特許6202714薄膜トランジスタ素子の製造方法及び塗布型半導体層のパターニング方法

発明の名称　薄膜トランジスタ素子の製造方法及び塗布型半導体層のパターニング方法

出願人　日本放送協会　（識別番号 4352）

　　　　特許公開件数ランキング 158 位（217件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 124 位（224件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6202714

公報発行日　2017年9月27

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6202714

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