研磨する方法や、ウェーハの片面を研磨する方法で行われている。

【0003】

ウェーハの片面の研磨は、図７に示すような、研磨布１２が張り付けられた定盤２と、研磨布１２上に研磨剤１３を供給する研磨剤供給機構１４と、ウェーハＷを保持する研磨ヘッド１５等から構成された研磨装置を用いて行われる。研磨ヘッド１５でウェーハＷを保持し、研磨剤供給機構１４から研磨布１２上に研磨剤１３を供給するとともに、定盤２と研磨ヘッド１５をそれぞれ回転させてウェーハＷの表面を研磨布１２に摺接させることによりウェーハＷを研磨する（例えば、特許文献１参照）。

【0004】

また、ウェーハＷの研磨は、研磨布の種類や研磨剤の種類を換えて、多段で行われることが多く、インデックス方式と呼ばれる、２つの定盤ないし３つの定盤を持つ研磨装置が多く用いられている。

【0005】

ここで、インデックス方式で３つの定盤を持つ研磨装置の一例を図８に示す。図８に示すようなインデックス方式の研磨装置１１は、３つの定盤２を有し、各定盤１つあたり、２つの研磨ヘッド１５が割り当てられている。そのため、１バッチ当たり２枚のウェーハの研磨が可能となり、特に生産性に優れる。

【0006】

このような研磨装置でウェーハを研磨する際に使用する研磨布は、使用する前にシーズニングと呼ばれる立上作業が行われる。シーズニングの方法は、使用する研磨布によって異なるが、一般的には軟質のナイロンブラシを用いたブラッシングや、セラミックスやダイヤモンドのドレッサーを用いたドレッシングが行われる。また、研磨対象となるようなウェーハ（ダミーウェーハ）を実際に研磨するような、シーズニングも行われている。

【0007】

シーズニングは、交換した直後の新しい研磨布の表面の品質を安定させるため、長時間行われることが多い。特に、ダミーウェーハを用いたシーズニングは、研磨布の種類によっては、数時間行われることもある。そのため、実際に研磨を行う研磨装置内でシーズニングを行う場合、その間、研磨を一旦停止する必要がある。そのため、ウェーハの生産性が大幅に低下してしまう。

【0008】

そこで、シーズニングを行うことによって、ウェーハの生産性が低下することを抑制するため、研磨布を張り付ける定盤を脱着可能にして、シーズニングのみを別の簡易研磨装置（以下、外段取り装置という）を用いて行う方法がとられている。

【0009】

外段取り装置を用いた研磨布のシーズニングを行うために、まず、外段取り装置に研磨布が張り付けられた定盤を取り付ける。次に、研磨布のシーズニングを行う。研磨布のシーズニングが終了したら、シーズニングを行った研磨布が張り付けられた定盤を外段取り装置から取り外す。その後、実際にウェーハの研磨を行う研磨装置へ定盤を取り付ける。

【0010】

定盤は、ステンレス製やセラミックス製のものが多く用いられている。直径が８００ｍｍ、厚さが２０ｍｍの定盤の場合、ステンレス製の定盤の重量は約８０ｋｇ、セラミックス製の定盤の重量は約４０ｋｇとなる。このように、ステンレス製の定盤は、セラミックス製の定盤と比べて重量が重い。さらに、ステンレス製の定盤の場合、定盤が熱によって変形してしまい、これによって研磨品質に影響が生じることがある。このため、セラミックス製の定盤を用いる方が好ましい。

【0011】

外段取り装置で研磨布のシーズニングを行う場合、上記のような重量物である定盤を頻繁に脱着する必要がある。このような重量物である定盤の脱着を容易に、且つ安全に行うため、図９に示すような定盤２を水平な状態で保持しながら運搬することができる定盤運搬台車１０１が用いられている。定盤運搬台車１０１は、定盤２を保持するための定盤保持部１０３と、定盤保持部を昇降させる昇降機構を具備している。

【0012】

定盤保持部１０３は、保持した定盤２が落下することを防止するための、定盤２を水平状態で保持してロックする定盤落下防止機構１０９を有している。定盤保持部１０３の定盤２と接する側の面には、ローラー１１０や、フリーベアリングを設置し、重量物である定盤２を容易にスライド移動できるようになっている。
昇降機構として、油圧方式や、チェーン、ボールねじ等を用いた機構が使用されている。

