(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
ウエーハが粘着テープの表面に貼着されるとともに粘着テープの外周が環状のフレームに装着されたウエーハユニットを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハユニットのウエーハを切削する切削ブレードを備え切削部に切削水を供給しつつウエーハを切削する切削手段と、該チャックテーブルからウエーハユニットを搬送する搬送機構と、を具備する切削装置において、
該搬送機構は、該ウエーハユニットの環状のフレームを保持するフレーム保持手段と、該フレーム保持手段に保持されるウエーハユニットのウエーハに導電性の液体を供給しウエーハに帯電した静電気を導電性の液体を介して接地する静電気除去手段、を具備している、
ことを特徴とする切削装置。
【背景技術】
【0002】
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列された分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々のデバイスを製造している。また、サファイア基板や炭化珪素基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハも分割予定ラインに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
【0003】
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等の分割予定ラインに沿った切断は、通常、ダイサーと呼ばれている切削装置によって行われている。この切削装置は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを切削する切削ブレードを備えた切削手段とを具備し、ウエーハが粘着テープの表面に貼着されるとともに粘着テープの外周が環状のフレームに装着されたウエーハユニットをチャックテーブルに保持した状態で、切削ブレードによる切削部に切削水を供給しつつウエーハを切削する(例えば、特許文献1参照)。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
而して、ウエーハを切削ブレードによる切削部に切削水を供給しつつ切削すると、ウエーハに静電気が帯電する。このため、ウエーハを個々のデバイスに分割した後にチャックテーブルからウエーハユニットを搬送する際に、ウエーハに帯電した静電気がチャックテーブルに放電してデバイスを損傷させるという問題がある。
【0006】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、切削加工が終了したウエーハを損傷させることなくチャックテーブルから搬送することができる切削装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、ウエーハが粘着テープの表面に貼着されるとともに粘着テープの外周が環状のフレームに装着されたウエーハユニットを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハユニットのウエーハを切削する切削ブレードを備え切削部に切削水を供給しつつウエーハを切削する切削手段と、該チャックテーブルからウエーハユニットを搬送する搬送機構と、を具備する切削装置において、
該搬送機構は、該ウエーハユニットの環状のフレームを保持するフレーム保持手段と、該フレーム保持手段に保持されるウエーハユニットのウエーハに導電性の液体を供給しウエーハに帯電した静電気を導電性の液体を介して接地する静電気除去手段、を具備している、
ことを特徴とする切削装置が提供される。
【0008】
上記導電性の液体は、純水に二酸化炭素を混入した液体である。
【発明の効果】
【0009】
本発明による切削装置は、チャックテーブルからウエーハユニットを搬送する搬送機構は、ウエーハユニットの環状のフレームを保持するフレーム保持手段と、該フレーム保持手段に保持されるウエーハユニットのウエーハに導電性の液体を供給しウエーハに帯電した静電気を導電性の液体を介して接地する静電気除去手段を具備しているので、切削後のウエーハを含むウエーハユニットをチャックテーブルから搬送する際に静電気除去手段を作動してウエーハに導電性の液体を供給することにより、切削時にウエーハに帯電した静電気を除電する。従って、切削後のウエーハがチャックテーブルから離れる際に放電することはなく、ウエーハをチャックテーブルから搬出する際にウエーハに帯電した静電気がチャックテーブルに放電してデバイスを損傷させるという問題を解消することができる。
【発明を実施するための形態】
【0011】
