特許第6195078号(P6195078)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6195078スルホン構造及びアミン構造を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物
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  • 特許6195078-スルホン構造及びアミン構造を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 図000035
  • 特許6195078-スルホン構造及びアミン構造を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 図000036
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