【0013】

ここで、定盤２を研磨装置から取り外し、上記のような定盤運搬台車１０１へ移動する際の一般的な手順を示す。

【0014】

研磨装置内に設置されていた、取り外す定盤２の正面に定盤運搬台車１０１を配置する。
研磨装置のドアを開け、定盤運搬台車１０１の定盤保持部１０３の高さを定盤２の高さと同じか、若干低い位置に調整する。この時、定盤２と定盤運搬台車１０１の位置によっては、その距離が離れている場合がある。このような場合には、定盤２と定盤運搬台車１０１の間にガイド板を設置する。

【0015】

一般的に定盤２は、ウェーハを研磨する際などの回転による飛び出しを防止するための機械的なロック機構と、真空吸着によって研磨装置内の所定の場所に固定されている。研磨装置から定盤２を取り外すために、まず、機械的なロック機構を外す。さらに、真空吸着を停止させる。このとき、真空吸着のラインを利用して、エアを供給する事により、定盤２を浮き上がらせることで、定盤２を容易に動かすことが可能となる。また、定盤２が滑りやすいように、水を供給しながら研磨装置から定盤２の取り外しを行ってもよい。

【0016】

定盤運搬台車１０１の定盤保持部１０３にはローラー１１０やフリーベアリングが設けられているため、定盤２を安全にスライド移動することができる。定盤保持部１０３の所定の位置まで定盤をスライド移動し、定盤保持部１０３で定盤を保持する。そして、定盤落下防止機構１０９にて定盤２を固定し、運搬する。

【0017】

外段取り装置で定盤上に張り付けた研磨布のシーズニングを終えた定盤を研磨装置に取り付ける際には、定盤運搬台車の定盤保持部を研磨装置内の定盤受けの高さと同じか、若干高い位置に調整すること以外は、上記した研磨装置から定盤の取り出しと逆の手順で、定盤を定盤運搬台車から研磨装置内にスライド移動し、取り付けを行うことができる。

【0018】

しかしながら、研磨装置が大型になると使用する定盤の直径も大きくなるため、定盤運搬台車で定盤を運搬するための通路も広くしなければならない。また、定盤の脱着用にはさらに広いスペースが必要となるため、研磨装置周辺のスペース効率がますます低下するという問題があった。

【0019】

特に、図８に示すようなインデックス方式の研磨装置の場合、３方向から定盤を脱着することになるため、研磨装置の周辺のスペース効率が大幅に低下してしまう。

【0020】

このため、定盤を脱着するためのスペースを隣合う研磨装置で共用するようにレイアウトすることによって、スペース効率の向上が図られている。
また、図９に示す定盤運搬台車１０１は、定盤２に対し正面からアクセスして、定盤２を脱着する縦脱着方式であるが、定盤運搬台車１０１の側面から定盤を脱着する定盤運搬台車も使用されている。図１０に縦脱着方式の定盤運搬台車１０１と、横脱着方式の定盤運搬台車１０１ａによる研磨装置１１へ定盤を取り付ける際の様子を示す。

【0021】

研磨装置１１の周囲には電源配線や給排水配管類（図示しない）がある。このため、横脱着方式の定盤運搬台車１０１ａは、縦脱着方式の定盤運搬台車１０１に比べ、研磨装置１１の側面に近づけにくく作業性が劣る。しかしながら、図１０に示すように、横脱着方式の定盤運搬台車１０１ａでは、研磨装置１１に定盤を脱着する際のスペースを小さくすることができる。このため、隣合う研磨装置同士の間隔を狭めることができるため、スペース効率に優れる。

【0022】

しかしながら、図１０に示すような横脱着方式の定盤運搬台車１０１ａの場合でも、定盤運搬台車１０１ａは定盤を水平の状態で運搬し、脱着作業を行う。このため、隣合う研磨装置同士の間隔は、定盤運搬台車で運搬する定盤の直径以上のスペースが必ず必要となる。さらに、定盤運搬台車で定盤を運搬する際や、研磨装置から定盤を脱着する際などの作業性も考慮すると、少なくとも、定盤の直径プラス２００ｍｍ以上のスペースが必要となる。