以下、本発明に従って構成された加工装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して更に詳細に説明する。
【0012】
図1には、本発明に従って構成された切削装置の斜視図が示されている。
図示の実施形態における切削装置は、略直方体状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2内には、被加工物を保持する被加工物保持手段としてのチャックテーブル3が加工送り方向である矢印Xで示す方向(X軸方向)に移動可能に配設されている。チャックテーブル3は、チャックテーブル本体31と、該チャックテーブル本体31上に装着された吸着チャック32を具備しており、該吸着チャック32の表面である保持面に被加工物である例えば円板形状のウエーハを図示しない吸引手段によって吸引保持するようになっている。また、チャックテーブル3は、図示しない回転機構によって回動可能に構成されている。なお、チャックテーブル3には、被加工物として後述するウエーハを粘着テープを介して支持する環状の支持フレームを固定するためのクランプ33が配設されている。このように構成されたチャックテーブル3は、図示しない加工送り手段としての切削送り手段によって、矢印Xで示す加工送り方向に移動せしめられるようになっている。
【0013】
図示の実施形態における切削装置は、切削手段としてのスピンドルユニット4を具備している。スピンドルユニット4は、図示しない移動基台に装着され割り出し方向である矢印Yで示す方向(Y軸方向)および切り込み方向である矢印Zで示す方向(Z軸方向)に移動調整されるスピンドルハウジング41と、該スピンドルハウジング41に回転自在に支持され図示しない回転駆動機構によって回転駆動される回転スピンドル42と、該回転スピンドル42に装着された切削ブレード43とを具備している。また、スピンドルユニット4は、純水の如き切削水を供給するための切削水供給手段44も付設されている。
【0014】
図示の実施形態における切削装置は、上記チャックテーブル3を構成する吸着チャック32の表面である保持面に保持されたウエーハの表面を撮像し、上記切削ブレード43によって切削すべき領域を検出するための撮像手段5を具備している。この撮像手段5は顕微鏡やCCDカメラ等の光学手段からなっており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。また、切削装置は、撮像手段5によって撮像された画像等を表示する表示手段6を具備している。
【0015】
上記装置ハウジング2におけるカセット載置領域7aには、被加工物を収容するカセットを載置するカセット載置テーブル7が配設されている。このカセット載置テーブル7は、図示しない昇降手段によって上下方向に移動可能に構成されている。カセット載置テーブル7上には、後述するウエーハユニットを収容するカセット8が載置される。
【0016】
ここで、ウエーハユニットについて
図2を参照して説明する。
図2に示すウエーハユニット9は、ステンレス鋼等の金属材によって形成され中央部に開口911を備えた環状のフレーム91と、該環状のフレーム91の開口911を覆うように装着された透明のポリエチレンフィルム等の樹脂フィルムからなる粘着テープ92と、該粘着テープ92の表面92aに貼着された半導体ウエーハ93とからなっている。なお、半導体ウエーハ93は、図示の実施形態においてはシリコン等の半導体基板の表面に格子状に形成された複数の分割予定ライン931によって区画された複数の領域にデバイス932が形成されている。このように構成された半導体ウエーハ93は、裏面93bが粘着テープ92の表面92aに貼着されるとともに粘着テープ92の外周が環状のフレーム91に装着されることによって、粘着テープ92を介して環状のフレーム91に支持される。
【0017】
図1に戻って説明を続けると、図示の実施形態における切削装置は、カセット8に収容された加工前のウエーハユニット9を仮置き手段11に搬出するとともに加工後に仮置き手段11に搬送されたウエーハユニット9をカセット8に搬入する搬出・搬入手段12と、該搬出・搬入手段12によって仮置き手段11に搬出されたウエーハユニット9を上記チャックテーブル3上に搬送する第1の搬送機構13と、チャックテーブル3上において切削加工された半導体ウエーハを洗浄する洗浄手段14と、チャックテーブル3上において切削加工された半導体ウエーハを洗浄手段14へ搬送する第2の搬送機構15を具備している。
【0018】
上記第2の搬送機構15について、
図3を参照して説明する。