【0023】

研磨装置でウェーハを研磨した際のウェーハの表面品質を均一化するためには、研磨布とウェーハが常に接触した状態で研磨を行うことが望ましい。そのため、研磨する対象のウェーハの直径よりも定盤の直径は大きいことが好ましい。また、生産性を上げるため、図８のように１つの定盤２に対して２つの研磨ヘッド１５が割り当てられたような研磨装置１１が多く使用されている。

【0024】

このような研磨装置では、１つの定盤上で２枚のウェーハを同時に研磨するため、例えば直径３００ｍｍのウェーハを研磨する場合、定盤の直径が８００ｍｍの定盤が多く使用されている。上記したように、隣合う研磨装置同士を設置する間隔は、少なくとも定盤の直径プラス２００ｍｍ程度のスペースが必要となるので、定盤の直径が８００ｍｍの場合、１０００ｍｍ以上とする必要があった。このように、直径３００ｍｍ以上のウェーハを研磨する研磨装置では、スペース効率を上げることが難しかった。

【0025】

ところで、ウェーハの直径が３００ｍｍを超える大直径のウェーハとして、直径が４５０ｍｍのウェーハが検討されている。直径が４５０ｍｍのウェーハを２枚同時に研磨することができる定盤として、例えば直径が１２００ｍｍのものを使用することができる。このような大きさの定盤の重量は、セラミックス製の場合、約９０ｋｇとなる。定盤の直径が１２００ｍｍの研磨装置の場合、従来の定盤運搬台車を用いて定盤の脱着作業及び運搬を行うためのスペースとして、１４００ｍｍ以上が必要となる。

【0026】

このように、従来の定盤運搬台車で、定盤の脱着作業及び運搬を行う場合、定盤が常に水平な状態で行うため、スペース効率が良くなかった。

【0027】

半導体工場に設置される研磨装置は、異物による微小なスクラッチや欠陥を抑制するため、クリーンルーム内に設置されることが多く、研磨装置を設置する際のスペース効率は、工場の建設コストや、ユーティリティのランニングコストに影響する。このため、研磨装置の周辺のスペース効率の改善が求められていた。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0028】

【特許文献1】特開２００８−９３８１１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0029】

本発明は上記のような問題に鑑みてなされたもので、定盤を運搬する際の幅が狭く、定盤を運搬するための通路の幅を狭くすることができる定盤運搬台車を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0030】

上記目的を達成するために、本発明によれば、研磨装置から取り外した定盤、又は前記研磨装置に取り付けるための前記定盤を運搬するための定盤運搬台車であって、該定盤運搬台車は、前記定盤を保持するための定盤保持部と、該定盤保持部を下側から支持する支持台と、前記定盤保持部の昇降を行う昇降機構と、前記定盤を保持した前記定盤保持部を傾ける傾け機構を具備し、
前記定盤を保持した前記定盤保持部を前記傾け機構で傾けた状態で、前記定盤を運搬できるものであることを特徴とする定盤運搬台車を提供する。

【0031】

このようなものであれば、定盤を運搬する際の定盤運搬台車の幅を狭くすることができる。そのため、定盤を運搬するための通路の幅を狭くすることができる。

【0032】

このとき、前記定盤運搬台車を側面から見た時、前記定盤保持部の横方向の長さが前記支持台の横方向の長さよりも長く、前記支持台に対して上記定盤保持部が偏心して配置されたものであることが好ましい。
このようなものであれば、定盤保持部を斜めの状態から、定盤を着脱するために、水平な状態に変える際に、偏心して配置された定盤保持部の長い方を研磨装置内に差し込んだ状態になるようにすることができるので、定盤を脱着する時に必要なスペースを小さくすることができる。これにより、隣合う研磨装置同士の間隔を一層狭くすることができる。さらに、定盤を水平にした際、定盤の一部が研磨装置内に入り込んだ状態となるため、ガイド板の設置も必要なくなるので、作業性に優れる。