図示の実施形態における第2の搬送機構15は、作動アーム151と、該作動アーム151の一端に装着された移動ブロック152と、該移動ブロック152をY軸方向に移動せしめる移動手段16と、作動アーム151の他端部に装着され上記ウエーハユニット9の環状のフレーム91を保持するフレーム保持手段17を具備している。移動手段16は、Y軸方向に沿って平行に配設され上記移動ブロック152に設けられた被案内溝152a、152aが嵌合する一対の案内レール161、161と、該一対の案内レール161と161に沿って配設された雄ネジロッド162と、該雄ネジロッド162の一端に伝動連結されたパルスモータ163と、雄ネジロッド162の他端を回転可能に支持する軸受け164とからなっている。このように構成された移動手段16は、雄ネジロッド162が移動ブロック152に設けられた雌ネジ152bに螺合される。従って、移動手段16は、パルスモータ163を駆動して雄ネジロッド162を正転または逆転駆動することにより、作動アーム151に装着された移動ブロック152を一対の案内レール161、161に沿ってY軸方向に移動する。
【0019】
第2の搬送機構15を構成するフレーム保持手段17は、H型状の支持部材171と、該H型状の支持部材171の中央支持部171aの上面に配設されたバキューム分配器172と、H型状の支持部材171の両側支持部171b、171bに装着された4個の吸引パッド173、173、173、173を具備している。この4個の吸引パッド173、173、173、173は、それぞれ両側支持部171b、171bに上下方向に摺動可能に配設された支持ロッド174、174、174、174の下端に取付けられており、それぞれ両側支持部171b、171bの下面との間に配設されたコイルばね175、175、175、175によって下方に押圧すべく付勢されている。このようにしてH型状の支持部材171に装着されたこの4個の吸引パッド173、173、173、173は、フレキシブルパイプ176、176、176、176を介して上記バキューム分配器172に連通されている。なお、バキューム分配器172は、フレキシブルパイプ177を介して図示しない吸引手段に接続されており、吸引源と適宜連通するようになっている。
【0020】
以上のように構成されたフレーム保持手段17は、バキューム分配器172が上記作動アーム151の他端に配設された昇降手段18よって支持される。この昇降手段18は、例えばエアピストン等からなっている。
【0021】
図3に示す第2の搬送機構15は、上記フレーム保持手段17に保持されるウエーハユニット9の半導体ウエーハ93に導電性の液体を供給し半導体ウエーハ93に帯電した静電気を導電性の液体を介して接地する静電気除去手段19を具備している。静電気除去手段19は、上記フレーム保持手段17を構成するバキューム分配器172の外壁に装着された下方に向けて液体を噴出する液体供給ノズル191と、該液体供給ノズル191を導電性液体源192とを接続するフレキシブルパイプ193と、該フレキシブルパイプ193に配設された電磁開閉弁194とからなっている。なお、導電性液体源192には、純水に二酸化炭素を混入した液体が貯留されている。このように構成された静電気除去手段19は、電磁開閉弁194を開路することにより導電性液体源192の導電性の液体をフレキシブルパイプ193を介して液体供給ノズル191から噴出せしめる。また、図示の実施形態においては液体供給ノズル191がハーネス191aを介して接地されている。
【0022】
図示の実施形態における切削装置は以上のように構成されており、以下その作動について説明する。
カセット載置テーブル7上に載置されたカセット8の所定位置に収容されているウエーハユニット9は、図示しない昇降手段によってカセット載置テーブル7が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、搬出・搬入手段12が進退作動して搬出位置に位置付けられたウエーハユニット9を仮置きテーブル11上に搬出する。仮置きテーブル11に搬出されたウエーハユニット9は、第1の搬送機構13の旋回動作によって上記チャックテーブル3上に搬送される。
【0023】
チャックテーブル3上にウエーハユニット9が載置されたならば、図示しない吸引手段が作動してウエーハユニット9の半導体ウエーハ93を粘着テープ92を介してチャックテーブル3上に吸引保持する。また、ウエーハユニット9の環状のフレーム91は、上記クランプ33によって固定される。このようにしてウエーハユニット9を保持したチャックテーブル3は、撮像手段5の直下まで移動せしめられる。チャックテーブル3が撮像手段5の直下に位置付けられると、撮像手段5および図示しない制御手段によってウエーハユニット9の半導体ウエーハ93の切削加工すべき加工領域を検出するアライメント作業を実行する。即ち、撮像手段5および図示しない制御手段は、半導体ウエーハ93の所定方向に形成されている分割予定ライン931と切削ブレード43との位置合わせを行うためのパターンマッチング等の画像処理を実行し、切削加工すべき加工領域のアライメントを遂行する(アライメント工程)。また、半導体ウエーハ93に上記所定方向と直交する方向に形成された分割予定ライン931に対しても、同様に切削加工すべき加工領域のアライメントが遂行される。