【0033】

このとき、前記傾け機構は、前記定盤保持部の外周部に取り付けられた内側方向に収納可能な少なくとも１つの傾け板と、該傾け板の下方に配置された少なくとも１つのストッパーを有し、前記定盤保持部を下降させた時、前記ストッパーにより前記傾け板の下降を妨げることで、前記定盤保持部の前記傾け板が配置されている部分が下降せず、前記定盤保持部を傾けることができるものであることが好ましい。
このような簡単な機構で定盤を保持した定盤保持部を傾けることができるので、コストを節約することができる。

【発明の効果】

【0034】

本発明の定盤運搬台車であれば、定盤を運搬する際の定盤運搬台車の幅を小さくすることができるので、定盤を運搬するための通路の幅を狭くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【0035】

【図1】本発明の定盤運搬台車の一例を示した概略図である。

【図2】本発明の定盤運搬台車で、定盤を定盤保持部を斜めに保持した状態と水平に保持した状態の中間の状態での様子を示した概略図である。

【図3】本発明の定盤運搬台車で、定盤を定盤保持部で水平に保持した際の様子を示した概略図である。

【図4】本発明の定盤運搬台車で、定盤を定盤保持部で水平な状態で保持した際の概略上面図である。

【図5】本発明の定盤運搬台車で、定盤を定盤保持部で斜めに保持した際の概略上面図である。

【図6】本発明の定盤運搬台車を用いて、定盤を研磨装置へ取り付ける際の様子を示した概略図である。

【図7】一般的なウェーハの片面研磨装置の一例を示した概略図である。

【図8】一般的なインデックス方式のウェーハの研磨装置の一例を示した概略図である。

【図9】従来の定盤運搬台車の一例を示した概略上面図である。

【図10】従来の定盤運搬台車を用いて研磨装置へ定盤を取り付ける様子を示した概略図である。

【発明を実施するための形態】

【0036】

上述したように、定盤運搬台車で定盤を運搬する際に、定盤を水平な状態で運搬すると、定盤運搬用の通路幅を広くしなければならず、スペース効率が悪いという問題があった。そこで、本発明者らはこのような問題を解決すべく鋭意検討を重ねた。その結果、定盤を保持した定盤保持部を傾けた状態で、定盤を運搬することで、運搬する際の通路の幅を狭めることができるということに想到した。そして、これらを実施するための最良の形態について精査し、本発明を完成させた。以下に図面を参照しながら本発明の定盤運搬台車について詳細に説明する。

【0037】

本発明の定盤運搬台車は、研磨装置から取り外した定盤、又は研磨装置に取り付けるための定盤を運搬するためのものである。図１に示すように、本発明の定盤運搬台車１は、定盤２を保持するための定盤保持部３と、定盤保持部３を下側から支持する支持台４と、定盤保持部３の昇降を行う昇降機構５と、定盤２を保持した定盤保持部３を傾ける傾け機構８を具備している。

【0038】

定盤保持部３の形状は特に限定されず、例えば図４に示すように、長方形を組み合わせたような形状とすることができる。定盤保持部の横幅は、保持する定盤の直径よりも短くすることが好ましく、このようにすれば、定盤を保持した定盤保持部を傾けた際の幅を最小限にすることができる。

【0039】

図４に示すように、定盤保持部３の定盤２と接する面には、ローラー１０やフリーベアリングを配置することが好ましい。このようなものであれば、研磨装置から定盤２を取り外し、定盤保持部３へと移動する際、又は定盤２を研磨装置へ取り付けるために、定盤保持部３から研磨装置へと移動させる際に、容易にスライド移動することができ、操作性に優れる。

【0040】

定盤保持部３は、図５に示すように、定盤２を保持した定盤保持部３を斜めに傾けた際に定盤２が落下しないようなものであることが好ましく、例えば、定盤の落下防止機構９を設けることができる。定盤の落下防止機構は、落下防止機構をロックした状態では定盤が定盤保持部から離脱しないように定盤を固定しており、ロックを解除した状態では、定盤を保持部から自在に離脱させることができるようなものとすることができる。このようなものであれば、定盤２を保持した定盤保持部３を傾けた状態にしても、安全に定盤を運搬することができる。

【0041】

このとき、図３のように、定盤運搬台車１を側面から見た時、定盤保持部３の横方向の長さが支持台４の横方向の長さよりも長く、支持台４に対して定盤保持部３が偏心して配置されたものであることが好ましい。このような定盤保持部３で、定盤２を保持した場合、保持した定盤も支持台４に対して偏心した状態となる。そのため、定盤保持部３の支持台４に対して偏心して配置され、長く出っ張った方の側では、定盤２は支持台４から大きくせり出した状態になる。

【0042】

このようなものであれば、図６に示すように、定盤２を保持した定盤保持部３を斜めにした状態から、定盤２を着脱するために、水平な状態に変える際に、偏心して配置された定盤保持部３の長く出っ張った方の側を研磨装置１１内に差し込んだ状態になるようにすることができるので、定盤２を脱着する時に必要なスペースを小さくすることができる。これにより、隣合う研磨装置同士の間隔を狭くすることができる。さらに、定盤２を水平にした際、定盤２の一部が研磨装置１１内に入り込んだ状態となるため、ガイド板を設置する必要がない。また、定盤２を水平にした時の高さが、定盤受け１６よりも少し高い位置になるように、ストッパー６の位置を調整することにより、定盤２と定盤受け１６の接触を防止できるため、作業性に優れる。

【0043】

図１、図２、図３に示すように、支持台４は定盤保持部３を下側から支持している。
支持台４の横幅は、定盤保持部の横方向の長さよりも短いことが好ましい。定盤保持部で保持した定盤２を傾けた際の横方向の長さよりも短いことが好ましい。このようにすれば、定盤２を保持した定盤保持部３を傾けた際の幅を最小限にすることができる。

【0044】

支持台４の下部には、定盤運搬台車１が移動自在となるように、複数の車輪１８を配置することができる。車輪１８には、ホイールロックが配置されており、定盤の取り付けや取り外しなどの際に、定盤運搬台車が勝手に動かないようにすることができる。
図１に示すように、支持台４の高さは、定盤２を保持した定盤保持部３を傾けた際に、定盤保持部及び定盤が地面と接触しないような高さであることが好ましい。

【0045】

昇降機構５は、定盤保持部３の下部に配置されたものとすることができる。昇降機構５は、定盤保持部３を任意の高さに昇降させることができるものであることが好ましく、例えば、油圧方式による構成や、チェーン、ボールねじ等を用いた機構とすることができる。

【0046】

昇降機構５による定盤保持部３の昇降は手動操作で行うことができる。このようにすれば、昇降のためにほかの装置を搭載する必要がないので、コストがかからない。
昇降機構５による定盤保持部３の昇降をバッテリー駆動で行うためのバッテリー装置を定盤運搬台車１に搭載することができる。昇降機構５をバッテリー駆動にした場合、定盤保持部３の昇降を容易に行うことができるので好ましい。

【0047】

傾け機構８は、定盤保持部３の外周部に取り付けられた内側方向に収納可能な少なくとも１つの傾け板７と、傾け板７の下方に配置された少なくとも１つのストッパー６を有すものとすることができる。例えば、ストッパー６は、ローラー付きストッパーを用いることができる。

【0048】

水平な状態で定盤２を保持した定盤保持部３（図３）を昇降機構５で下降させた時、ストッパー６が傾け板７の背面に接触することで下降を妨げる（図２）。これにより、定盤保持部３の傾け板７が配置されている部分が下降しないので、定盤保持部３を傾けることができる（図１）。このようして、傾け機構８で、定盤２を保持した定盤保持部３を斜めにすることができるので、定盤２を水平な状態で保持しているときと比べて定盤運搬台車１の幅を狭めることができる。

【0049】

一方、傾け板７を定盤保持部３の内側方向に収納した状態で、定盤２を保持した定盤保持部３を昇降機構５で降下させた場合は、傾き板７がストッパー６と接触しないので、定盤２を保持した定盤保持部３を水平な状態のままで降下させることができる。