【0024】
上述したアライメント工程を実施したならば、チャックテーブル3を切削ブレード43の下方である切削加工領域に移動し、切削ブレード43を所定方向に回転せしめるとともに、矢印Zで示す方向に所定量切り込み送りし、切削ブレード43の最下端が粘着テープ92に達する位置に位置付ける。そして、ウエーハユニット9の半導体ウエーハ93を吸引保持したチャックテーブル3を加工送り方向である矢印Xで示す方向に所定の切削送り速度で移動する。この結果、チャックテーブル3上に保持された半導体ウエーハ93は、切削ブレード43により所定の分割予定ライン931に沿って切断される(切削工程)。この切削工程を実施する際には、切削水供給手段44から切削水が切削ブレード43による切削部に向けて噴射される。
【0025】
以上のようにして、ウエーハユニット9の半導体ウエーハ93を所定の分割予定ライン931に沿って切断したら、スピンドルユニット4を
図1において矢印Yで示す方向に分割予定ライン931の間隔だけ割り出し送りし、上記切削工程を実施する。そして、半導体ウエーハ93の所定方向に延在する分割予定ライン931の全てに沿って切削工程を実施したならば、チャックテーブル3を90度回転させて、半導体ウエーハ93の所定方向と直交する方向に延在する分割予定ライン931に沿って切削工程を実行することにより、半導体ウエーハ93に格子状に形成された全ての分割予定ライン931が切削されて個々のデバイスに分割される。なお、分割された個々のデバイスは、粘着テープ92の作用によってバラバラにはならず、環状のフレーム91に粘着テープ92を介して支持されたウエーハの状態が維持されている。また、上記切削ブレード43による切削により半導体ウエーハ93には静電気が帯電する。
【0026】
上述したように半導体ウエーハ93の分割予定ライン931に沿って切削工程が終了したら、半導体ウエーハ93を保持したチャックテーブル3は最初に半導体ウエーハ93を吸引保持した位置に戻される。そして、半導体ウエーハ93の吸引保持を解除するとともに、クランプ33による環状のフレーム91の固定を解除する。そして、第2の搬送機構15の移動手段16を作動して、
図4−1の(a)に示すようにフレーム保持手段17をチャックテーブル3に保持されたウエーハユニット9の直上に位置付け、静電気除去手段19を作動して液体供給ノズル191からウエーハユニット9の半導体ウエーハ93に向けて純水に二酸化炭素を混入した導電性の液体を噴出する。
【0027】
次に、液体供給ノズル191から純水に二酸化炭素を混入した導電性の液体を噴出しつつ第2の搬送機構15の昇降手段18を作動して
図4−1の(b)に示すようにフレーム保持手段17に配設された吸引パッド173、173、173、173をウエーハユニット9の環状のフレーム91の上面に接触させる。そして、図示しない吸引手段を作動して吸引パッド173、173、173、173によって環状のフレーム91を吸引保持する。
【0028】
このようにして、吸引パッド173、173、173、173によってウエーハユニット9の環状のフレーム91を吸引保持したならは、
図4−2の(c)に示すように液体供給ノズル191から純水に二酸化炭素を混入した導電性の液体を噴出した状態で昇降手段18を作動してフレーム保持手段17を上昇せしめる(静電気除去工程)。この結果、ウエーハユニット9が上昇しチャックテーブル3上に粘着テープ92を介して載置されている半導体ウエーハ93がチャックテーブル3から離れる。このとき、半導体ウエーハ93には上述したように液体供給ノズル191から純水に二酸化炭素を混入した導電性の液体が供給され、半導体ウエーハ93に帯電した静電気が除電されているので、チャックテーブル3から離れる際に放電することはない。従って、ウエーハをチャックテーブルから搬出する際にウエーハに帯電した静電気がチャックテーブルに放電してデバイスを損傷させるという問題を解消することができる。
【0029】
図4−2の(c)に示すようにフレーム保持手段17を上昇させてウエーハユニット9を上昇することにより、半導体ウエーハ93をチャックテーブル3から離間したならば、
図4−2の(d)に示すように静電気除去手段19の作動を停止して液体供給ノズル191からの導電性の液体の噴出を停止する。そして、第2の搬送機構15の移動手段16を作動して、フレーム保持手段17の吸引パッド173、173、173、173に保持されているウエーハユニット9を洗浄手段14に搬送する。洗浄手段14に搬送されたウエーハユニット9の半導体ウエーハ93は、ここで洗浄および乾燥される。このようにして洗浄および乾燥されたウエーハユニット9の半導体ウエーハ93は、乾燥後に第1の搬送手段13によって仮置きテーブル11に搬送される。そして、ウエーハユニット9は、搬出・搬入手段12によってカセット8の所定位置に収納される。