【0050】

このような簡単な機構で定盤２を保持した定盤保持部３を傾けることができるので、コストを節約することができる。

【0051】

次に、図６を参照しながら、研磨装置１１に定盤２を取り付ける際の動作を説明する。
定盤２を保持した定盤保持部３を斜めに傾けた状態で運搬し、定盤２を取り付ける定盤受け１６の正面に定盤運搬台車１を停車させ、ホイールロックなどで固定する。

【0052】

定盤２を保持した定盤保持部３を、傾け機構で水平な状態になるように操作すると、定盤２は水平になりながら研磨装置１１の内部に定盤２が入り込んだ状態となる。
傾け板を定盤保持部３の内側に収納して、定盤保持部３で保持した定盤２を水平な状態のまま下降させて、定盤２を定盤受け１６の位置と同じか若干高い位置になるように調整する。

【0053】

定盤保持部３の、定盤２の落下防止機構のロックを解除し、定盤２を定盤保持部３から研磨装置１１側にスライド移動させる。定盤保持部３は、ローラーやフリーベアリングを有しているため、容易に定盤２をスライド移動することができる。また、定盤受け１６の真空吸着用の穴を利用してエアを供給することで、定盤２を浮上させることができるので、容易に定盤２をスライドさせることができる。この時、重量物である定盤２が滑りやすいように、定盤受け１６に水を供給してもよい。

【実施例】

【0054】

以下、本発明の実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【0055】

（実施例）
傾け機構を有する本発明の定盤運搬台車に、直径が８００ｍｍ、１２００ｍｍの定盤を定盤保持部に保持させ、傾け機構で、定盤を保持した定盤保持部を傾けた。このときの、定盤運搬台車の幅を測定した。該測定した定盤運搬台車の幅に２００ｍｍを加算して、運搬通路幅を算出した。それぞれの測定結果及び計算結果を表１及び表２に示した。なお、表１、表２には、後述する比較例の結果についても併せて示した。

【0056】

定盤の直径が８００ｍｍの場合、定盤を保持した定盤保持部を傾けた際の定盤運搬台車の幅は５００ｍｍであった。運搬通路の幅は、７００ｍｍと算出された。

【0057】

【表1】

【0058】

表２に示したように、定盤の直径が１２００ｍｍの場合、定盤を保持した定盤保持部を傾けた際の定盤運搬台車の幅は８００ｍｍであった。運搬通路の幅は、１０００ｍｍと算出された。

【0059】

【表2】

【0060】

（比較例）
傾け機構を有さない従来の定盤運搬台車に、実施例と同様の直径が８００ｍｍ、１２００ｍｍの定盤を搭載して、このときの定盤運搬台車の幅と、運搬通路の幅を求め表１、表２に示した。運搬通路の幅は、実施例と同様に、定盤運搬台車の幅に２００ｍｍを加算した値とした。

【0061】

表１に示したように、定盤の直径が８００ｍｍの場合、定盤を定盤保持部で保持した際の定盤運搬台車の幅は８００ｍｍであった。運搬通路の幅は、１０００ｍｍと算出された。

【0062】

表２に示したように、定盤の直径が１２００ｍｍの場合、定盤を定盤保持部で保持した際の定盤運搬台車の幅は１２００ｍｍであった。運搬通路の幅は、１４００ｍｍと算出された。

【0063】

以上のように、実施例では、定盤を保持した定盤保持部を傾けることができる傾け機構を有する本発明の定盤運搬台車を用いたので、８００ｍｍの定盤の場合、運搬通路の幅を比較例に比べて、３００ｍｍ省スペース化することができた。また、１２００ｍｍの定盤の場合、実施例では、運搬通路の幅と、研磨装置の間隔を比較例に比べて４００ｍｍ省スペース化することができた。

【0064】

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【符号の説明】

【0065】

１、１０１、１０１ａ…定盤運搬台車、 ２…定盤、 ３、１０３…定盤保持部、
４…支持台、 ５…昇降機構、 ６…ストッパー、 ７…傾け板、 ８…傾け機構、
９、１０９…定盤落下防止機構、 １０、１１０…ローラー、 １１…研磨装置、
１２…研磨布、 １３…研磨剤、 １４…研磨剤供給機構、 １５…研磨ヘッド、
１６…定盤受け、 １８…車輪。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】